JPS60209678A - 真空ポンプ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 真空ポンプは、特に湿気及び（又は）酸素と反応する反
応性のガスの供給若しくは吸出しのために用いられる。

このような反応に際しては固形の物質が生じて、このよ
うな物質は真空ポンプの排出範囲に堆積し、排出範囲の
流過横断面を次第に小さくして最終的には詰らせてしま
うことになる。さらに固形の物質は機械的な作用に基づ
き真空ポンプの寿命を著しく縮める。

前述の反応はさらに液状若しくはガス状の物質を生せし
め、このような物質は真空ポンプの材料に腐食作用を生
ぜしめ、あるいは液体シール式の真空ポンプにおいては
シール液体の特性をそこなう。例えば塩化チタンは湿気
と一緒に腐食作用を生ぜしめる塩酸及び固形の酸化チタ
ンを形成する。固形の残滓を形成する別の例はＳ　ｉＨ
，と酸素との反応によってＳｉＯ□を形成することにあ
る。５ｉＨ２Ｃ１２が存在していると、水との反応が生
じ、これによって塩酸及び固形の酸化珪素が発生する。

発明が解決しようとする問題点 本発明の課題は、前述の欠点を生ぜしめないような真空
ポンプを構成することにある。

問題点を解決するための手段 前記課題を解決するために本発明の手段では、真空ポン
プの出口の後方に、サイホン式に構成され水蒸気若しく
は酸素の流入を防止する遮断装置が配置されている。

発明の効果 このような遮断装置を備えた真空ポンプは湿気若しくは
酸素に対して完全に保護されている。従って固形の堆積
物若しくは腐食性の物質を形成するような不都合な反応
はもはや真空ポンプの範囲では生じない。真空ボンダに
よって送り出された反応性のガス若しくは蒸気は真空ボ
ンダから本発明に基づく遮断装置に流れ、そこに存在す
る遮断液体を通過し、この遮断液体が真空ポンプ内への
湿気若しくは酸素の侵入を防止する゛。従って反応性の
ガス若しくは蒸気と湿気若しくは酸素との間の反応区域
が真空ポンプの範囲から外部の簡単な構成部分に移され
る。

この外部の構成部分は例えば耐腐食性の部材から成って
いる。湿気若しくは酸素との反応に際して固形物質を形
成しかつ本発明に基づ（遮断装置なしでは真空ボンダの
出口をふさいでしまうことになる物質は、本発明に基づ
く遮断装置のケーシングに堆積する。本発明に基づく遮
断装置の閉塞までの容量は少な（とも係数２０だけ太き
（なる。このような外部の遮断装置の定期的な監視によ
って閉塞は問題な（避けられる本発明に基づ（遮断装置
の重要な利点は、真空ポンプが低い吸込み圧力ひいては
小さなガス流で作動若しくは停止している場合にも湿気
若しくは酸素に対して保護されていることにある。この
ような状態では本発明に基づ（遮断装置なしにはポンプ
内への湿気若しくは酸素の逆拡散が生じ、これは特に真
空ポンプに水若しくは水溶液で満された装置を接続し、
これによって環境保護のために反応性のガス若しくは蒸
気を捕収する場合に著しい。

排出導管内に弁若しくはフラップを設けて真空ボンダを
湿気若しくは酸素の侵入から保護することも考えられる
。しかしながらこのような解決手段においては送り出さ
れるガスと湿気若しくは酸素との間の危険な反応区域が
フラップにそこなわれる。このような弁の非開放に際１
〜では真空ポンプの内部に、破壊的な損傷をもたらす不
都合に高い圧力が生じる。

