JPS60169257U - プラズマｃｖｄ装置 - Google Patents

プラズマｃｖｄ装置

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JPS60169257U
JPS60169257U JP5478784U JP5478784U JPS60169257U JP S60169257 U JPS60169257 U JP S60169257U JP 5478784 U JP5478784 U JP 5478784U JP 5478784 U JP5478784 U JP 5478784U JP S60169257 U JPS60169257 U JP S60169257U
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JP
Japan
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plasma cvd
cvd equipment
cathode electrode
abstract
cvd apparatus
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Pending
Application number
JP5478784U
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English (en)
Inventor
守 森田
Original Assignee
株式会社日立製作所
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Publication date
Application filed by 株式会社日立製作所 filed Critical 株式会社日立製作所
Priority to JP5478784U priority Critical patent/JPS60169257U/ja
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来のプラズマＣＶＤ装置の断面構造図、第２
図は本考案の一実施例を示すプラズマＣＶＤ装置の断面
構造図、第３図はカソード電極およびカソード電極防着
板の平面図である。 １・・・反応室、２・・・カソード電極で高周波を印加
すると同時に反応ガスの導入口でもある、３・・・カソ
ード電極板であり、多数の穴を設け・である、４・・・
アノード電極であり基板をのせる、５・・・排気口、６
・・・本発明で追加したカソード電極防着板。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. カソード電極と同一形状で、かつ反応生成物と類似の膨
    張係数の絶縁物をカソード電極側に設けたことを特徴と
    するプラズマＣＶＤ装置。
JP5478784U 1984-04-16 1984-04-16 プラズマｃｖｄ装置 Pending JPS60169257U (ja)

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JP5478784U JPS60169257U (ja) 1984-04-16 1984-04-16 プラズマｃｖｄ装置

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