JPS60214409A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS60214409A JPS60214409A JP7117684A JP7117684A JPS60214409A JP S60214409 A JPS60214409 A JP S60214409A JP 7117684 A JP7117684 A JP 7117684A JP 7117684 A JP7117684 A JP 7117684A JP S60214409 A JPS60214409 A JP S60214409A
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- Japan
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- magnetic
- thin film
- magnetic pole
- film
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は薄膜磁気ヘッドの磁性薄膜パターンの形成方法
に関する。
に関する。
従来、薄膜磁気ヘッドを構成する磁性薄膜としてはＮ１
とＦｅ を主成分とするパーマロイ系が用いられていた
が、パーマロイ系磁性膜よりも飽和磁化が大きく、高周
波での透磁率が大きいｃｏ系アモルファス磁性薄ＪＩ！
ｌ′？：用いることによって高速高密度記碌が行いやす
くなる。
とＦｅ を主成分とするパーマロイ系が用いられていた
が、パーマロイ系磁性膜よりも飽和磁化が大きく、高周
波での透磁率が大きいｃｏ系アモルファス磁性薄ＪＩ！
ｌ′？：用いることによって高速高密度記碌が行いやす
くなる。
ＣＯ系アモルファスの中には、王水のように強いエツチ
ング液でしかエツチングされないものかあシ、薄膜磁気
ヘッドを構成する他の膜をそこねてしまうので、化学的
にＣＯ系アモルファス金エツチングすることは実用上難
かしい場合がある。
ング液でしかエツチングされないものかあシ、薄膜磁気
ヘッドを構成する他の膜をそこねてしまうので、化学的
にＣＯ系アモルファス金エツチングすることは実用上難
かしい場合がある。
ＣＯ系アモルファスのパターンを形成する他の方法とし
てイオンミリングがあるが、装置が高価であり、また、
エツチング速度が遅いという問題がある。
てイオンミリングがあるが、装置が高価であり、また、
エツチング速度が遅いという問題がある。
本発明はこのような問題点を解決するもので、その目的
とするところは、リフトオフ法によって薄膜磁気ヘッド
の磁性薄膜パターンを形成することにある。
とするところは、リフトオフ法によって薄膜磁気ヘッド
の磁性薄膜パターンを形成することにある。
軟磁性薄膜から成る磁極、絶縁膜および導体薄膜などを
積層して成る薄膜磁気ヘッドの磁極を形成する場合にお
いて、磁極となる部分以外を有機物あるいは無機物で覆
った後、前記磁極となる軟磁性薄膜を付着させ、その後
、前記有機物あるいは無機物を除去することによって磁
極となる部分以外の軟磁性薄膜を除去して磁極を形成す
ることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
積層して成る薄膜磁気ヘッドの磁極を形成する場合にお
いて、磁極となる部分以外を有機物あるいは無機物で覆
った後、前記磁極となる軟磁性薄膜を付着させ、その後
、前記有機物あるいは無機物を除去することによって磁
極となる部分以外の軟磁性薄膜を除去して磁極を形成す
ることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
以下、本発明について実施例に基づき詳細に説明する。
第１図（ａ）は基板１−１上にレジスト１−２でパター
ンを形成したものであり、必要となる磁性薄膜のパター
ン部分１−５だけレジスト１−２ｔ−除去したものであ
る。レジスト１−２のかわりに、Ｓｉｎ、などの無機物
、Ｍなどの金属、ポリイミド−などの有機物、あるいは
それらの積層膜を用いて良い。
ンを形成したものであり、必要となる磁性薄膜のパター
ン部分１−５だけレジスト１−２ｔ−除去したものであ
る。レジスト１−２のかわりに、Ｓｉｎ、などの無機物
、Ｍなどの金属、ポリイミド−などの有機物、あるいは
それらの積層膜を用いて良い。
続いて、第１図（１））に示すように薄膜磁気ヘッドの
磁極となるｃｏ系磁性合金薄ｇ １−４ ’（（スパッ
タ法などで付着させる。
磁極となるｃｏ系磁性合金薄ｇ １−４ ’（（スパッ
タ法などで付着させる。
続いて、第１図（Ｑ）に示すように、レジスト１−２を
剥離するために、レジスＩｆ剥離するための液体あるい
はガス１，５中にさらす。このとき、レジス）１−剥離
する液体、あるいはガスは、Ｏｏ系磁性合金薄膜１−４
の段差被膜部１−６の段差被膜性の悪い部分からレジス
ト層１−２にしみ込んでレジスト１−２を剥離すること
となる。
剥離するために、レジスＩｆ剥離するための液体あるい
はガス１，５中にさらす。このとき、レジス）１−剥離
する液体、あるいはガスは、Ｏｏ系磁性合金薄膜１−４
の段差被膜部１−６の段差被膜性の悪い部分からレジス
ト層１−２にしみ込んでレジスト１−２を剥離すること
となる。
