JP2020199668A - メタルマスク、及びその製造方法 - Google Patents
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 140
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 140
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 31
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 50
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 39
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 19
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 9
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 5
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims description 5
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 abstract description 33
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 abstract description 13
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000002508 contact lithography Methods 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 235000006508 Nelumbo nucifera Nutrition 0.000 description 1
- 240000002853 Nelumbo nucifera Species 0.000 description 1
- 235000006510 Nelumbo pentapetala Nutrition 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
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Abstract
Description
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のメタルマスクであって、前記第二金属層が、前記開口の側壁を被覆している、ことを特徴とする。
請求項3に記載の発明は、請求項1または2いずれか一項に記載のメタルマスクであり、前記第二金属層の厚さが1〜10μmである、ことを特徴とする。
請求項4に記載の発明は、金属平板からなる第一金属層の面内に、エッチング法またはレーザ加工法により印刷パターンに対応する開口を形成する工程と、硫酸ニッケルをベースとし、光沢剤が添加されためっき浴中にエマルションを形成する工程と、前記めっき浴による電解ニッケルめっき法により、前記第一金属層の片面と前記開口の側壁に、均等な厚さからなる第二金属層を形成し、マスク母体を作製する工程と、を含むことを特徴とする、メタルマスクの製造方法である。
請求項5に記載の発明は、硫酸ニッケルをベースとし、光沢剤が添加されためっき浴中にエマルションを形成する工程と、前記めっき浴による電解ニッケルめっき法により、金属平板からなる第一金属層の片面に、均等な厚さからなる第二金属層を形成し、マスク母体を作製する工程と、前記マスク母体の前記第二金属層側から、エッチング法またはレーザ加工法により、印刷パターンに対応する開口を形成する工程と、を含むことを特徴とする、メタルマスクの製造方法である。
本工程では、予めバフ研磨により整面されたSUS304製の金属平板からなる第一金属層21を素材とし、その面内に、レーザ加工法により印刷パターンに対応する開口3を形成する。このとき、レーザの熱により、酸化被膜や金属溶融物が発生し、開口3の側壁やエッジに付着するので、後工程で開口3の側壁に第二金属層を有効に形成するために、これを化学研磨法や電解研磨法といった後処理により除去をする。
エマルションとは、微小な液滴(エマルション粒子)が水溶液中に分散して懸濁している溶液の事である。本実施の形態では、5〜100μmの有機物エマルション粒子を、硫酸ニッケル水溶液をベースとし、界面活性剤とめっき用の光沢剤(応力緩和剤)が添加されためっき浴に所定の濃度で添加し、エマルション粒子が分散する温度(曇天温度)以上であり、50〜54℃の範囲に温度を保つことで、エマルションを形成・維持している。ここで、有機エマルションの添加濃度は、ベースとなる硫酸ニッケル水溶液の濃度や、後述する電解ニッケルめっきの電流密度に応じて適当な値に調整する。また、光沢剤の添加量は、仮にエマルション形成をせずに電解ニッケルめっきをした場合に、第二金属層22の表面が光沢を有する程度に十分に添加する。
工程2でエマルションを形成しためっき浴を使用した電解ニッケルめっきにより、工程1で開口3を形成した第一金属層21の片面と開口3の側壁に、1〜10μmの均等な厚さのニッケル皮膜よりなる第二金属層22を形成しマスク母体2を作製する。
まず、メタルマスク1を、ポリエステルのメッシュを介してスクリーン枠に、第二金属層22がはんだ印刷時に基板と接触する側を向くように張設し、メタルマスク印刷版を完成させる。
印刷機に、メタルマスク印刷版とスキージを取り付け、ステージに基板を設置する。ここで、メタルマスクは、その印刷面(第二金属層22の、反第一金属層21側)が、被印刷物である基板に対向する向きで取り付ける。
スキージを滑動させ、はんだをスキージ面でローリングさせながら開口3に充填をする。
印刷機のステージを所定の版離れ速度で降下させ、基板の版離れをさせる。本実施の形態では、基板と印刷面の密着力が、比較的弱いため、スムーズに版離れが行われる。また、印刷面が適度な粗さを有するため、はんだの滲みが少ない。また、印刷面が液体をはじき易いため、滲んだはんだのふき取り性も良好である。
2 マスク母体
21 第一金属層
22 第二金属層
3 開口
Claims (5)
- 平板状の第一金属層と、
前記第一金属層の片側の面に一体的に積層された第二金属層と、を備え、
前記第一金属層と前記第二金属層は、面内に印刷パターンに対応した開口が形成され、
前記第二金属層はニッケルを主成分とし、
前記第二金属層の反第一金属層側は、その表面粗さRaの平均値が0.3μm以上であり、表面エネルギー30mN/mの液体が液滴を形成する、
ことを特徴とする、メタルマスク。 - 前記第二金属層が、前記開口の側壁を被覆している、
ことを特徴とする、請求項1に記載のメタルマスク。 - 前記第二金属層の厚さが1〜10μmである、
ことを特徴とする、請求項1または2いずれか一項に記載のメタルマスク。 - 金属平板からなる第一金属層の面内に、エッチング法またはレーザ加工法により印刷パターンに対応する開口を形成する工程と、
硫酸ニッケルをベースとし、光沢剤が添加されためっき浴中にエマルションを形成する工程と、
前記めっき浴による電解ニッケルめっき法により、前記第一金属層の片面と前記開口の側壁に、1〜5A/dm2の電流密度で、均等な厚さからなる第二金属層を形成し、マスク母体を作製する工程と、
を含むことを特徴とする、メタルマスクの製造方法。 - 硫酸ニッケルをベースとし、光沢剤が添加されためっき浴中にエマルションを形成する工程と、
前記めっき浴による電解ニッケルめっき法により、金属平板からなる第一金属層の片面に、1〜5A/dm2の電流密度で、均等な厚さからなる第二金属層を形成し、マスク母体を作製する工程と、
前記マスク母体の前記第二金属層側から、エッチング法またはレーザ加工法により、印刷パターンに対応する開口を形成する工程と、
を含むことを特徴とする、メタルマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2019107163A JP6894141B2 (ja) | 2019-06-07 | 2019-06-07 | メタルマスク、及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2019107163A JP6894141B2 (ja) | 2019-06-07 | 2019-06-07 | メタルマスク、及びその製造方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2020199668A true JP2020199668A (ja) | 2020-12-17 |
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Country Status (1)
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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