JPS6019604B2 - 複合誘電体 - Google Patents
複合誘電体Info
- Publication number
- JPS6019604B2 JPS6019604B2 JP57049448A JP4944882A JPS6019604B2 JP S6019604 B2 JPS6019604 B2 JP S6019604B2 JP 57049448 A JP57049448 A JP 57049448A JP 4944882 A JP4944882 A JP 4944882A JP S6019604 B2 JPS6019604 B2 JP S6019604B2
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- Japan
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- dielectric
- composite
- composite dielectric
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- Control Of Motors That Do Not Use Commutators (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
本叛明は、複合複電体に関し、更に詳しくは鞠Ti40
9系誘電体セラミック粉末と絶縁性高分子材料とからな
るマイクロ波用複合誘電体や微少容量コンデンサー材料
に用いることができる複合誘電体に関するものである。
9系誘電体セラミック粉末と絶縁性高分子材料とからな
るマイクロ波用複合誘電体や微少容量コンデンサー材料
に用いることができる複合誘電体に関するものである。
近年、マイクロ波領域における通信の発達に伴ない、マ
イクロ波回路の集積化が図られている。従来、集積化用
の基板、いわゆるマイクロ波用基板(MIC基板)には
、誘電体材料として四フッ化エチレン樹脂、ポリエチレ
ン樹脂などの両面に銅張りしたものが用いられ、この鋼
板にエッチング加工などを行なって回路を形成していた
。そして回路構成一部として樹脂の誘電率を利用するケ
ースがある。しかしながら本来樹脂の議電率が2〜3で
あるため、たとえば共振回路を形成するような場合、樹
脂の誘電率が小さいと導電パターンの形状を大きくしな
ければならず、小形化への障害となっていた。したがっ
て、さらに大きな誘電率を有するマイクロ波基板の出現
が要求されていた。一方、譲露体セラミックのマイクロ
波通信機器への応用展開が進み、マイクロ波帯で高いQ
値を持ち、かつ温度安定性のすぐれた材料の開発が行わ
れている。
イクロ波回路の集積化が図られている。従来、集積化用
の基板、いわゆるマイクロ波用基板(MIC基板)には
、誘電体材料として四フッ化エチレン樹脂、ポリエチレ
ン樹脂などの両面に銅張りしたものが用いられ、この鋼
板にエッチング加工などを行なって回路を形成していた
。そして回路構成一部として樹脂の誘電率を利用するケ
ースがある。しかしながら本来樹脂の議電率が2〜3で
あるため、たとえば共振回路を形成するような場合、樹
脂の誘電率が小さいと導電パターンの形状を大きくしな
ければならず、小形化への障害となっていた。したがっ
て、さらに大きな誘電率を有するマイクロ波基板の出現
が要求されていた。一方、譲露体セラミックのマイクロ
波通信機器への応用展開が進み、マイクロ波帯で高いQ
値を持ち、かつ温度安定性のすぐれた材料の開発が行わ
れている。
しかしながら、セラミックを穿孔したり、切断したりす
るような加工を施こそうとすると、セラミックがもとも
と硬いため加工が難かしく、また欠けたり、割れたりす
るという欠点がある。したがって、本発明は樹脂が有す
る柔難性とマイクロ波誘電体セラミックのすぐれた電気
特性を利用した複合誘電体を提供せんとするものである
。
るような加工を施こそうとすると、セラミックがもとも
と硬いため加工が難かしく、また欠けたり、割れたりす
るという欠点がある。したがって、本発明は樹脂が有す
る柔難性とマイクロ波誘電体セラミックのすぐれた電気
特性を利用した複合誘電体を提供せんとするものである
。
また本発明は、マイクロ波領域で高いQ値を持ち、比誘
電率の温度特性が安定で、比誘電率が一般の高分子材料
に〈らべて大きい複合誘電体を提供せんとするものであ
る。
電率の温度特性が安定で、比誘電率が一般の高分子材料
に〈らべて大きい複合誘電体を提供せんとするものであ
