JPS6018390B2 - 微生物の好気的培養制御方法 - Google Patents
微生物の好気的培養制御方法Info
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- JPS6018390B2 JPS6018390B2 JP56006332A JP633281A JPS6018390B2 JP S6018390 B2 JPS6018390 B2 JP S6018390B2 JP 56006332 A JP56006332 A JP 56006332A JP 633281 A JP633281 A JP 633281A JP S6018390 B2 JPS6018390 B2 JP S6018390B2
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- Japan
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- oxygen
- partial pressure
- dissolved oxygen
- oxygen concentration
- culture
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
- Y02W10/10—Biological treatment of water, waste water, or sewage
Landscapes
- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
- Micro-Organisms Or Cultivation Processes Thereof (AREA)
- Activated Sludge Processes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は微生物の好気的培養制御方法に係わり、とくに
培養液中の溶存酸素濃度を制御する方法に関するもので
ある。
培養液中の溶存酸素濃度を制御する方法に関するもので
ある。
微生物を好気的に培養する際には空気を培養槽に吹込む
方法が従来行われている。
方法が従来行われている。
この場合の培養液中の溶存酸素濃度を制御するには縄梓
機回転数か通気量を変化させる方法が行われていたが、
溶存酸素濃度の制御範囲が狭いという問題があった。ま
た、糸状菌のように蝿拝強度が強くなると菌糸が切断す
るような培養の場合には蝿梓機回転数を上げることが出
来ず、通気量を上げるだけでは適正な溶存酸素レベルを
維持できなかった。
機回転数か通気量を変化させる方法が行われていたが、
溶存酸素濃度の制御範囲が狭いという問題があった。ま
た、糸状菌のように蝿拝強度が強くなると菌糸が切断す
るような培養の場合には蝿梓機回転数を上げることが出
来ず、通気量を上げるだけでは適正な溶存酸素レベルを
維持できなかった。
さらに、空気による通気では得られる酸素移動速度は２
００〜３００のｍｏｌ／〆・ｈであり、高菌体濃度培養
や酸素を多量に要求する微生物の培養においては、綾存
酸素レベルを微生物の増殖阻害が起らないレベルに維持
することは不可能であった。例えばパン酵母培養の際に
溶存酸素濃度が０．２奴以下になると酵母の生理状態は
嫌気的代謝になり、エタノールが生成し菌体収率が著し
く低下する。本発明は前記現状に鑑みてなされたもので
、その目的は培養液中の溶存酸素濃度を適正に制御する
ことにより、生産物の収率の向上を可能にする方法を提
供するものである。本発明の目的を達成するための溶存
酸素濃度制御方法は第一段階として鍵梓機回転数、第二
段階として通気ガスの酸素分圧、第三段階として通気量
を変化させることを特徴とする方法である。
００〜３００のｍｏｌ／〆・ｈであり、高菌体濃度培養
や酸素を多量に要求する微生物の培養においては、綾存
