JPS60211098A - ニツケルめつき線の製造方法 - Google Patents
ニツケルめつき線の製造方法Info
- Publication number
- JPS60211098A JPS60211098A JP6717484A JP6717484A JPS60211098A JP S60211098 A JPS60211098 A JP S60211098A JP 6717484 A JP6717484 A JP 6717484A JP 6717484 A JP6717484 A JP 6717484A JP S60211098 A JPS60211098 A JP S60211098A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nickel
- plated wire
- wire
- bath
- hardness
- Prior art date
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- Granted
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
゛〔０発明の背景の目的〕
本発明はニッケルめっき線、特にダイオードリード用ニ
ッケルめっき線の製造方法に関する。
ッケルめっき線の製造方法に関する。
ニッケルめっき線、特にダイオードリードに用いられる
ニッケルめっき線を製造するには従来ワット浴がめつき
浴として用いられている。しかしながら、ワット浴を用
いて製造されるニッケルめっき線は無光沢であるので、
めっきを施した後に、ダイス引抜き加工により光沢化を
行う必要があった。さらに、ニッケルめっき線の中でも
ダイオードに用いられる線についてはヘッダー加工に供
するために、焼純後５〜１０％程度の加工度によりダイ
ス引抜き加工を行い、めっき線の硬さを調節する必要が
あった。
ニッケルめっき線を製造するには従来ワット浴がめつき
浴として用いられている。しかしながら、ワット浴を用
いて製造されるニッケルめっき線は無光沢であるので、
めっきを施した後に、ダイス引抜き加工により光沢化を
行う必要があった。さらに、ニッケルめっき線の中でも
ダイオードに用いられる線についてはヘッダー加工に供
するために、焼純後５〜１０％程度の加工度によりダイ
ス引抜き加工を行い、めっき線の硬さを調節する必要が
あった。
しかしながら、ニッケルめっき線のダイス引抜き加工は
、ニッケルが硬質のためにダイスの寿命が短かく、ダイ
コスト、ダイス交換の手間等コストに与えるデメリット
が大きかった。
、ニッケルが硬質のためにダイスの寿命が短かく、ダイ
コスト、ダイス交換の手間等コストに与えるデメリット
が大きかった。
本発明の目的は前記した如き従来技術の欠点を解消し、
ニッケルめっき後にダイス引抜き加工を要することなく
、適正な硬度を有し且つ光沢ある外観を有するニッケル
めっき線の新規な製造方法を提供することにある。
ニッケルめっき後にダイス引抜き加工を要することなく
、適正な硬度を有し且つ光沢ある外観を有するニッケル
めっき線の新規な製造方法を提供することにある。
本発明は、ニッケルめっきすべき素材にダイス加工を施
こして所定の硬度を与えた後に、ワット浴の硫酸ニッケ
ル濃度を１５０〜２３０ｇ／ｌとしたニッケルめっき浴
によってニッケルめっきを施こすことを特徴とするニッ
ケルめっき線の製造方法である。
こして所定の硬度を与えた後に、ワット浴の硫酸ニッケ
ル濃度を１５０〜２３０ｇ／ｌとしたニッケルめっき浴
によってニッケルめっきを施こすことを特徴とするニッ
ケルめっき線の製造方法である。
従来のワット浴及び低濃度ワット浴として第１表に示す
ような組成が知られている。
ような組成が知られている。
本発明者らは、このようなワット浴の組成中の硫酸ニッ
ケル（ＮｉＳ０４・７Ｈ，０）を１５０〜２３０ｇ／４
１に管理することにより、光沢のあるニッケルめっき線
が得られることを見出した。また、この方法によって得
られたニッケルめっき線は良好なヘッダー加工性を有し
てお如、特にダイオード用のニッケルめっき線とし適し
ている。
ケル（ＮｉＳ０４・７Ｈ，０）を１５０〜２３０ｇ／４
１に管理することにより、光沢のあるニッケルめっき線
が得られることを見出した。また、この方法によって得
られたニッケルめっき線は良好なヘッダー加工性を有し
てお如、特にダイオード用のニッケルめっき線とし適し
ている。
本発明で用いられるニッケルめっき用素材としては銅線
、銅合金線等が用いられ、ニッケルめっき浴組成として
は、硫酸ニッケル（Ｎｉ８０４・？Ｈ，０）が１５０〜
２３０ ｇ／私基塩化ニッケルンｉｃｅ、・６Ｈ，０）
が２０〜７０ｇ／卑はう酸（ａ３ｎｏｓ）がｌＯ〜ｓｏ
ｇ／ｊＬ、ｐＨ３〜６の水溶液が用いられ、ニッケルめ
っきは、温度４０〜６０℃、電流密度５〜２０Ａ／ｄｍ
２の条件で行われる。本発明では、ワット浴の硫酸ニッ
ケル濃度を上記の如き範囲としたことに特長を有し、こ
のような浴組成のニッケルめっき浴はこれ°まで知られ
ておらず、このような浴組成のニッケルめっき浴を用い
ることにより、光沢があり、ダイオードに供する前のヘ
ッダー加工性の良いニッケルめっき線を得ることができ
る。
、銅合金線等が用いられ、ニッケルめっき浴組成として
は、硫酸ニッケル（Ｎｉ８０４・？Ｈ，０）が１５０〜
２３０ ｇ／私基塩化ニッケルンｉｃｅ、・６Ｈ，０）
が２０〜７０ｇ／卑はう酸（ａ３ｎｏｓ）がｌＯ〜ｓｏ
ｇ／ｊＬ、ｐＨ３〜６の水溶液が用いられ、ニッケルめ
っきは、温度４０〜６０℃、電流密度５〜２０Ａ／ｄｍ
２の条件で行われる。本発明では、ワット浴の硫酸ニッ
ケル濃度を上記の如き範囲としたことに特長を有し、こ
のような浴組成のニッケルめっき浴はこれ°まで知られ
ておらず、このような浴組成のニッケルめっき浴を用い
ることにより、光沢があり、ダイオードに供する前のヘ
ッダー加工性の良いニッケルめっき線を得ることができ
る。
第１図は本発明方法を実施するに用いられる装置の一例
を示す説明図であって、ダイス引抜きとニッケルめっき
を１ラインによシ行っている。図示するように、焼純さ
れた銅線等の被めっき材１を硬度調節用ダイス２により
所定の硬度に引抜き加工し、本発明のニッケルめっき浴
３にて電解めっきを施し、表面光沢を有するニッケルめ
