JPS6020139A - X線分析装置 - Google Patents
X線分析装置Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はX線源と曲率を有するモノクロメータ−用結
晶とX線検出器とを具えたX線分Ur装置、ならびにか
かるX線分析装置に使用するモノクロメータ−用結晶の
製作方法に関するものである。
晶とX線検出器とを具えたX線分Ur装置、ならびにか
かるX線分析装置に使用するモノクロメータ−用結晶の
製作方法に関するものである。
X線螢光分光法には2種の形の放射モノクロメータ−手
法が使用されている。第1の方法はたとえば真直ぐな入
射ならひに出射スリ・y l・と組合って対数的な曲率
を有するモノクロメータ−結晶を使って、試料から放射
される多色の波長から単1の波長を選択するものである
。この種の装置は米国特許第3.439.163号に記
述されている。この装置は相応な解像度と高い放射効率
を有しているが、特殊な異なった波長すなわち他の元素
には使用できないし、測定信号のノイズは比較的に高く
、従って放射スリットは比較的幅広くあらねばならない
。第2の手法は単一波長ではないX線ビームすなわち波
長のより広く広がった放射を用いる。たとえば、いわゆ
るソーラー(Softer)スリットを具えたコリメー
タと組合った平坦な結晶が通常用いられる。この時解像
度は比較的低いが、放射効率は比較的高い。かかる装置
の解像度は米国特許第:3. fi:I9.759 号
に開示されているごとく縦続に接続された数個のモノク
ロメータ−によって強められる。しかしながらこの事は
放射効率をぎせいにして解像度を上昇させるので、この
装置を他の波長に適用する時には能力に制限がともなう
。
法が使用されている。第1の方法はたとえば真直ぐな入
射ならひに出射スリ・y l・と組合って対数的な曲率
を有するモノクロメータ−結晶を使って、試料から放射
される多色の波長から単1の波長を選択するものである
。この種の装置は米国特許第3.439.163号に記
述されている。この装置は相応な解像度と高い放射効率
を有しているが、特殊な異なった波長すなわち他の元素
には使用できないし、測定信号のノイズは比較的に高く
、従って放射スリットは比較的幅広くあらねばならない
。第2の手法は単一波長ではないX線ビームすなわち波
長のより広く広がった放射を用いる。たとえば、いわゆ
るソーラー(Softer)スリットを具えたコリメー
タと組合った平坦な結晶が通常用いられる。この時解像
度は比較的低いが、放射効率は比較的高い。かかる装置
の解像度は米国特許第:3. fi:I9.759 号
に開示されているごとく縦続に接続された数個のモノク
ロメータ−によって強められる。しかしながらこの事は
放射効率をぎせいにして解像度を上昇させるので、この
装置を他の波長に適用する時には能力に制限がともなう
。
ソーラースリットと組合う対数的に曲った結晶または平
坦な結晶を使用する代りに、その反射結晶格子面が、同
じ半径の曲率で円筒状に曲っている円筒状の曲率を有す
る単結晶で特徴づけられるヨハン(、J o b a
11 n )によるモノクロメータ−を使用するか、ま
たは結晶は円筒状の曲率を有するが、焦点効果を上げる
ため境界面は結晶格子面のへこんだ箇所におかれそのた
め結晶格子面のく平均)曲率半径はその領域での結晶境
界面の曲率半径の倍あるヨハンソン(、Johanss
on)によるモノクロメータ−を使用する。ヨハンのモ
ノクロメータ−と比較してより高い解像度が得られ、よ
り狭いスリットが使用でき、信号測定時にS / N
i:Lがよくなる。
坦な結晶を使用する代りに、その反射結晶格子面が、同
じ半径の曲率で円筒状に曲っている円筒状の曲率を有す
