JPS60209260A - ギ酸塩の製造法 - Google Patents

ギ酸塩の製造法

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JPS60209260A
JPS60209260A JP60004834A JP483485A JPS60209260A JP S60209260 A JPS60209260 A JP S60209260A JP 60004834 A JP60004834 A JP 60004834A JP 483485 A JP483485 A JP 483485A JP S60209260 A JPS60209260 A JP S60209260A
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    • C07C51/41Preparation of salts of carboxylic acids

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、第三級窒素原子を有する窒素塩基のギ酸塩の
製造に関する。
トリアルキルアンモニウムホルマートは、トリメチレン
グリコールのモノアルキルエステルの製造(ソヴイエト
連邦共和国特許第495.300号明細書)、し・戸−
ルポリオールからのポリウレタンの製造(米国特許第4
.293.658号明細書)およびその他各種応用にお
いて触媒としてカルボニル化合物の還元〔カタオカシン
ジ、タバタマサヨシ、タカタヨシュキの北海道大学工学
部研究、1972年、(第63号)、145−51頁(
日本)〕に用いられてきた。
特公昭53−46820号明細書には、第■族遷移金属
とアルカリ金属およびアルカリ土類金属を含む塩基性材
料との低結合価および/または水素化物錯体の触媒とし
ての存在で、式ROH(式中、Rは水素または炭化水素
基である)の化合物を二酸化炭素および水素と反応させ
ることによるギ酸およびそのエステルの製造が記載され
ている。上記明細書によれば、溶媒として水を用いると
、生成物はギ酸となり、溶媒としてアルカノールを用い
れば、生成物はギ酸のエステルとなる。
特公昭第5!l−46816号明細書には、無機塩基の
代りに脂肪族第三級゛アミンである有機塩基を用いるこ
とを除いて特公昭第53−46820号明細書に記載し
たのと同様な反応によるギ酸およびそのエステルの製造
が記載されている。
特公昭53−46818号明細書には、アルカリ金属炭
酸塩を二酸化炭素および水素と反応させることによるア
ルカリ金属ギ酸塩の製造が記載されている。
最後に、本出願人等の欧州特許出願第86302845
.9号明細書には、第■族遷移金属の化合物の存在で第
三級窒素原子を有する窒素塩基を二酸化炭素および水素
と反応させることによるギ酸のトリアルキルアンモニウ
ム塩の製造が記載されている。
本出願人等は、 1、 ロジウムの無機または有機金属化合物、および 2、 有機リン化合物 から成る化合物を触媒として用いて、アルコール性また
は水性アルコール媒質中で窒素塩基の存在で二酸化炭素
と水素とを反応させることKより、第三級窒素原子を含
む窒素塩基のギ酸塩を製造することが出来ることを見い
出した。
本文に記載のロジウム/有機リン触媒は、上記出願第8
3 302845.9号明細書に記載の触媒に較べへ2
つの主な利点を有する。第一に、ロジウム/有機リン触
媒は、対応するロジウム触媒よりも低温で反応を行ない
、第二に、ロジウム/有機リン触媒は対応する温度でト
リアルキルアンモニウムギ酸塩の生産性をも増加させる
従って、本発明は、溶媒および有効量の触媒の存在で水
素および二酸化炭素を第三級窒素原子を有する窒素塩基
と反応させることから成り、触媒はロジウムの無機また
は有機金属化合物と有機リン化合物とから成ることを特
徴とする、第三級窒素原子を有する窒素塩基ので酸塩の
製造法を提供する。
二酸化炭素は、工業的規模で広範囲に利用することが出
来る二酸化炭素自体でも、または炭酸塩または重炭酸塩
あるいはそれらの混合物でもよい。
二酸化炭素は、気体として、液体としてまたは固体とし