酸素レベルを微生物の増殖阻害が起らないレベルに維持
することは不可能であった。例えばパン酵母培養の際に
溶存酸素濃度が０．２奴以下になると酵母の生理状態は
嫌気的代謝になり、エタノールが生成し菌体収率が著し
く低下する。本発明は前記現状に鑑みてなされたもので
、その目的は培養液中の溶存酸素濃度を適正に制御する
ことにより、生産物の収率の向上を可能にする方法を提
供するものである。本発明の目的を達成するための溶存
酸素濃度制御方法は第一段階として鍵梓機回転数、第二
段階として通気ガスの酸素分圧、第三段階として通気量
を変化させることを特徴とする方法である。
さて、溶存酸素濃度を制御する方法としてＳｉｅ鞍ｌ１
（Ｂｉｏｔｅｃｈｎｏｌｏの、ａｎｄ、Ｂｊｏｅｎ鰹ｎ
ｅｅｒｉｎｇｖｏｌ、ＷＰ３４５〜３５０１９６２）は
通気量と縄梓機回転数と通気ガスの酸素分圧を記載し、
実際には通気ガスの酸素分圧のみで溶存酸素濃度を制御
している。
（Ｂｉｏｔｅｃｈｎｏｌｏの、ａｎｄ、Ｂｊｏｅｎ鰹ｎ
ｅｅｒｉｎｇｖｏｌ、ＷＰ３４５〜３５０１９６２）は
通気量と縄梓機回転数と通気ガスの酸素分圧を記載し、
実際には通気ガスの酸素分圧のみで溶存酸素濃度を制御
している。
これは大型装置上の問題として通気量と縄梓機回転数を
変化させるのは難しいと考えたからであろう。また石川
ら（特公昭５１一９８３３）はバン酵母の通気培養にお
いて溶存酸素レベルをＩＱ風以下にする方法として、酸
素濃度３０〜８０％の高濃度酸素含有空気と空気導入量
と鷹梓等を制御すると述べている。
変化させるのは難しいと考えたからであろう。また石川
ら（特公昭５１一９８３３）はバン酵母の通気培養にお
いて溶存酸素レベルをＩＱ風以下にする方法として、酸
素濃度３０〜８０％の高濃度酸素含有空気と空気導入量
と鷹梓等を制御すると述べている。
しかし、上記した文献には蝿梓機回転数、酸素濃度、通
気量をどのように制御するかについては全く述べられて
いない。
気量をどのように制御するかについては全く述べられて
いない。
本発明者らは溶存酸素濃度を容易にかつ精度よく制御す
る方法について詳細に検討した結果、本発明のように第
一段階として櫨梓機回転数を制御し、第二段階として通
気ガスの酸素分圧を制御し、第三段階として通気量を制
御する方法を発明するに至ったのである。
る方法について詳細に検討した結果、本発明のように第
一段階として櫨梓機回転数を制御し、第二段階として通
気ガスの酸素分圧を制御し、第三段階として通気量を制
御する方法を発明するに至ったのである。
本発明において第一段階として縄杵機回転数を、第二段
階として通気ガスの酸素分圧を、第三段階として通気量
を変化させて溶存酸素濃度を制御するのはつぎに記す理
由による。
階として通気ガスの酸素分圧を、第三段階として通気量
を変化させて溶存酸素濃度を制御するのはつぎに記す理
由による。
損投機回転数、通気ガスの酸素分圧および通気量を変え
て亜硫酸々化法により培養槽の酸素移動速度を測定した
結果が第１図、第２図である。
て亜硫酸々化法により培養槽の酸素移動速度を測定した
結果が第１図、第２図である。
第１図のＡは純酸素、Ｂは空気を示す。また第２図のＣ
は蝿洋機回転数３５仇ｐｍを示す。これから明らかなよ
うに、蝿梓機回転数を２倍に上げると酸素移動速度は５
倍以上に向上し、通気ガスの酸素分圧を空気の０．２１
ａｔｍから純酸素のｌａｔｍ‘こ上げると酸素移動速度
は約５倍向上する。一方、通気量を２倍多くしても酸素
移動速度はほとんど向上しない。これから、培養液中の
酸素移動速度を変えるには櫨梓機回転数を変えるのが一
番効果的であり、通気ガスの酸素分圧、通気量の順に効
果が小さくなることが分った。培養液中の溶存酸素濃度
を効率よく制御するには、酸素移動速度を効果的に変え
られる方法が良いことから、培養液の溶存酸素濃度が低
下した場合は、第一段階として礎洋機回転数を上げる。