る単結晶で特徴づけられるヨハン(、J o b a
11 n )によるモノクロメータ−を使用するか、ま
たは結晶は円筒状の曲率を有するが、焦点効果を上げる
ため境界面は結晶格子面のへこんだ箇所におかれそのた
め結晶格子面のく平均)曲率半径はその領域での結晶境
界面の曲率半径の倍あるヨハンソン(、Johanss
on)によるモノクロメータ−を使用する。ヨハンのモ
ノクロメータ−と比較してより高い解像度が得られ、よ
り狭いスリットが使用でき、信号測定時にS / N
i:Lがよくなる。
ヨハンソン結晶を使用した装置では、入射スリットと結
晶の位置が正確に移動すれば波長走査が実行できる。し
かしながら入射スリットはモノクロメータ−用結晶の円
筒軸に垂直に延在する放射の場合のみモノクロメータ−
を介して出射スリット上に正確に焦点を結ぶ。それ故、
焦点誤差による不都合をさけるため比較的短いスリット
と比較的幅の狭い結晶を用いる必要がある。
晶の位置が正確に移動すれば波長走査が実行できる。し
かしながら入射スリットはモノクロメータ−用結晶の円
筒軸に垂直に延在する放射の場合のみモノクロメータ−
を介して出射スリット上に正確に焦点を結ぶ。それ故、
焦点誤差による不都合をさけるため比較的短いスリット
と比較的幅の狭い結晶を用いる必要がある。
その結晶格子面が2方向に曲率を有するモノクロメータ
−を具えたX線分析装置の1例は米国11j″許第2.
853.617号に開示されている。この目的のため、
結晶はその結晶格子面が2種の主要端面に”V−1iに
延在する単結晶から半径R1を有する円筒状の殻状部分
または平板として切り出される。このようにして得られ
た円筒状の殻は次に平坦になるよう変形され、かくて結
晶格子面が円筒状に曲っている平坦な結晶が形成される
。次にこの結晶はその円筒軸が結晶格子面の円筒軸と直
角であり、曲率4!−径R2−−R1sin2θ(θは
所望のブラッグ角)なる円筒形に変形される。この特許
明細書の第5図に示され−Cいるように面6−6の断面
でなんら点対点の像が生じない。このことは結晶境界面
がその断面部で平坦であることを意味し、ヨハンソンに
よる焦点ではそれが夫々の結晶格子面の曲率半径の半分
である曲率を有しておらねばならぬことを示している。
−を具えたX線分析装置の1例は米国11j″許第2.
853.617号に開示されている。この目的のため、
結晶はその結晶格子面が2種の主要端面に”V−1iに
延在する単結晶から半径R1を有する円筒状の殻状部分
または平板として切り出される。このようにして得られ
た円筒状の殻は次に平坦になるよう変形され、かくて結
晶格子面が円筒状に曲っている平坦な結晶が形成される
。次にこの結晶はその円筒軸が結晶格子面の円筒軸と直
角であり、曲率4!−径R2−−R1sin2θ(θは
所望のブラッグ角)なる円筒形に変形される。この特許
明細書の第5図に示され−Cいるように面6−6の断面
でなんら点対点の像が生じない。このことは結晶境界面
がその断面部で平坦であることを意味し、ヨハンソンに
よる焦点ではそれが夫々の結晶格子面の曲率半径の半分
である曲率を有しておらねばならぬことを示している。
ここに述べてきた手法は試料が比較的大きな放射場で放
射されねばならぬX線螢光測定には必らずしも適当では
ない。
射されねばならぬX線螢光測定には必らずしも適当では
ない。
本発明の目的は高い放射効率が高解像度の得られるスリ
ットからスリットへの写像と組合うX線分析装置を提供
することができる。この目的のために、ここに示される
X線分析装置は、当該モノクロメータ−用結晶が二重の
曲率を有する結晶格子面を具え、照射される結晶の境界
面は異なった主要方向に相互に異なった有意な量の面白
率を有することを特徴とするものである。