る。
さらに本発明は、マイクロ波誘電体セラミックにくらべ
て柔難性にすぐれ、加工容易性を有する複合誘電体を提
供せんとするものである。
て柔難性にすぐれ、加工容易性を有する複合誘電体を提
供せんとするものである。
すなわち、本発明の要旨とするところは、弦Ti409
系誘電体セラミック10〜7の容量%、好ましくは30
〜5位容量%、絶縁性高分子材料90〜30容量%、好
ましくは70〜5咳容量%からなる複合誘電体である。
系誘電体セラミック10〜7の容量%、好ましくは30
〜5位容量%、絶縁性高分子材料90〜30容量%、好
ましくは70〜5咳容量%からなる複合誘電体である。
本発明の複合誘電体を構成するもののうち、母Ti40
9系材料は、70位におけるQが5000比護電率が3
7、比誘電率の温度特性が一80ppn/。
9系材料は、70位におけるQが5000比護電率が3
7、比誘電率の温度特性が一80ppn/。
0のものである。
また、絶縁性高分子材料としては、四フッ化エチレンの
単独または共重合体などの含フッ素系重合体が特に好ま
しいが、その他ポリエチレンあるいはポリオレフィン系
重合体のような議電損の小さい重合体を用いることがで
きる。
単独または共重合体などの含フッ素系重合体が特に好ま
しいが、その他ポリエチレンあるいはポリオレフィン系
重合体のような議電損の小さい重合体を用いることがで
きる。
これらのうちでは、特に四フッ化エチレンの単独重合体
が好ましい。また使用できる共重合体としては、四フツ
化エチレンとエチレン、プロピレン、6フツ化プロピレ
ン、フツ化ビニル、フツ化ビニリデン、3フッ化エチレ
ンなどとの共重合体を例示できる。誘電体セラミックと
絶縁性高分子材料の混合比は、一般に10:90〜70
:30の容量比の範囲から選択されるが、かかる範囲が
好ましい理由は次のとおりである。つまり、誘電体セラ
ミックが1位容量%未満、絶縁性高分子材料が9批容量
%を越えると、比誘電率の増加が見られず複合化した効
果が得られなくなる。また誘電体セラミックが7被容量
%を越え、絶縁性高分子材料が3咳容量%未満になると
、誘電体セラックの量が多くなるため、絶縁性高分子材
料と混合しても均質な複合誘電体が得られなくなる。し
たがって柔性がなくなり、加工性も悪くなる。本発明の
複合譲露体を製造するには、前記絶縁性高分子材料およ
び譲露体セラミックをいずれも粉末状で均一に混合した
上、高分子材料の成形条件下で成形する。
が好ましい。また使用できる共重合体としては、四フツ
化エチレンとエチレン、プロピレン、6フツ化プロピレ
ン、フツ化ビニル、フツ化ビニリデン、3フッ化エチレ
ンなどとの共重合体を例示できる。誘電体セラミックと
絶縁性高分子材料の混合比は、一般に10:90〜70
:30の容量比の範囲から選択されるが、かかる範囲が
好ましい理由は次のとおりである。つまり、誘電体セラ
ミックが1位容量%未満、絶縁性高分子材料が9批容量
%を越えると、比誘電率の増加が見られず複合化した効
果が得られなくなる。また誘電体セラミックが7被容量
%を越え、絶縁性高分子材料が3咳容量%未満になると
、誘電体セラックの量が多くなるため、絶縁性高分子材
料と混合しても均質な複合誘電体が得られなくなる。し
たがって柔性がなくなり、加工性も悪くなる。本発明の
複合譲露体を製造するには、前記絶縁性高分子材料およ
び譲露体セラミックをいずれも粉末状で均一に混合した
上、高分子材料の成形条件下で成形する。
たとえば、ポリ四フッ化エチレンの場合、混合粉末を約
100〜700kg/c盆の圧力下に圧縮成形した後、
約330〜420ooの温度で焼成して成形体とする。
以下にこの発明を実施例に従って詳細に説明する。
100〜700kg/c盆の圧力下に圧縮成形した後、
約330〜420ooの温度で焼成して成形体とする。
以下にこの発明を実施例に従って詳細に説明する。
実施例
母Ti409からなる誘電体セラミック粉末(80メッ
シュパス)と四フッ化エチレン樹脂粉末を第1表に示す
比率で均一に混合し、この混合原料を400kg/洲の
圧力下で圧縮成形後、380qoの温度で3時間加熱焼
成して、直径56柵、高さ8物枕の円柱状複合誘電体を
得た。
シュパス)と四フッ化エチレン樹脂粉末を第1表に示す
比率で均一に混合し、この混合原料を400kg/洲の
圧力下で圧縮成形後、380qoの温度で3時間加熱焼
成して、直径56柵、高さ8物枕の円柱状複合誘電体を
得た。
得られた複合誘電体について、娘動法による議電体共振
器法で8.段Hzにおける比議電率、Q値を測定し、ま