っき線としてＩビン４に巻き取られる。なお、ダイス引
抜きとニッケルめっきを２ラインに分けて別々な工程で
行ってもよい。
を示す説明図であって、ダイス引抜きとニッケルめっき
を１ラインによシ行っている。図示するように、焼純さ
れた銅線等の被めっき材１を硬度調節用ダイス２により
所定の硬度に引抜き加工し、本発明のニッケルめっき浴
３にて電解めっきを施し、表面光沢を有するニッケルめ
っき線としてＩビン４に巻き取られる。なお、ダイス引
抜きとニッケルめっきを２ラインに分けて別々な工程で
行ってもよい。
直径０．８ｍの銅ＩＩｉ！を断面減少率約１０％となる
ようにダイスにより引抜き加工し、次いで塩化ニッケに
４５ｇ／ｉｔ、はう酸３０ ｇ／ＩＩＴ柚ｋ ノ譲Ｗｆ
）（ＩＩＩＣｔＲニッケルよりなるニッケルめっき浴を
用い、ＰＨ４，５゜温度５５℃、及び電流密度１５Ａ／
ｄｍでニッケルめっきを行ってニッケルめっき線を得た
。これらのニッケルめっき線の光沢、及びダイオードに
供される前のヘッダー加′工性について調べ、結果を第
２表に示した。
ようにダイスにより引抜き加工し、次いで塩化ニッケに
４５ｇ／ｉｔ、はう酸３０ ｇ／ＩＩＴ柚ｋ ノ譲Ｗｆ
）（ＩＩＩＣｔＲニッケルよりなるニッケルめっき浴を
用い、ＰＨ４，５゜温度５５℃、及び電流密度１５Ａ／
ｄｍでニッケルめっきを行ってニッケルめっき線を得た
。これらのニッケルめっき線の光沢、及びダイオードに
供される前のヘッダー加′工性について調べ、結果を第
２表に示した。
第 ２ 表
上記の結果から、光沢及びヘッダー加工性から、本発明
による硫酸ニッケル濃度が１５０〜２００ ｇ／Ｉｔが
良く、特に１７０〜２００ ｇ／Ｒが最も良いことがわ
かる。
による硫酸ニッケル濃度が１５０〜２００ ｇ／Ｉｔが
良く、特に１７０〜２００ ｇ／Ｒが最も良いことがわ
かる。
本発明によるときは、光沢の有るニッケルめっき線が得
られるので、ニッケルめっキ後ノダイス加工が不要とな
り、ダイス加工をニッケルめっきが施される前に行うこ
とができるから、ダイスの摩耗を少くシ、寿命を長くす
ることができ、ダイスコスト及びダイス交換の手間が低
減される。筐た、本発明により得られるニッケルめっき
線はヘッダー加工性が良いので、ダイオード用のニッケ
ルめっき線として適している。
られるので、ニッケルめっキ後ノダイス加工が不要とな
り、ダイス加工をニッケルめっきが施される前に行うこ
とができるから、ダイスの摩耗を少くシ、寿命を長くす
ることができ、ダイスコスト及びダイス交換の手間が低
減される。筐た、本発明により得られるニッケルめっき
線はヘッダー加工性が良いので、ダイオード用のニッケ
ルめっき線として適している。
第１図は本発明方法を実施するのに用いられる装置の一
例を示す説明図である。
例を示す説明図である。
Claims (1)
- （１） ニッケルめっきすべき素材にダイス加工を施し
て所定の硬度を与えた後に、ワット浴の硫酸ニッケル濃
度を１５０〜２３０ ｇ／Ｉ！、とじたニッケルめっき
浴によってニッケルめっきを施こすことを特徴とするニ
ッケルめっき線の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6717484A JPS60211098A (ja) | 1984-04-03 | 1984-04-03 | ニツケルめつき線の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6717484A JPS60211098A (ja) | 1984-04-03 | 1984-04-03 | ニツケルめつき線の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60211098A true JPS60211098A (ja) | 1985-10-23 |
| JPS6252038B2 JPS6252038B2 (ja) | 1987-11-02 |
Family
ID=13337262
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6717484A Granted JPS60211098A (ja) | 1984-04-03 | 1984-04-03 | ニツケルめつき線の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60211098A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62235357A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-15 | Teijin Chem Ltd | ポリカ−ボネ−ト成形品 |
| US10147518B2 (en) * | 2014-02-26 | 2018-12-04 | Autonetworks Technologies, Ltd. | Stranded wire conductor and insulated wire |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0342438U (ja) * | 1989-09-05 | 1991-04-22 |
-
1984
- 1984-04-03 JP JP6717484A patent/JPS60211098A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62235357A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-15 | Teijin Chem Ltd | ポリカ−ボネ−ト成形品 |
| US10147518B2 (en) * | 2014-02-26 | 2018-12-04 | Autonetworks Technologies, Ltd. | Stranded wire conductor and insulated wire |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6252038B2 (ja) | 1987-11-02 |
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