ットからスリットへの写像と組合うX線分析装置を提供
することができる。この目的のために、ここに示される
X線分析装置は、当該モノクロメータ−用結晶が二重の
曲率を有する結晶格子面を具え、照射される結晶の境界
面は異なった主要方向に相互に異なった有意な量の面白
率を有することを特徴とするものである。
このような結晶がモノクロメータ−用として使用される
時は、X線ビームはスリットの長手方向で比較的大きな
角度場でスリットからスリットの写像が形成でき、その
ため試料の比較的大きな表面積からの放射が効率的にと
り出せ、その結果高解像力のだめの高放射効率が達成で
きる。高り9躬効率で生ずる高解像度はX線用の曲率を
持った入射スリットと曲率を持った出射スリットとを備
えた装置で明らかに達成できる。上記スリットは好適に
は半径Rを有するローランド球の表面上の緯度における
それぞれの緯線、すなわち結晶境界面の中心で直立した
結晶境界面の垂線を横切る対応する面でローランド球を
切ることで作られる緯度の緯線に結果的にはなる。両ス
リットが同じ面に位置する時は、この面はローランド球
の表面に位置するモノクロメータ−の結晶の中心点から
距離21マ5in2θ、に位置している。ここでθは再
びセットされるブラッグ角を表わす。この手法を使用す
ればそのX線の収差は真直なスリ・ノドと組合ったヨハ
ンソン結晶の形式でのモノクロメータ−使用の時のすく
なくとも10分の1になるであろう。
時は、X線ビームはスリットの長手方向で比較的大きな
角度場でスリットからスリットの写像が形成でき、その
ため試料の比較的大きな表面積からの放射が効率的にと
り出せ、その結果高解像力のだめの高放射効率が達成で
きる。高り9躬効率で生ずる高解像度はX線用の曲率を
持った入射スリットと曲率を持った出射スリットとを備
えた装置で明らかに達成できる。上記スリットは好適に
は半径Rを有するローランド球の表面上の緯度における
それぞれの緯線、すなわち結晶境界面の中心で直立した
結晶境界面の垂線を横切る対応する面でローランド球を
切ることで作られる緯度の緯線に結果的にはなる。両ス
リットが同じ面に位置する時は、この面はローランド球
の表面に位置するモノクロメータ−の結晶の中心点から
距離21マ5in2θ、に位置している。ここでθは再
びセットされるブラッグ角を表わす。この手法を使用す
ればそのX線の収差は真直なスリ・ノドと組合ったヨハ
ンソン結晶の形式でのモノクロメータ−使用の時のすく
なくとも10分の1になるであろう。
好適には両スリットは同じ長さですくなくともモノクロ
メータ−結晶の関連する横幅とほぼ等しいことが望まし
い。
メータ−結晶の関連する横幅とほぼ等しいことが望まし
い。
好適な実施例では、その結晶格子面がすべての方向で曲
率2Rの半径を有する単結晶の境界面が第1の主要方向
に曲率半径2R,そしてそれと直角な主要方向に曲率半
径Rを有し、Rは装置のローランド球の曲率半径である
。それぞれの方向での面白率が円tIA状の面を形成す
るよう一方向から他の方向に次第に変化していく。円錐
面は1主要面の曲率はそれと直角な主要面の曲率とは異
なる光学的になめらかなレンズ状の面である。
率2Rの半径を有する単結晶の境界面が第1の主要方向
に曲率半径2R,そしてそれと直角な主要方向に曲率半
径Rを有し、Rは装置のローランド球の曲率半径である
。それぞれの方向での面白率が円tIA状の面を形成す
るよう一方向から他の方向に次第に変化していく。円錐
面は1主要面の曲率はそれと直角な主要面の曲率とは異
なる光学的になめらかなレンズ状の面である。
本発明に関わるモノクロメータ−用結晶を作るには、結
晶格子面の平行な一11′cの面(プレーナー面)に平
行な用結晶の境界面はたとえば2Rの曲率半径で凹面状