は蝿洋機回転数３５仇ｐｍを示す。これから明らかなよ
うに、蝿梓機回転数を２倍に上げると酸素移動速度は５
倍以上に向上し、通気ガスの酸素分圧を空気の０．２１
ａｔｍから純酸素のｌａｔｍ‘こ上げると酸素移動速度
は約５倍向上する。一方、通気量を２倍多くしても酸素
移動速度はほとんど向上しない。これから、培養液中の
酸素移動速度を変えるには櫨梓機回転数を変えるのが一
番効果的であり、通気ガスの酸素分圧、通気量の順に効
果が小さくなることが分った。培養液中の溶存酸素濃度
を効率よく制御するには、酸素移動速度を効果的に変え
られる方法が良いことから、培養液の溶存酸素濃度が低
下した場合は、第一段階として礎洋機回転数を上げる。
蝿枠機回転数が設定上限値になった場合は第二段階とし
て通気ガス中の酸素分圧を上げる。通気ガス中の酸素分
圧が設定上限値になった場合は第三段階として通気量を
上げるのである。一方、培養液の溶存酸素濃度が設定値
より高い場合は、第一段階として鷹梓機回転数を下げる
。渡洋機回転数が設定下限値になった場合は第二段階と
して通気ガス中の酸素分圧を下げる。通気ガス中の酸素
分圧が設定下限値になった場合は第三段階として通気量
を下げるのである。さらに、従来の空気だけの通気の場
合に比べて酸素富化ガスを用いることにより、２０００
のｍｏｌ／〆・ｈという高い酸素移動速度が得られる。
て通気ガス中の酸素分圧を上げる。通気ガス中の酸素分
圧が設定上限値になった場合は第三段階として通気量を
上げるのである。一方、培養液の溶存酸素濃度が設定値
より高い場合は、第一段階として鷹梓機回転数を下げる
。渡洋機回転数が設定下限値になった場合は第二段階と
して通気ガス中の酸素分圧を下げる。通気ガス中の酸素
分圧が設定下限値になった場合は第三段階として通気量
を下げるのである。さらに、従来の空気だけの通気の場
合に比べて酸素富化ガスを用いることにより、２０００
のｍｏｌ／〆・ｈという高い酸素移動速度が得られる。
これより従来不可能であった菌体濃度２０〜５０夕／そ
以上の高菌体濃度培養が可能になり、培養の生産性が向
上するとともに「培養排液量の低減を図ることができる
。その上、高い溶存酸素レベルを要求する培養や高粘度
のために酸素移動速度が低下しやすい高粘性培養などの
培養が可能になる。酸素分圧を制御するには糟内圧を変
化させる方法や通気ガス中の酸素濃度を変化させる方法
がある。これらの方法のいずれをも用いることが可能で
あるし、同時に用いることにより、より大きな酸素分圧
を得ることができる。通気ガス中の酸素濃度を変えるに
は酸素ガスボンベや吸着式の酸素分離装置や深冷式の酸
素分離装置などが用いられる。
以上の高菌体濃度培養が可能になり、培養の生産性が向
上するとともに「培養排液量の低減を図ることができる
。その上、高い溶存酸素レベルを要求する培養や高粘度
のために酸素移動速度が低下しやすい高粘性培養などの
培養が可能になる。酸素分圧を制御するには糟内圧を変
化させる方法や通気ガス中の酸素濃度を変化させる方法
がある。これらの方法のいずれをも用いることが可能で
あるし、同時に用いることにより、より大きな酸素分圧
を得ることができる。通気ガス中の酸素濃度を変えるに
は酸素ガスボンベや吸着式の酸素分離装置や深冷式の酸
素分離装置などが用いられる。
本発明に用いられる微生物にはサッカロミセス（ Ｓａ
ｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ ）属 、ハ ン ゼ ヌ ラ
（也ｎｓｅｎｕｌａ）属、トルロプシス（Ｔｏｒ山ｏｐ
ｓｉｓ）属、ピヒィア（Ｐｉｃｈｉａ）属、キヤンディ
ダ（Ｃａｎｄｉ船）属およびミコトルラ（Ｍｙｃｏｔｏ
ｍｌａ）属などに属する酵母、メチロモナス（Ｍｅｔｈ
ｙｌｏｍｏ雌ｓ）属、シ ュ ードモ ナ ス（Ｐｓｅ
ｕｄｏｍｏｎａｓ）属、ア ル カ リゲ ネ ス（Ｎ