自由な開口で遮断液体内に突入する浸漬管が、真空ボン
ダのための安全な遮断装置である。

ガス流過量の小さい場合、排出ガスは気泡の形で遮断液
体を通過する。ガス流過量の大きい場合、遮断液体があ
わたてられかつ（又は）遮断液体の水滴がガス流によっ
て連行されるようなおそれは発生しない。このようなあ
わだち若しくは水滴の連行を避けるために遮断装置は十
分に太き（構成されていてよい。有利には、浸漬管が遮
断液体内につかる端部な曲げられており、浸漬管の開口
が遮断液体水面の上側に位置しており、浸漬管の遮断液
体水面下側に位置する管区分が切欠き若しくは孔を有し
ている。有利には管区分の壁の上側に位置する切欠き若
しくは孔を通って遮断液体が浸漬管内に流入して、所望
のシール作用を生せしめる。ガス流過量の大きい場合、
浸漬管内に存在する遮断液体は押出される。このような
運転段階では液体による浸漬管の遮断は不必要である。

それというのは浸漬管内の高いガス速度に基づき有害な
蒸気の浸漬管内への逆流が確実に避けられているからで
ある。

さらに有利には、浸漬管の遮断液体水面下に位置する管
区分が直線的にかつガス流の方向及び水平面に関連して
かるく下方に傾斜するように延びでいる。このような構
造においては浸漬管の内側に存在する液体水面が常に、
浸漬管を通過するガスの流出にとって必要な数の切欠き
若しくは孔しか開放しない。これによって、液体の望ま
しくない運動、ひいては不都合な乱流が避けられる。

実施例 第１図には入口２及び出口３を備えた真空ポンプ１が概
略的に示しである。出口３ｊＣは遮断装置４が接続され
ており、遮断装置の入口は符号５でかつ出口は符号６で
示しである。遮断装置４内には遮断液体７が存在してい
る。遮断液体７内には入口５と接続された浸漬管８が突
入している。流入するガスは遮断液体７を通過し、出口
６を通って遮断装置４を離れる。遮断液体７によって湿
気若しくは酸素が遮断装置４の出口６から入口５に逆流
することはない。適当な遮断液体は鉱油、技術的なホワ
イト油、ベルフルオル化ポリエーテル、シリコン拙著し
くは、水と混合されない、水に解けない若しくは水を吸
収しない若しくは非吸湿性の一般的な液体である。真空
ボン７″１は乾式回転する若しくは液体シールされた真
空ポンプであってよい。シール液体としては種々の油、
エーテル若しくはエステルが用いられる。

第１図に示した実施例においては遮断装置４に、環境保
護のために反応性のガス若しくは蒸気を捕収する装置が
接続されている。真空ポンプ１の排出ガスは適当な特性
を備えた液体１１を通して導かれる。このための適当な
液体は、水若しくは、捕収しようとするガスを結合する
材料の水溶液である。

第２図は遮断装置４の実施例を示している。

遮断装置は上側のケーシング部分１２及び下側のケーシ
ング部分１３を有している。上側のケーシング部分１２
に入口５及び出口６が取付けられている。入口５は浸漬
’ｔ　８の内部に接続している。浸漬管は上側のケーシ
ング部分に取外し可能に固定されている。下側のケーシ
ング部分１３内には遮断液体７があり、この遮断液体内
に浸漬管８が突入している。遮断液体水準１４をコント
ロールするために硯き窓１５が設けられている。遮断液
体・排出ねじメ、Ｚ符号１６で示しである。下側のケー
シング部分１３と浸漬管８とによって形成されたリング
室が出口６に接続している。

第６図から第５図には浸漬管８の実施例が示されており
、この場合浸漬管８は曲げられており、その開口１１が
遮断液体γの液面の上側に位置している。浸漬管内への
遮断液体の流入を可能にするために、切欠き若しくは孔
１８が設けられており、切欠き若しくは孔は有利には液
体につかる管区分の上側の周壁に配置されている。浸漬
管８の液面下に位置する部分が有利には直線的な区分１
９を有しでおり、この区分の上側の管壁部分が孔１８を
備えている。区分１９は矢印２１で示すガスの流れ方向
及び水平面２２に関連してかるく下方に傾斜するように
構成されでいる。これによって常に孔１８のガス流の強
さに相応する部分だけが開放される。