に円筒状のくぼみがつけられ、整形される結晶板は2R
の曲率半径を持った球状整形面を備えた整形用治具に固
定される。非一様な厚みの結晶板を変形させる際の欠点
はまず球状に整形する治具に平らな結晶板を置き、次に
結晶の自由境界面に円錐状にくぼみを作ることによって
さけることができる。結晶上でなされるくぼみを作る最
終の操作をなす際に生ずる欠点、すなわち望ましくない
歪が結晶に残る欠点は、両面が共軸円筒状境界面を有す
る、それ故一様な厚みの円筒状結晶板を単結晶から切り
出し、次にこの結晶板をRと2Rの曲率半径を有する円
錐状整形面を有する整形治具で変形させることによって
さけることができる。
晶格子面の平行な一11′cの面(プレーナー面)に平
行な用結晶の境界面はたとえば2Rの曲率半径で凹面状
に円筒状のくぼみがつけられ、整形される結晶板は2R
の曲率半径を持った球状整形面を備えた整形用治具に固
定される。非一様な厚みの結晶板を変形させる際の欠点
はまず球状に整形する治具に平らな結晶板を置き、次に
結晶の自由境界面に円錐状にくぼみを作ることによって
さけることができる。結晶上でなされるくぼみを作る最
終の操作をなす際に生ずる欠点、すなわち望ましくない
歪が結晶に残る欠点は、両面が共軸円筒状境界面を有す
る、それ故一様な厚みの円筒状結晶板を単結晶から切り
出し、次にこの結晶板をRと2Rの曲率半径を有する円
錐状整形面を有する整形治具で変形させることによって
さけることができる。
本発明に関わる好適な実施例を図面を参照し例を上げて
以下詳細に説明する。
以下詳細に説明する。
図は半径Rを有するローランド球の断面を示し、この断
面は図の面と一致し円周Cと中心Mがある。
面は図の面と一致し円周Cと中心Mがある。
その回折結晶格子面が(平均)曲率半径2Rの球であり
、さらにキャリア2に取付けられているモノクロメータ
ー用結晶1の放射境界面の第1の」巴要1]y「面は図
の面に一致している。結晶の中ノ已・点Oにおける円周
Cに切する方向は以下X方向とされる。結晶の上側の境
界面は作図されており、紙面上の曲中゛1(径はRであ
る。X方向と垂直な方向(ま以下Y方向というが、その
方向での結晶の上側の境界面のもう一方の主要断面は曲
率半径2Rを持ち、従ってそれはその方向でのローラン
ド球とは=一致しない。Z方向はX−Y面に垂直な方向
でZ軸は結晶の中心点0を通過する。モノクロメータ−
用結晶はかくてX−Z面についてはヨノ\ン゛ノン構成
、Y−Z面についてはヨ/’%ン構成となる。
、さらにキャリア2に取付けられているモノクロメータ
ー用結晶1の放射境界面の第1の」巴要1]y「面は図
の面に一致している。結晶の中ノ已・点Oにおける円周
Cに切する方向は以下X方向とされる。結晶の上側の境
界面は作図されており、紙面上の曲中゛1(径はRであ
る。X方向と垂直な方向(ま以下Y方向というが、その
方向での結晶の上側の境界面のもう一方の主要断面は曲
率半径2Rを持ち、従ってそれはその方向でのローラン
ド球とは=一致しない。Z方向はX−Y面に垂直な方向
でZ軸は結晶の中心点0を通過する。モノクロメータ−
用結晶はかくてX−Z面についてはヨノ\ン゛ノン構成
、Y−Z面についてはヨ/’%ン構成となる。
放射入射スリット3および放射出射スリ・ノド4はOか
ら距離Jにあり、これはZ軸に沿って測られたものであ
る。X線管5は試料6を照射する位置にある。それから
のX線ビームは入射ス1用ノド3で結晶中心点Oを通過
する主要X線7となり、結晶1で回折され、出射ス!J
・y ) 4の後番ごおり1れた検出器8によってと
らえられる。かくて出射スリット4は検出器用の放射人
力となる。
ら距離Jにあり、これはZ軸に沿って測られたものであ
る。X線管5は試料6を照射する位置にある。それから