ｃａｌｉｇｅｎｅｓ）属、バシラス（ＢａＣｉｌｌ瓜）
属およびコリネバクテリゥム（Ｃｏひｎｅｂａｃｔｅｒ
ｉｕｍ）属などに属する細菌、ノルカルディア（Ｎｏｃ
ａｒｄｉａ）属およびストレプトマィセス（Ｓｔｒｅｐ
ｔｏｍｙｃｅｓ）属などに属する放線菌、ベニシリウム
（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉ皿）属、ァ ス ベルギル ス（
Ａｓｐｅｒｇｉｌｌ雌）属およびトリコデルマ（Ｔｒｉ
ｃｈｏｄｅｎｎａ）属などに属するカビなどが用いられ
る。
ｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ ）属 、ハ ン ゼ ヌ ラ
（也ｎｓｅｎｕｌａ）属、トルロプシス（Ｔｏｒ山ｏｐ
ｓｉｓ）属、ピヒィア（Ｐｉｃｈｉａ）属、キヤンディ
ダ（Ｃａｎｄｉ船）属およびミコトルラ（Ｍｙｃｏｔｏ
ｍｌａ）属などに属する酵母、メチロモナス（Ｍｅｔｈ
ｙｌｏｍｏ雌ｓ）属、シ ュ ードモ ナ ス（Ｐｓｅ
ｕｄｏｍｏｎａｓ）属、ア ル カ リゲ ネ ス（Ｎ
ｃａｌｉｇｅｎｅｓ）属、バシラス（ＢａＣｉｌｌ瓜）
属およびコリネバクテリゥム（Ｃｏひｎｅｂａｃｔｅｒ
ｉｕｍ）属などに属する細菌、ノルカルディア（Ｎｏｃ
ａｒｄｉａ）属およびストレプトマィセス（Ｓｔｒｅｐ
ｔｏｍｙｃｅｓ）属などに属する放線菌、ベニシリウム
（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉ皿）属、ァ ス ベルギル ス（
Ａｓｐｅｒｇｉｌｌ雌）属およびトリコデルマ（Ｔｒｉ
ｃｈｏｄｅｎｎａ）属などに属するカビなどが用いられ
る。
培養基質としては糠密などの炭水化物、ｎ−パラフィン
、メタノール、エタノール、酢酸および脂肪酸などが用
いられる。
、メタノール、エタノール、酢酸および脂肪酸などが用
いられる。
基質以外の副原料として通常の培養に用いられる硫安、
尿素、アンモニア水、リン酸−カリウム、酵母エキス、
硫酸マグネシウム、硫酸第一鉄および各種ビタミン、ミ
ネラルなどが用いられる。本発明方法の培養制御装置の
一例を第３図に示す。
尿素、アンモニア水、リン酸−カリウム、酵母エキス、
硫酸マグネシウム、硫酸第一鉄および各種ビタミン、ミ
ネラルなどが用いられる。本発明方法の培養制御装置の
一例を第３図に示す。
培養槽１内に種菌を入れ、基質タンク７から基質を基質
供Ｖ給ポンプ８により供Ｖ給する。この時溶存酸素セン
サ９、酸素分圧測定器５、通気草柳定器６からの信号を
制御用電子計算機４で処理し、制御プログラムに従って
酸素分離機３、鷹梓機２、圧力調節器１１に信号を送り
、蝿梓機回転数、通気ガス中の酸素分圧または通気量を
制御するものである。つぎに本発明の実施例について具
体的に説明するが、本発明はこれによりなんら限定され
るものではない。
供Ｖ給ポンプ８により供Ｖ給する。この時溶存酸素セン
サ９、酸素分圧測定器５、通気草柳定器６からの信号を
制御用電子計算機４で処理し、制御プログラムに従って
酸素分離機３、鷹梓機２、圧力調節器１１に信号を送り
、蝿梓機回転数、通気ガス中の酸素分圧または通気量を
制御するものである。つぎに本発明の実施例について具
体的に説明するが、本発明はこれによりなんら限定され
るものではない。
実施例 １
菌体；ＳａｃｃＭｒｏｍｙｏｅｓ ｃｅｒｅｖｉｓｉａ
ｅ（パン酵母）培地：グルコースを３００夕、尿素３２
．２５夕、Ｎａ２ＨＰ０４−２日２０１５夕、ＭｇＳＱ
・７４０５．７夕、ＫＣ１ ３．３夕、クエン酸ナトリ
ウム３７．５夕、酵母エキス７．５夕、ビタミン液１５
の【およびミネラル液１５の‘を水道水１とに加え、溶
解し、ｐＨ５．０に調整した。
ｅ（パン酵母）培地：グルコースを３００夕、尿素３２
．２５夕、Ｎａ２ＨＰ０４−２日２０１５夕、ＭｇＳＱ
・７４０５．７夕、ＫＣ１ ３．３夕、クエン酸ナトリ