て使用されるが、気体として使用するのが好ましい。二
酸化炭素源として二酸化炭素ガスを用いる場合、二酸化
炭素と水素の分圧が実際に使用出来しかも経済的である
ものを用いるのが好ましい。水素の分圧が増加すると、
ギ酸塩の反応速度と収率が増加するので、高い水素分圧
を用いるのが望ましい。二酸化炭素の分圧はそれほど決
定的なものではないが、二酸化炭素分圧は60バール以
下であり、水素分圧は250パール以下が好適である。
二酸化炭素と水素中の少着の不純物は許容出来る。
二酸化炭素の分圧が10から50バールであり、水素の
分圧が10から150バールであるのが好適である。水
素の分圧の二酸化炭素の分圧に対する比率は、好ましく
は少なくとも1;1であり、更に好ましくは少なくとも
1.5:1である。
第三級窒素原子を有する窒素塩基は、好ましくは式 または式 N (式中 R1、R2およびR3は同じまたは異なり、ヒ
rロカルピル基または置換ヒドロカルビル基であるか 
R1%R2およびR3のいずれか2個または総てが環の
一部を形成してもよ<、R4はヒPロカルビル基または
置換ヒrロカルビル基であり、R5は二価の有機基であ
るか、またはR4およびR5が環の一部を形成してもよ
い)を有する。ヒドロカル♂ル基は、脂肪族、脂環式、
アリールまたはアルカリール基であるのが好ましい。置
換ヒドロカルビル基は、例えば窒素または酸素を含有し
てもよい。第三級窒素原子を有する窒素塩基は、好まし
くはトリアルキルアミンであり、更に好ましくは低級ト
リアルキルアミン、例えば1から10個の炭素原子を有
するトリアルキルアミンである。
好適なトリアルキルアミンの例には、トリメチルアミン
、トリエチルアミン、トリゾロビルアミンおよびトリブ
チルアミンがある。その他の使用し得る窒素塩基の例に
は、例えば1.8−ジアゾビシクロC5,4,0)ウン
デカ−7−エン(DBtT)および1.4−ジアゾビシ
クロ(2,2,2]オクタン(DABCO) 、ピリジ
ンおよびピコリンがある。所望ならば窒素塩基の混合物
を使用してもよい謝三級窒素原子を有する窒素塩基は、
総反応混合物に対して1から50モルチの範囲の濃度を
生じる量を加えるのが好ましい。
本方法によって製造されるギ酸塩は、ギ酸陰イオンとプ
ロトン化によって窒素塩基から導かれる陽イオンとから
成っている。例えば用いられる窒素塩基がトリエチルア
ミンである場合如は、生成するギ酸塩はトリエチルアン
モニウムホルマートである。
溶媒としては、1種以上のアルコールまた111種以上
のアルコールと水との混合物との混合物を用いることが
出来る。好適なアルコールにを11メタノール、エタノ
ール、ゾロパノール、ブタノール、グリコールおよびポ
リオールがある。本出願人等は、第二級アルコール/水
混合物を用(罵ると、実質的にギ酸塩のみから成る生成
物を得ることカミ出来、また他のアルコールおよびアル
コール/水混合物な用いると、ギ酸塩の他にギ酸エステ
ルも生成することを見い出した。第二級アルコール/水
混合物の中でもイソノロパノール/水混合物を用いるこ
とにより、反応速度と収率につ(1て有fitにするこ
とが出来る。それ故、イソゾロノぐノールと水との混合
物を溶媒として用いるのが好ましくS0イソプロパツー
ルは、好ましくはイソゾロ79ノール/水混合物の20
から80モル係、更に好ましくは30から70モルチで
ある。
第二級アルコールに加えてまたは第二級アルコール以外
のものとして、グリコールを用(・るのカミ好適である
。好ましいグリコールには、エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエ
チレングリコール、ソロぎレンゲリコールなどがある。
触媒の金属成分に関しては、如何なる由来のロジウムを
用いることも可能である。ロジウム(家、開始溶液に可
溶または不溶な如何なる好都合な形状でも添加してよい
。従って、ロジウムは、ノ10rン化物、硝酸塩、硫酸
塩またはアセチルアセトナートのような単純塩の形で、
あるいは有機金属ロジウム錯体の形で若しくは金属とし
て添加することが出来る、触媒濃度は、50から4.0
00重量百方分率の範囲が好適であり、200から1.