のX線ビームは入射ス1用ノド3で結晶中心点Oを通過
する主要X線7となり、結晶1で回折され、出射ス!J
・y ) 4の後番ごおり1れた検出器8によってと
らえられる。かくて出射スリット4は検出器用の放射人
力となる。
図に示される回折角2θに関して、おりかえし対称のス
リット3と4の高さ訓はh = 2 R51n2θで与
えられる。これは結晶の対称位置に適用でき、この場合
結晶の中心での活性な結晶格子面は結晶の境界面と平行
に延在する。結晶をY軸のまわりに首ふりさせることに
よって入射スリットと出射スリットの高さは違ってくる
が対称性は保たれる。
リット3と4の高さ訓はh = 2 R51n2θで与
えられる。これは結晶の対称位置に適用でき、この場合
結晶の中心での活性な結晶格子面は結晶の境界面と平行
に延在する。結晶をY軸のまわりに首ふりさせることに
よって入射スリットと出射スリットの高さは違ってくる
が対称性は保たれる。
スリット3と4に曲率をもたせるように構成する、ずな
わち結晶の位置についてローランド球の経線と一致する
幅方向、ならびにローランド球の緯度上の緯線と一致す
る長さ方向をもったローランド球の一部をそれらが形成
するよう構成することにより、結像操作における光学的
収差は最小になる。
わち結晶の位置についてローランド球の経線と一致する
幅方向、ならびにローランド球の緯度上の緯線と一致す
る長さ方向をもったローランド球の一部をそれらが形成
するよう構成することにより、結像操作における光学的
収差は最小になる。
好適にはスリットの長さはすくなくともほぼモノクロメ
ータ−用結晶の直径に等しい。結晶に25mmの直径を
用いた時、スリットの長さは実際約25mmで、幅は例
えば0.]mm〜0.5mm 、ローランド球の半径は
たとえば150mmである。かくてX線螢光分析がスリ
ットを移動させることにより、たとえばリニア分光計で
試料について実施される手法が併られる。
ータ−用結晶の直径に等しい。結晶に25mmの直径を
用いた時、スリットの長さは実際約25mmで、幅は例
えば0.]mm〜0.5mm 、ローランド球の半径は
たとえば150mmである。かくてX線螢光分析がスリ
ットを移動させることにより、たとえばリニア分光計で
試料について実施される手法が併られる。
モノクロメータ−用結晶は例えばシリコンまたはゲルマ
ニウムよりなり、これら材料は大きな単結晶が比較的簡
単な方法で得られ、かかる材料の平板は十分に大きな範
囲まで変形できるという有利さがある。長波長放射を単
色化するために、単結晶をペンクエリトリトール、クリ
ウムハイドロフタレートまたは通常X線螢光分4す1に
使用される他の材料から作ることができる。
ニウムよりなり、これら材料は大きな単結晶が比較的簡
単な方法で得られ、かかる材料の平板は十分に大きな範
囲まで変形できるという有利さがある。長波長放射を単
色化するために、単結晶をペンクエリトリトール、クリ
ウムハイドロフタレートまたは通常X線螢光分4す1に
使用される他の材料から作ることができる。
2個のスリットのうち1個のみでも高い解像度の提供は
有効で、他の1個のスリットは単に放射遮蔽として動作
するから、スリットの1個は省略できる。入射スリット
と取って代る曲率を持ったリニアな焦点を有するX線源
、または出射スリットと取って代る対応する形状効果人
躬面を有する検出器からなるものも使用される。
有効で、他の1個のスリットは単に放射遮蔽として動作
するから、スリットの1個は省略できる。入射スリット
と取って代る曲率を持ったリニアな焦点を有するX線源
、または出射スリットと取って代る対応する形状効果人
躬面を有する検出器からなるものも使用される。
作図した1個q図面は本発明に関わるモノクロメータ−