ウム３７．５夕、酵母エキス７．５夕、ビタミン液１５
の【およびミネラル液１５の‘を水道水１とに加え、溶
解し、ｐＨ５．０に調整した。
但し、ビタミン液はピオチン０．０４夕、ビタミンＢＯ
．０８夕、ビタミン馬２．０夕、パントテン酸カルシウ
ム１．０夕およびィノシトール２０夕を蒸留水１夕に溶
解して作成し、ミネラル液はＣｕＳ０４・ＳＬＯＯ．０
５夕、ＺｎＳ０４・７日２００．８夕およびＦｅＳ０４
（Ｎ比）２・細２００．３夕を蒸留水１クーこ溶解して
作成した。
．０８夕、ビタミン馬２．０夕、パントテン酸カルシウ
ム１．０夕およびィノシトール２０夕を蒸留水１夕に溶
解して作成し、ミネラル液はＣｕＳ０４・ＳＬＯＯ．０
５夕、ＺｎＳ０４・７日２００．８夕およびＦｅＳ０４
（Ｎ比）２・細２００．３夕を蒸留水１クーこ溶解して
作成した。
培養条件；５０そ客ジャーファーメンタを用い、温度３
０ｑｏ、ｐＨ５．０で上記塔地を流加し、溶存酸素濃度
を凝梓回転数、通気ガスの酸素分圧および通気量により
制御した。
０ｑｏ、ｐＨ５．０で上記塔地を流加し、溶存酸素濃度
を凝梓回転数、通気ガスの酸素分圧および通気量により
制御した。
なお、通気ガスの酸素分圧はエアーコンブレッサと酸素
ボンベを用いて変化させた。初発液量を１５夕とし、初
発菌体濃度を５０夕／のこした。結果；培養１幼時間を
通じて溶存酸素濃度を２〜４脚の範囲内に維持でき、ェ
タ／ールの生成量も２００脚程度できわめて低く抑える
ことができた。
ボンベを用いて変化させた。初発液量を１５夕とし、初
発菌体濃度を５０夕／のこした。結果；培養１幼時間を
通じて溶存酸素濃度を２〜４脚の範囲内に維持でき、ェ
タ／ールの生成量も２００脚程度できわめて低く抑える
ことができた。
これにより菌体濃度は９５夕／その高濃度に達し、菌体
収率は０．４５夕／夕であった。なお最終培養液量は３
２そであった。実施例 ２ 菌株：Ｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ ｃｅｒｅｖｌｓｌ
ａｅ（パン酵母）培地；モラセス０．６そ、尿素１９．
３夕、８５％リン酸８５夕、水道水０．３その割合で混
合して調製した。
収率は０．４５夕／夕であった。なお最終培養液量は３
２そであった。実施例 ２ 菌株：Ｓａｃｃｈａｒｏｍｙｃｅｓ ｃｅｒｅｖｌｓｌ
ａｅ（パン酵母）培地；モラセス０．６そ、尿素１９．
３夕、８５％リン酸８５夕、水道水０．３その割合で混
合して調製した。
培養条件；５０そ容ジャーファーメンタを用い、温度３
０℃、ｐＨ５．０で上記塔地を流加し、溶存酸素濃度を
鷹梓機回転数、通気ガスの酸素分圧および通気量により
制御した。なお、通気ガスの酸素分圧はエアーコンブレ
ッサと酸素ボンベを用いて変化させた。初発液量を１５
夕とし、初発菌体濃度を２５タ′夕にした。結果；培養
１虫時間を通じて溶存酸素濃度を２〜４脚の範囲内に維
持でき、エタノールの生成量も２０■側程度できわめて
低く抑えることができた。
０℃、ｐＨ５．０で上記塔地を流加し、溶存酸素濃度を
鷹梓機回転数、通気ガスの酸素分圧および通気量により
制御した。なお、通気ガスの酸素分圧はエアーコンブレ
ッサと酸素ボンベを用いて変化させた。初発液量を１５
夕とし、初発菌体濃度を２５タ′夕にした。結果；培養
１虫時間を通じて溶存酸素濃度を２〜４脚の範囲内に維
持でき、エタノールの生成量も２０■側程度できわめて
低く抑えることができた。
これにより菌体濃度は１１０夕／その高濃度に達し、菌
体収率は０．４９夕／夕であった。なお、最終培養液量
は３０そであった。実施例 ３ 菌株；也ｎｓｅｎｕｌａに属する−・菌株塔地：基質と
してエタノール４００のこ対し、副原料を硫安６０夕、
Ｋ比Ｐ０４３０夕、Ｎａ２ＨＰ０４３０夕、ＭｇＳ０４
・７Ｚ０５夕 、ＦｅＳ０４・７日２００．２夕 、Ｍ
ｈＳ〇４・４〜母日２〇〇‐０２夕、ＣａＣ１２・２日
２〇〇．〇２夕、サィアミン４雌量用いた。