000重量百万分率が好ましい。
有機リン成分に関しては、成る範囲の化合物を用いるこ
とが出来る。式 %式% (式中、nは1から10であり R1からR7はそれぞ
れ1から20個の炭素原子を有するヒげロカルビル基で
ある)のホスフィンが好適に用いられる。更に R1か
らR7のいずれか2個は、−緒にリンに結合した有機環
状系を形成することも出来る。ヒドロカルビル基は、置
換または未置換脂肪族基、脂環式基または未置換若しく
は置換芳香族基でよい。式I11を有する好適な化合物
の例は、トリーn−ブチルホスフィン、トリフェニルホ
スフィンおよびトリシクロヘキシルホスフィンである。
式(■)の例は、1.2−ジフェニルホスフィノエタン
、(CaHs)gP−(CH2)2P(CaHs)2で
あり、式(璽)の例はCH2O(P(C6H5)2)3
である。
有機リン化合物の好ましい例は、トリフェニルホスフィ
ンおよびトリーn−ブチルホスフィンである。
触媒の2成分のいくつかまたは総ては、単一化合物、例
えばロジウムのホスフィン錯体として添加することが出
来ることは当業者に理解されるであろう。かかる化合物
の例にはトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウムク
ロリド RhCI(P(C6H5)3 )3がある。
ロジウム成分に対する有機リン成分の好ましい比率は3
:1である。
工程は、15から200℃の範囲の温度で、好ましくは
60から120℃の温度で好適に操作される。
工程は、バッチ式または連続的に行なうことが出来る。
本発明によって製造されるギ酸塩は、次いで、例えば蒸
留によって反応混合物から分離してもよい、次いで、回
収されたギ酸塩を、例えば欧州特許出願第126524
A明細′書に記載の方法によって、ギ酸へ転換すること
が出来る。
次に、本発明を下記の例によって説明する。これらの例
において、反応の速度は、=rm塩の生成速度(モル/
時間)を反応溶液の重量(kg )で除したものを表わ
す。ギ酸塩への転換率は、次の方程式 によって計算した。
例14および16は本発明の一部分を構成するものでは
ないが、比較のために記載した。
例 1 回転攪拌器を備えた300ゴの容量のステンレス鋼製オ
ートクレーブに、101.5.!9のイソゾロパノール
、19.5.!i’の水、0.15211の三塩化ロジ
ウム、0.456fiのトリフェニルホスフィンおよび
28.2 gのトリエチルアミンを充填した。オートク
レーブを閉じて、二酸化炭素を導いて27バールの定常
圧とした。次に、オートクレーブを40℃に加熱して、
水素を導いて初期全圧を80バールとした。反応時間が
終ったら、オートクレーブを室温忙冷却して、過剰圧を
放出した。次に、液状反応生成物の試料を採取して、5
モル塩化水素酸で加水分解し、気−液クロマトグラフイ
によってギ酸を分析した。反応速度は1.4モル/に9
7時でアリ、トリエチルアンモニウムホルマートへの転
換率は81チであった。
例 2 本例では、ロジウム成分と有機リン成分を単一ロジウム
−ホスフィン化合物として添加し得ることを示す。
オートクレーブに101.7.9のイソゾロパノール、
19.1の水、0.575 gのトリス(トリフェニル
ホスフィン)ロジウム+I+塩化物(RhCl(P(C
sHa )s )3)および28.2 gのトリエチル
アミンを充填すること以外は、例1の方法を繰り返した
。この例では、反応速度およびトリエチルアンモニウム
ホルマートへの転換率は、それぞれ4.2モル/ kg
 /時および70%であった。
例 6 本例では、トリーn−ブチルホスフィンが好適な有機リ
ン成分である:ことを示す。
オートクレーブに、101.5.9のイソゾロパノール
、19.!Mの水、0.152.9の三塩化ロジウム、
0.553 Fのトリーn−ブチルホスフィンおよび2
8.2 gのトリエチルアミンを充填すること以外は、
例1の方法を繰り返した。この例では、反応の速度およ
びトリエチルアンモニウムホルマートへの転換率は、そ
れぞれ0.6モル/に9/時および71チであった。
例4−9 これらの例では、本発明を実施するのにトリエチルアミ
ン以外のアミンを用い得ることを示す。
例1の方法を繰り返して、オートクレーブに101.5
gのイソプロパツール、19.5.li’の水、0.1
52.9の三塩化ロジウム、0.456 #のトリフェ
ニルホスフィンおよび適量のアミン(第1表)を充填し
た。各側について、反応速度および適当なホルマートへ
の転換率を第1表に示す。
第1表 時=時間 kg=キログラム DABCO−1、4−ジアゾビシクロ(2、2、2)オ
クタン、 DBN=1.5−ジアゾビシクロ[4、3,0:]]ノ
ナー5−エン DBU=1.8−ジアゾビシクロ(5、4、0:]ウン
デカ−7−エン。
例10−12 これらの例では、成る範囲のイソゾロパノール/水混合
物を用い得ることを示す。
例1の方法を繰り返して、オートクレーブ101.5.