第６図から第５図は異なる運転状態を示している。第６
図はポンプの停止状態を示している。

浸漬管８は液体で満され、浸漬管８ひいては真空ポンプ
が確実に閉鎖されている。第４図はガス流過量のわずか
な状態を示している。ガスは孔１８のガス流の強さに相
応する部分を通って流れる。真空ポンプは逆流に対して
保護されている。第５図はガス流の大きい状態を示して
いる。浸漬管８内には遮断液体は存在していない。遮断
液体のあわだち若しくは液体水滴の連行は避けられてい
る。大きいガス流に基づき区分１９内に生じる圧力が孔
１８を介した遮断液体の流入を阻止している。必安な場
合には開口１７の範囲に配置される絞りを用いて前記圧
力に影響を及ぼすことができ、浸漬管８内の圧力が高め
られる。この運転状態でも真空ポンプは逆流に対して保
護されている。それというのは浸漬管８内の高いガス速
度に基づき有害な蒸気の逆流が確実に避シナもれている
からである。ガス流過量が再び減少せしめられると、低
下した速度に応じ′Ｃｇ体が自動的に孔１８を通って浸
漬管８内に流入して遮断機能を生せしめる。

第３図から第５図の実施例においてはガス流過量の多い
場合ガス流過量はもはや遮断液体を通して搬出される必
要がないので、遮断液体のあわだちももはや生じない。

さらに装置を比較的小さく構成することもできる。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の実施例を示すものであって、第１図は真
空ポンプの概略図、第２図は第１図の真空ポンプの遮断
装置の側面図、第３図は遮断装置の浸漬管の別の実施例
を運転停止状態で示す断面図、第４図は第６図の実施例
をガス流過量のわずかな状態で示す断面図、第５図は第
６図の実施例をガス流過量の大ぎい状態で示すＦｒ面図
である。 １・・・真空ポンプ、２・・・入口、３・・・出口、４
・・・遮断装置、５・・・入口、６・・・出口、１・・
遮断液体、８・・・浸漬管、１１・・・液体、１２及び
１３・・・ケーシング部分、１４・・・遮断液体水準、
１５・・硯き窓、１６・・・遮断液体・排出ねじ、１７
・・・開口・１８°°°１Ｌ・１９−ＩＫ’０・２１°
°゛６′　版ム２　べｊ二ノ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　入口及び出口を有する真空ポンプにおいて、出口
   の後方に、サイホンの形式に構成され水蒸気若しくは酸
   素の流入を防止する遮断装置（４）が配置されているこ
   とを特徴とする真空ポンプ。 ２、遮断装置（４）が部分的に遮断液体（γ）で満され
   たケーシング及びこのケーシング内に配置された浸漬管
   （８）を有している特許請求の範囲第１項記載の真空ポ
   ンプ。 ６、　ケーシングが２部構成になっていて、入口接続部
   及び出口接続部を備えた上側り）ケーシング部分（１２
   ）並びに遮断液体（７）を受容した下側のケーシング部
   分（１３）を有している特許請求の範囲第２項記載の真
   空ポンプ０゜ ４、　浸漬管（８）が取外し可能に上＋ｌ！Ｉのケーシ
   ング部分（１２）に固定、されている特許請求の範囲第
   ６項記載の真空ポンプ。 ５、遮断装置（４）の後方に反応性のガス若しくは蒸気
   を捕収するための装置（９）が配置されている特許請求
   の範囲第１項から第４項までのいずれか１項記載の真空
   ポンプ。 ６　浸漬管（８）が遮断液体（７）内につかる端部を曲
   げられており、浸漬管の開口（１７）が遮断液体水面の
   上側に位置しており、浸漬管の遮断液体水面下側に位置
   する管区分が切欠きを有している特許請求の範囲第１項
   から第５項までのいずれか１項記載の真空ポンプ。 ７　切欠きが遮断液体水面下に位置する管区分の上側の
   部分に配置されている特許請求の範囲第６項記載の真空
   ポンプ。 ８、浸漬Ｗ（８）の遮断液体水面下に位置する管区分が
   直線的に、かつガス流の方向及び水平面に関連してかる
   （下方に傾斜するように延びている特許請求の範囲第６
   項又は第７項記載の真空ポンプ。