体収率は０．４９夕／夕であった。なお、最終培養液量
は３０そであった。実施例 ３ 菌株；也ｎｓｅｎｕｌａに属する−・菌株塔地：基質と
してエタノール４００のこ対し、副原料を硫安６０夕、
Ｋ比Ｐ０４３０夕、Ｎａ２ＨＰ０４３０夕、ＭｇＳ０４
・７Ｚ０５夕 、ＦｅＳ０４・７日２００．２夕 、Ｍ
ｈＳ〇４・４〜母日２〇〇‐０２夕、ＣａＣ１２・２日
２〇〇．〇２夕、サィアミン４雌量用いた。
培養条件；５０〆容ジャーファーメンタを用い、温度３
ｙｏ、ｐＨ３．５で上記培地を流加し、溶存酸素濃度を
礎梓機回転数、通気ガスの酸素分圧および通気量により
制御した。
ｙｏ、ｐＨ３．５で上記培地を流加し、溶存酸素濃度を
礎梓機回転数、通気ガスの酸素分圧および通気量により
制御した。
なお、通気ガスの酸素分圧はエアーコンブレツサと酸素
ボンベを用いて変化させた。初発液量を１５〆とし、初
発菌体濃度を５０夕／そにした。結果：培養１虫時間を
通じて溶存酸素濃度を２〜４脚の範囲内に維持すること
ができた。
ボンベを用いて変化させた。初発液量を１５〆とし、初
発菌体濃度を５０夕／そにした。結果：培養１虫時間を
通じて溶存酸素濃度を２〜４脚の範囲内に維持すること
ができた。
これにより、菌体濃度は１１０夕／その高濃度に達し、
菌体収率は０．７０夕／夕であった。本発明は以上述べ
たように、溶存酸素濃度の制御が容易に行えるようにな
るため、高菌体濃度培養が可能になり、培養槽の生産性
を向上できる効果がある。
菌体収率は０．７０夕／夕であった。本発明は以上述べ
たように、溶存酸素濃度の制御が容易に行えるようにな
るため、高菌体濃度培養が可能になり、培養槽の生産性
を向上できる効果がある。
第１図は濃伴機回転数と酸素移動速度との関係を示す図
、第２図は通気量と酸素移動速度との関係を示す図、第
３図は培養制御装置の一例の概略図である。 １・・・・・・培養糟、２・・・・・・縄梓機、３・・
・・・・酸素分離機、４……制御用電子計算機、５・・
・・・・酸素分圧測定器、６・・・・・・通気量測定器
、７・・・・・・基質タンク、８・・・・・・基質供給
ポンプ、９…・・・溶存酸素センサ、１０……溶存酸素
計、１１……圧力調節器、１２，１３，１４，１５・・
・・・・導管。 多′図 多Ｚ菌 茅ｊ図
、第２図は通気量と酸素移動速度との関係を示す図、第
３図は培養制御装置の一例の概略図である。 １・・・・・・培養糟、２・・・・・・縄梓機、３・・
・・・・酸素分離機、４……制御用電子計算機、５・・
・・・・酸素分圧測定器、６・・・・・・通気量測定器
、７・・・・・・基質タンク、８・・・・・・基質供給
ポンプ、９…・・・溶存酸素センサ、１０……溶存酸素
計、１１……圧力調節器、１２，１３，１４，１５・・
・・・・導管。 多′図 多Ｚ菌 茅ｊ図
Claims (1)
- １ 微生物を好気的に培養する際に培養液の溶存酸素濃
度を設定値と比較し、溶存酸素濃度が設定値より低下し
た場合は、第一段階として撹拌機回転数を上げ、撹拌機
回転数が設定上限値になつた場合は第二段階として通気
ガス中の酸素分圧を上げ、通気ガス中の酸素分圧が設定
上限値になつた場合は第三段階として通気量を上げ、逆
に培養液の溶存酸素濃度が設定値より高い場合は、第一
段階として撹拌機回転数を下げ、撹拌機回転数が設定下
限値になつた場合は第二段階として通気ガス中の酸素分
圧を下げ、通気ガス中の酸素分圧が設定下限値になつた
場合は第三段階として通気量を下げることを特徴とする
微生物の好気的培養制御方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56006332A JPS6018390B2 (ja) | 1981-01-21 | 1981-01-21 | 微生物の好気的培養制御方法 |
| KR1019810004438A KR870001649B1 (ko) | 1980-11-26 | 1981-11-17 | 미생물 배양제어방법 및 장치 |