!il’のイソプロパツール、28.2 #のトリエチ
ルアミンおよび第2表に記載した量の三塩化ロジウム、
トリフェニルホスフィンおよび水を充填した。各側につ
いての反応速度および適当なギ酸塩への転換率を第2表
に示す。
例13 反応温度を40℃ではなく80℃とすることを除いて、
例1の方法を繰り返した。反応速度およびトリエチルア
ンモニウムホルマートへの転換率は、それぞれ4.3モ
ル/に9/時および39%であった。
例14 本例では、本出願人等の欧州特許出願筒8330294
5.9号明細書に記載の未促進ルテニウム触媒は、本文
記載の触媒よりも低い生産性を有することを示す。
オートクレーブに′% 101.6gのイソゾロパノー
ル、19.5gの水、28.3.9のトリフェニルホス
フインオよび0.137.9 ノ[Ru(C!0)2C
72)nを充填することを除いて、例1の方法を繰り返
した。
反応速度およびトリエチルアンモニウムホルマートへの
転換率は、それぞれ0.151モル/kli/時および
78チであった。
例15 本例では、混合アルコールおよび水から成る溶媒系を用
い得ることを示す。
100−の容量のステンレス鋼製オートクレーブに、6
4.2.9のイソゾロパノール、6.5gの水、0.2
14gトリス()IJフェニルホスフィン)ロジウム(
I)塩化物、9.71のトリエチルアミンおよび8.9
gのテトラエチレングリコール(0(C)12CH2−
OCHgC!HaOH)2]を充填した。オートクレー
ブを閉じて、二酸化炭素を導入して27パールの定常圧
どした。水素を導入して、開始時全圧を80バールとし
、反応容器を80’OK加熱した。0.5時間後にオー
トクレーブを冷却し、過剰圧を放出したところ、本例で
は反応速度およびトリエチルアンモニウムホルマートへ
の転換率は、それぞれ5.5そル/ユ/時および63チ
であった。
例16 本例は本発明の一部分を構成するものではなく、有機リ
ン成分の不在でロジウムを用いても反応は起らないこと
を示す。
回転攪拌器を備えた600Wtl!の容量のステンレス
鋼製オートクレーブに、ioi、s、yのイソゾロパノ
ール、19.7.9の水、28.2 #のトリエチルア
ミンおよび0.152#の三塩化ロジウムを充填した。
オートクレーブを閉じて、二酸化炭素を通じて27バー
ルの定常圧とした。次に1オートクレーブを40°Cに
加熱して、水素を通じて開始時全圧を80バールとした
。1.5時間後にオートクレーブを室温に冷却し、過剰
の圧力を放出した。
次いで、液状反応生成物の試料を採取して、5モル塩化
水素酸で処理した。気−液クロマトグラフイでは、ギ酸
は検出されなかった。
代理人 浅 村 皓 手続補正書(睦) 昭和60年e月−ρ日 特許庁長官殿 1、事件の表示 昭和60年特許願第4864 号 − 2、発明の名称 ギ酸塩の製造法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 4、代理人 8、補正の内容 別紙のとおり 明細書の浄書(内容に変更なし)

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)第三級窒素原子を有する窒素塩基のギ酸塩の製造
    法において、溶媒と有効量の触媒の存在で水素と二酸化
    炭素な第三級窒素原子を有する窒素塩素と反応させて成
    り、触媒がロジウムの無機または有機金属化合物と有機
    リン化合物とから成ることを特徴とする方法。
  2. (2)第三級窒素原子を有する窒素塩素が低級トリアル
    キルアミンであることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の方法。
  3. (3)低級トリアルキルアミンがトリメチルアミン、ト
    リエチルアミン、トリーn−プロピルアミンおよび) 
    IJ −11−ブチルアミンから成る群から選択される
    ことを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の方法。
  4. (4)溶媒が1種以上のアルコールと水との混合物であ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。
  5. (5)アルコールが第二級アルコールまたはグリコール
    であることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の方
    法。
  6. (6)有機リン化合物がホスフィンであることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の方法。
  7. (7) ホスフィンがトリフェニルホスフィンあるいは
    トリーn−ブチルホスフィンであることを特徴とする特
    許請求の範囲第6項記載の方法。
  8. (8)第三級窒素原子を有する窒素塩基のギ酸塩を反応
    混合物から分離することを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の方法。
  9. (9)特許請求の範囲第1項記載の方法によって製造さ
    れる第三級窒素原子を有する窒素塩基のギ酸塩から製造
    することを特徴とするイ酸◎
JP60004834A 1984-01-14 1985-01-14 ギ酸塩の製造法 Granted JPS60209260A (ja)

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