たIMHzで比誘電率の温度特性を測定した。
器法で8.段Hzにおける比議電率、Q値を測定し、ま
たIMHzで比誘電率の温度特性を測定した。
測定結果は第1表に合わせて示す。第1表第1表中、試
料番号1はこの発明範囲外のものであり、それ以外はす
べてこの発明範囲内のものである。
料番号1はこの発明範囲外のものであり、それ以外はす
べてこの発明範囲内のものである。
第1表から明らかなように、本発明による複合誘電体は
マイクロ波で大きな比誘電率を有し、Qも高い値を示す
。
マイクロ波で大きな比誘電率を有し、Qも高い値を示す
。
また比誘電率の温度特性はppm/。0を中心とした特
性を示し、温度変化に対して安定した特性を有している
。
性を示し、温度変化に対して安定した特性を有している
。
また、本発明にかかる複合誘電体は柔軟性を有しており
、穿孔加工、切削加工が簡単であり、たとえばマイクロ
波用基板として用いた場合表面と裏面との導通処理も簡
単に行えるという利点を有する。
、穿孔加工、切削加工が簡単であり、たとえばマイクロ
波用基板として用いた場合表面と裏面との導通処理も簡
単に行えるという利点を有する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 BaTi_4O_9系誘電体セラミツク10〜70
容量%と絶縁性高分子材料90〜30容量%とからなる
複合誘電体。 2 BaTi_4O_9系誘電体セラミツクの7GHz
におけるQが5000、比誘電率が37、比誘電率の温
度特性が−80ppm/℃である特許請求の範囲第1項
記載の複合誘電体。 3 絶縁性高分子材料が四フツ化エチレンの単独または
共重合体である特許請求の範囲第1項記載の複合誘電体
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57049448A JPS6019604B2 (ja) | 1982-03-27 | 1982-03-27 | 複合誘電体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57049448A JPS6019604B2 (ja) | 1982-03-27 | 1982-03-27 | 複合誘電体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58166608A JPS58166608A (ja) | 1983-10-01 |
JPS6019604B2 true JPS6019604B2 (ja) | 1985-05-17 |
Family
ID=12831411
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57049448A Expired JPS6019604B2 (ja) | 1982-03-27 | 1982-03-27 | 複合誘電体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6019604B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH042261Y2 (ja) * | 1985-09-30 | 1992-01-27 | ||
JPH0453378Y2 (ja) * | 1985-05-10 | 1992-12-15 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002020169A (ja) | 2000-07-03 | 2002-01-23 | Murata Mfg Co Ltd | 高周波用誘電体磁器組成物、誘電体共振器、誘電体フィルタ、誘電体デュプレクサおよび通信機装置 |
-
1982
- 1982-03-27 JP JP57049448A patent/JPS6019604B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0453378Y2 (ja) * | 1985-05-10 | 1992-12-15 | ||
JPH042261Y2 (ja) * | 1985-09-30 | 1992-01-27 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58166608A (ja) | 1983-10-01 |
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