| US06/324,550 US4444882A (en) | 1980-11-26 | 1981-11-24 | Process and apparatus for controlling cultivation of microorganisms |
| DE8181109902T DE3176062D1 (en) | 1980-11-26 | 1981-11-25 | Process and apparatus for controlling cultivation of microorganisms |
| EP81109902A EP0052890B1 (en) | 1980-11-26 | 1981-11-25 | Process and apparatus for controlling cultivation of microorganisms |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56006332A JPS6018390B2 (ja) | 1981-01-21 | 1981-01-21 | 微生物の好気的培養制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57122789A JPS57122789A (en) | 1982-07-30 |
| JPS6018390B2 true JPS6018390B2 (ja) | 1985-05-10 |
Family
ID=11635400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56006332A Expired JPS6018390B2 (ja) | 1980-11-26 | 1981-01-21 | 微生物の好気的培養制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6018390B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63104698A (ja) * | 1986-10-20 | 1988-05-10 | Nippon Gesuidou Jigyodan | 水中撹拌散気装置による好気槽の運転制御方法 |
| JP2735215B2 (ja) * | 1988-03-18 | 1998-04-02 | 株式会社日立製作所 | 培養槽の運転方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5467085A (en) * | 1977-11-09 | 1979-05-30 | Oriental Yeast Co Ltd | Apparatus for controlling dissolved oxygen concentration in culturing liquid |
-
1981
- 1981-01-21 JP JP56006332A patent/JPS6018390B2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5467085A (en) * | 1977-11-09 | 1979-05-30 | Oriental Yeast Co Ltd | Apparatus for controlling dissolved oxygen concentration in culturing liquid |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57122789A (en) | 1982-07-30 |
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