レジスト１−２’ｉ剥離することによって、第１図（ｄ
）に示すように必要な形状ＯＣＯ系磁性合金薄膜１−７
が残る。
）に示すように必要な形状ＯＣＯ系磁性合金薄膜１−７
が残る。
なお、本発明は、ＣＯ系磁性合金薄膜に限らずパーマロ
イ系あるいはセンダスト系の磁性薄膜パターンの形成に
応用できる。また、従来の薄膜磁気ヘッドに限らず、垂
直磁気記碌用の薄膜磁気ヘッドの磁極の形成にも応用で
きる。
イ系あるいはセンダスト系の磁性薄膜パターンの形成に
応用できる。また、従来の薄膜磁気ヘッドに限らず、垂
直磁気記碌用の薄膜磁気ヘッドの磁極の形成にも応用で
きる。
以上述べたように、本発明によれば、化学的にエツチン
グできない磁性薄膜のパターン形成を、高価な装置を用
いることなく簡便な方法で行なうことができるとともに
、レジスト１−２、あるいはレジスト層のかわりに用い
る無機物、金属、有機物の層あるいはそれらの積層膜の
段差形状を制御することによって、第２０図に示すよう
に、必要とする磁性薄膜２−１の段差部２−２に傾斜を
つけることができる。薄膜磁気ヘッドにおいては、電流
を流す導体薄膜２−３が絶縁膜２−４を介して磁性薄膜
２−１の上に配置されるが、磁性薄膜２−１の段差部２
−２が急峻であると、導体薄膜２−５が段差部２−５で
非常に薄くなったり、あるいは断線してしまう。従って
、磁性薄膜２−１の段差部２−２に傾斜をつけることが
必要となる。
グできない磁性薄膜のパターン形成を、高価な装置を用
いることなく簡便な方法で行なうことができるとともに
、レジスト１−２、あるいはレジスト層のかわりに用い
る無機物、金属、有機物の層あるいはそれらの積層膜の
段差形状を制御することによって、第２０図に示すよう
に、必要とする磁性薄膜２−１の段差部２−２に傾斜を
つけることができる。薄膜磁気ヘッドにおいては、電流
を流す導体薄膜２−３が絶縁膜２−４を介して磁性薄膜
２−１の上に配置されるが、磁性薄膜２−１の段差部２
−２が急峻であると、導体薄膜２−５が段差部２−５で
非常に薄くなったり、あるいは断線してしまう。従って
、磁性薄膜２−１の段差部２−２に傾斜をつけることが
必要となる。
この点においても、本発明によれば必要となる磁性薄膜
２−１の段差部２−２［傾斜をつけることができるとい
う効果を有する。
２−１の段差部２−２［傾斜をつけることができるとい
う効果を有する。
８１図（ａ）〜（ｄ、）は本発明を説明する断面図であ
り第２図は薄膜磁気ヘッドの一部の断面図である。 １−１・・・基板 １−２・・・レジスト １−５・・・磁極パターン部 １−４・・・磁性薄膜 １−５・・・剥離液 １−６・・・段差被膜部 １−７・・・磁性薄膜 ２−１・・・磁性薄膜 ２−２・・・磁極段差部 ２−３・・・導体薄膜 ２−４・・・絶縁膜 ２−５・・・導体薄膜段差部 以 上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士最上 務
り第２図は薄膜磁気ヘッドの一部の断面図である。 １−１・・・基板 １−２・・・レジスト １−５・・・磁極パターン部 １−４・・・磁性薄膜 １−５・・・剥離液 １−６・・・段差被膜部 １−７・・・磁性薄膜 ２−１・・・磁性薄膜 ２−２・・・磁極段差部 ２−３・・・導体薄膜 ２−４・・・絶縁膜 ２−５・・・導体薄膜段差部 以 上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士最上 務
Claims (1)
- 軟磁性薄膜から成る磁極、絶縁膜および導体薄膜力どを
積層して成る薄膜磁気ヘッドの磁極を形成する場合にお
いて、磁極となる部分以外を有機物゛あるいは無機物で
覆った後、前記磁極となる軟磁性薄膜を付着させ、その
後、前記有機物あるいは無機物を除去することによって
磁極となる部分以外の軟磁性薄膜を除去して磁極を形成
することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7117684A JPS60214409A (ja) | 1984-04-10 | 1984-04-10 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7117684A JPS60214409A (ja) | 1984-04-10 | 1984-04-10 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60214409A true JPS60214409A (ja) | 1985-10-26 |
Family
ID=13453089
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7117684A Pending JPS60214409A (ja) | 1984-04-10 | 1984-04-10 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60214409A (ja) |
-
1984
- 1984-04-10 JP JP7117684A patent/JPS60214409A/ja active Pending
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