JPS6017042Y2 - レコ−ド盤洗浄装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、レコード盤表面に付着した塵埃あるいは手垢
等の汚れを除去するためのレコード盤洗浄装置に関する
ものである。

レコード盤の素材は塩化ビニール主体であり静電気を帯
び易く塵埃が付着し易い。

このような塵埃は通常ブラシあるいは布等による拭い取
っているが完全に清浄にすることはできずまた拭い取り
作業中に静電気が発生し新たな塵埃を吸着する場合があ
り、またレコード溝内の手垢等の汚れを完全に除去する
ことはできなかった。

本考案は上記の点に鑑みなされたものであって、レコー
ド盤表面に付着した塵埃、手垢等の汚′れを簡単に確実
に除去できるレコード盤洗浄装置の提供を目的とする。

このため本考案に係るレコード盤洗浄装置は超音波振動
子を備えた洗浄液槽、該洗浄液槽内にレコード盤の一部
を浸漬してこのレコード盤を保持するレコード盤保持機
構、このレコード盤の回転機構、および上記洗浄液槽上
方に露出したレコード盤表面の洗浄液を除去するための
高速空気吹出機構と上記レコード盤回転機構と連動して
レコード盤を洗浄液槽の上方へ引上げるレコード盤引き
上げ装置を具備している。

以下、図面い基いて本考案の一実施例について説明する
。

第１図は本考案に係るレコード盤洗浄装置の上面図であ
り第２図はその立面図である。

１は本体ケース、１′は洗浄液槽、２は電気部分蓋、３
はネジ、４は電源線、５は電源スィッチ、６は排水栓で
ある。

７はアーム、８はシャフト、９はレコード盤、１０．１
１はレコード盤ホルダー １２．１３はネジシャフト、
１４はゴムローラ、１５はシャフト、１６はネジ、１７
は低速モータ、１８はゴムローラ、１９はギア付アーム
（第６図参照）、２０はネジ、２１はバネ取付用ピン、
２２はバネ、２３はギア、２４は取手、２５はブロワ−
１２６は吹出口、２７は超音波振動子である。

洗浄液槽１′の内部には洗浄液Ａが収容され、その両側
壁には第３図に示すように超音波振動子２７が備わる。

レコード盤９はその中央部両側よりｌ対のレコード盤ホ
ルダー１０．１１により挾持されネジシャフト１２．１
３により締付は固定される（第３図参照）。

これらのネジシャフト１２．１３はレコード盤９の両側
に配置したアーム７の先端部に回転自在に支承される。

この両アーム７にはシャフト１５が架設されこのシャフ
ト１５上にゴムローラ１４が装着される（第５図参照）
。

このゴムローラ１４の外周表面はレコード盤９の外周部
に圧接する。

一方のアーム７にはネジ６により低速モータ１７が固定
される。

ゴムローラ１４には低速モータ１７の出力軸１７ａに装
着したゴムローラ１８が圧接係合し、この出力軸１７ａ
の先端には第１のギア２３が備わる（第５図参照）。

両アーム７はシャフト８に枢着されている。

本体ケース１の側壁内側にはギア付アーム１９がネジ２
０を介して枢着される。

このギア付アーム１９における第２のギヤ１９ａには上
記低速モータ１７に連結するギア２３が噛み合う（第６
図参照）。

このギア付アーム１９はその枢軸であるネジ２０との反
対側端部に係合するバネ２２により常にギヤ２３側に付
勢されギヤ２３およびギヤ１９ａが係合するような力を
受ける。

このギヤ付アーム１９には取手２４が備わりこの取手２
４は本体ケース１に設けた溝孔（図示しない）を貫通し
て本体ケース１の外側に突出している（第１図、第５図
参照）。

洗浄液槽１′の上方のレコード盤９の両側にはブロワ−
２５に連通ずる吹出口２６が設置される（第４図参照）
。

以上のように本考案に係るレコード盤洗浄装置は超音波
振動子２７を備えた洗浄液槽１′を備え、この洗浄液槽
１′内にレコード盤９の一部を浸漬してこのレコード盤
を保持する保持機構を２本のアーム７．１対のレコード
盤ホルダ１０．１１、ネジシャフト１２．１３、および
第２のギア付アーム１９等により構成し、レコード盤回
転機構を低速モータ１７、ゴムローラ１４．１８等より
構成し、洗浄液槽１′の上方に露出したレコード盤表面
の洗浄液を除去するための高速空気吹出機構をブロワ−
２５、吹出口２６により構成する。