用結晶とローランド球に関わり位置した入射スリットお
よび出射スリットを具えた構成の線図を示す。 1・・・モノクロメータ−用結晶 2・・キャリア3・
・入射スリット 4・・・出射スリツト5・・X線管
6・・試料 7・主要X線 8・・検出器。
用結晶とローランド球に関わり位置した入射スリットお
よび出射スリットを具えた構成の線図を示す。 1・・・モノクロメータ−用結晶 2・・キャリア3・
・入射スリット 4・・・出射スリツト5・・X線管
6・・試料 7・主要X線 8・・検出器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、X線源(5,6)と曲率を有するモノクロメータ−
用結晶(1)とX線検出器(8)とを具えたX線分析装
置において、当該モノクロメータ−用結晶が二重の曲率
を有する結晶格子面を具え、照射される結晶の境界面は
異なった主要方向に相互に異なった有意な量の面曲率を
有することを特徴上するX線分析装置。 2、 結晶格子面が球面状に曲率し、モノクロメータ−
用結晶の照射境界面が第1の主要断面で結晶格子面と等
しい曲率半径を有し、前記第1の主要断面に直角な第2
の主要断面で結晶格子面の半分に等しい曲率半径を有す
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のX線
分析装置。 3、 モノクロメータ−用結晶が第1の主要断面での結
晶境界面の曲率線がX線ビーム用入射ス) IJノド(
3)および、または出射スリット(4)の中心が位置す
る対応するローラン)(Rowland)球の円周と一
致するように前記装置に取イ」けられることを特徴とす
る特許請求の範囲第2項に記載のX線分析装置。 4、 入射スリット(3)および出射スリット(4)が
結晶に関するローランド球の緯度における1?線と一致
するような曲率を持ち、その長さ方向がモノクロメータ
−用結晶の中心点(0)て直角な線に直角な面に位置す
ることを特゛(敷とする特許請求の範囲第3項に記載の
X線分trJ7装置。 5、 入射ならびに反射X線は球面状に曲率を有する結
晶格子面に対し角度θの傾きを持ち、入射ならびに出射
スリットは結晶の照射境界面に接する中心面に直角に距
離(b)離れて位置し、ローランド球の半径をRとした
時h = 2 R51n”θで与えられることを特徴と
する特許請求の範囲第1項から第4項何れかに記載のX
線分析装置。 6. ローランド球の緯度における8、15線に沿って
測定した前記スリットの長さがすくなくともほぼモノク
ロメータ−用結晶の直径に等しいことを特徴とする特許
請求の範囲第3項に記載のX線分析装置。 7 X線源の適合され、曲イシをもった、リニアな焦点
が入射スリットとして動作し、または適合され、曲率を
持った活性化された検出入力面が出射スリットとして動
作することを特徴とする特許請求の範囲第3項から第6
項何れかに記載のX線分析装置。 8、 特許請求の範囲第1項から第7項何れかに記載の
X線分析装置用に明らかに使用されるべく意図された球
状の結晶面を具えたモノクロメータ−用結晶。 9、 曲率半径2Rを有し一様な厚みを有する円筒状結
晶板が主要な曲率半径Rと2Rとを有する円錐状凹面整
形面を備えた整形用治具に設置されることを特徴とする
特許請求の範囲第8項に記載のモノクロメータ−用結晶
。 10、適切な材料からはじめに円筒状結晶板を切り出し
、当該結晶板が次にその主要な曲率半径がRと2Rであ
る円錐状整形面を有する整形用治具に配設されることを
特徴とする特許請求の範囲第1項から第7項何れかに記
載のX線分析装置用モノクロメータ−結晶の製作方法。
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