JPS60200403A - 薄膜誘電体の製造方法 - Google Patents
薄膜誘電体の製造方法Info
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- JPS60200403A JPS60200403A JP59056467A JP5646784A JPS60200403A JP S60200403 A JPS60200403 A JP S60200403A JP 59056467 A JP59056467 A JP 59056467A JP 5646784 A JP5646784 A JP 5646784A JP S60200403 A JPS60200403 A JP S60200403A
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
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- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59056467A JPS60200403A (ja) | 1984-03-24 | 1984-03-24 | 薄膜誘電体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59056467A JPS60200403A (ja) | 1984-03-24 | 1984-03-24 | 薄膜誘電体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60200403A true JPS60200403A (ja) | 1985-10-09 |
| JPH0449721B2 JPH0449721B2 (enExample) | 1992-08-12 |
Family
ID=13027906
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59056467A Granted JPS60200403A (ja) | 1984-03-24 | 1984-03-24 | 薄膜誘電体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60200403A (enExample) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60236404A (ja) * | 1984-05-10 | 1985-11-25 | 日本曹達株式会社 | 薄膜強誘電体の製造方法 |
| JP2001036030A (ja) * | 1999-06-28 | 2001-02-09 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | 半導体デバイス及びその製造方法 |
| JP2004075424A (ja) * | 2002-08-12 | 2004-03-11 | Mitsubishi Materials Corp | 耐疲労特性に優れた強誘電体薄膜とその形成用組成物 |
| JP2014172778A (ja) * | 2013-03-08 | 2014-09-22 | Mitsubishi Materials Corp | 誘電体薄膜形成用組成物及び誘電体薄膜の形成方法並びにこの方法で形成された誘電体薄膜 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS549320A (en) * | 1977-06-23 | 1979-01-24 | Nippon Denso Co Ltd | Apparatus for supplying secondary air |
| JPS5623948A (en) * | 1979-08-06 | 1981-03-06 | Tsuzuki Junichi | Electromagnetic sound walk inducing apparatus for blind person |
| JPS59220913A (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-12 | 日本曹達株式会社 | チタンジルコン酸鉛誘電体薄膜の製造方法 |
-
1984
- 1984-03-24 JP JP59056467A patent/JPS60200403A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS549320A (en) * | 1977-06-23 | 1979-01-24 | Nippon Denso Co Ltd | Apparatus for supplying secondary air |
| JPS5623948A (en) * | 1979-08-06 | 1981-03-06 | Tsuzuki Junichi | Electromagnetic sound walk inducing apparatus for blind person |
| JPS59220913A (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-12 | 日本曹達株式会社 | チタンジルコン酸鉛誘電体薄膜の製造方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60236404A (ja) * | 1984-05-10 | 1985-11-25 | 日本曹達株式会社 | 薄膜強誘電体の製造方法 |
| JP2001036030A (ja) * | 1999-06-28 | 2001-02-09 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | 半導体デバイス及びその製造方法 |
| JP2004075424A (ja) * | 2002-08-12 | 2004-03-11 | Mitsubishi Materials Corp | 耐疲労特性に優れた強誘電体薄膜とその形成用組成物 |
| JP2014172778A (ja) * | 2013-03-08 | 2014-09-22 | Mitsubishi Materials Corp | 誘電体薄膜形成用組成物及び誘電体薄膜の形成方法並びにこの方法で形成された誘電体薄膜 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0449721B2 (enExample) | 1992-08-12 |
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