そして、上記ギア２３、ギア付アーム１９とで、レコー
ド盤引き上げ装置を威し、該装置はレコード盤回転機構
とギア２３を介して連動するように構成されている。

次に上記構成のレコード盤洗浄装置の作動について説明
する。

まず、洗浄すべきレコード盤９の中央レーベル部分をそ
の両側よりレコード盤ホルダー１０．１１で挾み込みネ
ジシャフト１２．１３によって締付固定してこの中央部
分への洗浄液の浸入を防止する。

このネジシャフト１２．１３を各アーム７の先端切欠き
部に装置する（第２図）。

次に取手２４を第６図の矢印口の方向に手で移動させて
ギヤ２３とギヤ１９ａとを切離すと、アーム７は下方に
下がる。

レコード盤９の洗浄すべき部分が洗浄液槽１′内に浸漬
したら取手２４を戻して手を離し、この位置で両ギヤ２
３．１９ａを噛み合わせる。

次に電源スィッチ５とオンとして低速モータ１７、ブロ
ワ−２５、および超音波振動子２７を駆動させる。

低速モータ１７の回転によりギヤ２３およびゴムローラ
１８は矢印二（第２図、第６図）の方向に回転する。

従って、ゴムローラ１４は矢印ハ（第２図）の方向に回
転し、これによってレコード盤９は矢印イ（第２図）の
方向に回転する。

またギヤ２３が矢印二方向に回転することによりこのギ
ヤ２３はギヤ付アーム１９のギヤ１９ａに沿って上方に
転動するため（第６図参照）、アーム７は第２図の矢印
ホのように上方に移動しレコード盤９を除々に洗浄液槽
１′から引上げる。

従って、レコード盤９は回転しつつ徐々に洗浄液槽１′
から引上げるられるため洗浄液Ａ中に浸漬された超音波
振動子２７によってレコード面は全面走査され表面に付
着した塵埃や手垢等の汚れは完全に除去される。

洗浄液槽１′から引上げられて露出した部分のレコード
盤９の表面に残留する洗浄液はブロワ−２５により乾燥
、飛散されて除去されるレコード盤９が完全に洗浄液槽
１′から引上げられると電気スイッチ５をオフにして装
置の作動を停止させる。

以上、説明したように本考案に係るレコード盤洗浄装置
においては、洗浄液中に浸漬した超音波振動子によりレ
コード盤表面を無接触で清浄化することができ、清浄中
の静電気の発生は防止されレコード溝内に付着した汚れ
等も確実に除去することができレコード盤表面が完全に
清浄化されてレコード盤の寿命が延び音質の劣化は防止
される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案に係るレコード盤洗浄装置の一実施例の
上面図、第２図は第１図の装置の立面図、第３図は第１
図の■−■断面図、第４図は第１図の装置の高速空気吹
出口部分の拡大図、第５図は第１図の装置のゴムローラ
部分の拡大図、第６図は第１図の装置のギヤー付アーム
部分の拡大図である。 １′・・・・・・洗浄液槽、７・・・・・・アーム、９
・・・・・・レコード盤、１０．１１・・・・・・レコ
ード盤ホルダー、１２．１３・・・・・・ネジシャフト
、１４．１Ｂ・・・・・・ゴムローラ、１７・・・・・
・低速モータ、１９・・・・・・第２のギヤ付アーム、
２３・・・・・・第１のギヤ、２４・・・・・・取手、
２５・・・・・・ブロワ−２６・・・・・・吹出口、２
７・・・・・・超音波振動子。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ 超音波振動子を備えた洗浄液槽、該洗浄液槽内にレ
   コード盤の一部を浸漬してこのレコード盤を回転自由に
   保持するレコード盤保持機能、このレコード盤の回転機
   構及び上記洗浄液槽上方に露出したレコード盤表面の洗
   浄液を除去するための高速空気吹出機構と、上記レコー
   ド盤回転機構と連動してレコード盤を所定回転させて後
   洗浄液槽の上方に引き上げるレコード盤引き上げ装置と
   を具備したことを特徴とするレコード盤洗浄装置。 ２ レコード盤回転機構は、レコード盤に接触させたゴ
   ムローラを、該ゴムローラに接触したゴムローラをモー
   タで駆動することによって回転する構成である実用新案
   登録請求の範囲第１項記載のレコード盤洗浄装置。 ３ レコード盤引き上げ装置は、揺動自由なレコード盤
   保持アームに支持されモータによる回転駆動される第１
   のギアと、該ギアと常時係合するように弾性付勢されか
   つ揺動自由に支持された第２のギア付アームとから威り
   前記両ギア相互の係合を解除することによりアームを弾
   性力に坑して引き上げ、その後円ギア相互を係合してア
   ームを下げモータを駆動することにより第１のギアが第
   ２のギアに沿って転動してアームが自動的に上方に引き
   上げられてレコード盤を引き上げるように構成されて成
   る実用新案登録請求の範囲第１項又は第２項記載のレコ
   ード盤洗浄装置。