JPS60168996A - 少量の低沸点液化ガスを遮断する方法および装置 - Google Patents
少量の低沸点液化ガスを遮断する方法および装置Info
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- JPS60168996A JPS60168996A JP60008568A JP856885A JPS60168996A JP S60168996 A JPS60168996 A JP S60168996A JP 60008568 A JP60008568 A JP 60008568A JP 856885 A JP856885 A JP 856885A JP S60168996 A JPS60168996 A JP S60168996A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野:
本発明は特許請求の範囲第1項の上位概念による少量の
低沸点液化ガスを計量する方法および特許請求の範囲第
6項の上位概念によるこの方法を実施する装置に関する
。
低沸点液化ガスを計量する方法および特許請求の範囲第
6項の上位概念によるこの方法を実施する装置に関する
。
とくに液体チッ素計量装置により少量の低沸点液化ガス
を計量する際、必要に応じて周期的にも接続しつる均一
な、支障のないいつでも遮断しつる液化ガスの通過が達
成さねなければならない。
を計量する際、必要に応じて周期的にも接続しつる均一
な、支障のないいつでも遮断しつる液化ガスの通過が達
成さねなければならない。
従来の技術:
西独公開特許公報第2732318号がら液体チノ素の
i1量装置が公知であり、この場合垂直軸を中心に回転
しうるディスクがチッ素の流出孔の下に沼って動かされ
る。ディスクの形に応じて、流出孔は大きくまたけ小さ
く閉鎖さカる。しかしこのような機械的装置にょハば液
体チッ素の周期的計量しか可能でない。
i1量装置が公知であり、この場合垂直軸を中心に回転
しうるディスクがチッ素の流出孔の下に沼って動かされ
る。ディスクの形に応じて、流出孔は大きくまたけ小さ
く閉鎖さカる。しかしこのような機械的装置にょハば液
体チッ素の周期的計量しか可能でない。
さらに西独公開特許公報第3141465号から低沸点
液化ガスの計量を流出孔を形成するニードル弁によって
制御することが公知である。
液化ガスの計量を流出孔を形成するニードル弁によって
制御することが公知である。
この場合ニーISル弁の弁軸はソレノイ1によって上へ
引かれるので、液体チッ素は計量装置の容器本体から流
出することができる。
引かれるので、液体チッ素は計量装置の容器本体から流
出することができる。
この場合とくに空になった容器および引続く新たな充ぞ
んによる長い停止時間後、凍結した弁座または開放後も
はや密閉されない弁座を加熱装置により作業可能にする
ことが必要である。作業中にも空気水分に基く弁座の氷
結晶によって液化ガスの不均一な流わが生ずる。
んによる長い停止時間後、凍結した弁座または開放後も
はや密閉されない弁座を加熱装置により作業可能にする
ことが必要である。作業中にも空気水分に基く弁座の氷
結晶によって液化ガスの不均一な流わが生ずる。
発明が解決しようとする問題点:
本発明の目的は少量の低沸点液化ガスの支障のない計量
を簡単に可能にすることである。
を簡単に可能にすることである。
問題点を解決するための手段:
この目的は特許請求の範囲第1項の上位概念の方法にお
いてその特徴部に記載の特徴により、特許請求の範囲第
6項の上位概念の装置においてその特徴部に記載の特徴
により解決される。
いてその特徴部に記載の特徴により、特許請求の範囲第
6項の上位概念の装置においてその特徴部に記載の特徴
により解決される。
本発明の他の有利な形成は特許請求の範囲第2〜5項お
よび第7〜10項に記載される。
よび第7〜10項に記載される。
作 用 :
本発明により達成される利点は流出孔から流出する低沸
点液化ガス流の支障のない流出開始および遮断が保証さ
れることにある。この場合液体を系に充てんする前にと
くに流出孔および室、場合により全系(容器、導管)を
乾燥ガスで洗うこともできる。
点液化ガス流の支障のない流出開始および遮断が保証さ
れることにある。この場合液体を系に充てんする前にと
くに流出孔および室、場合により全系(容器、導管)を
乾燥ガスで洗うこともできる。
実施例:
次に本発明の実施例を図面により説明する。
第1図に示す装置は導管2の端部にある液化ガスの供給
に役立つ焼結金属体1を有する。焼結金属体1は容器3
内に配置さね、この容器は壁14に容器内部へ距離21
をもって配置した液化ガス流出凡手および容器上部に蒸
発したガスの多数の取出孔5を備える。
に役立つ焼結金属体1を有する。焼結金属体1は容器3
内に配置さね、この容器は壁14に容器内部へ距離21
をもって配置した液化ガス流出凡手および容器上部に蒸
発したガスの多数の取出孔5を備える。
流出凡手は周囲23にねじ24を有するとくに円筒体2
2内に配置される。円筒体22は外ねじ24によって内
ねじ25を備える接続管26へねじこまれ、接続管の容
器内へ突入する長さ27は円筒体22の長さ28より大
きい。
2内に配置される。円筒体22は外ねじ24によって内
ねじ25を備える接続管26へねじこまれ、接続管の容
器内へ突入する長さ27は円筒体22の長さ28より大
きい。
接続管26は流出凡手の流出側端面30により容器壁1
4内の接続管外径31に相当する孔に配置され、容器壁
14と溶接される。
4内の接続管外径31に相当する孔に配置され、容器壁
14と溶接される。
流出孔4.の流入側32の前にポット状の多孔性焼結金
属体13が接続管26と固定結合するディスク33上に
設置さね、底を形成するディスク33とともに容器3と
分離した室15が形成される。室15へ電磁弁17によ
り遮断される導管16が接続する。容器δ自体は断熱拐
を備える第2容器6によって抱囲される。容器3と6の
間に間隙8が形成される。容器6および断熱材7はガス
出口孔9を有し、この孔は容器3の液化ガスの流出孔4
の下方に配置される。
属体13が接続管26と固定結合するディスク33上に
設置さね、底を形成するディスク33とともに容器3と
分離した室15が形成される。室15へ電磁弁17によ
り遮断される導管16が接続する。容器δ自体は断熱拐
を備える第2容器6によって抱囲される。容器3と6の
間に間隙8が形成される。容器6および断熱材7はガス
出口孔9を有し、この孔は容器3の液化ガスの流出孔4
の下方に配置される。
本発明による装置の機能は次のとおりである:ガスと混
合した圧力下にある液化ガスたとえばチッ素は導管2を
介して断面が導管より大きい焼結金属体1へ入る。焼結
金属体1はガス状および液状のガスに対し透過性である
。膨張して大気圧下にある一196℃で沸とうする液体
チッ素10は容器3の底に集まる。同様−196℃のガ
ス状チッ素は取出孔5を介して容器3と6の間隙8へ入
る。ガスの流れは矢印11で示される。低温ガスは徐々
に大きいガス出口孔9へ流れ、その際全装置は容器δ内
にある液体チッ素が外側からできるだけ少量の熱しか供
給されないように深冷される。ガス状チッ素11の流速
が低いため流出凡手から流出する液体チッ素の流れはガ
ス流によって妨害されない。流出孔は交換可能の円筒体
22からなるので、流出する液体流の太さは単位時間当
りの所要量に応じて変化することができる。流出凡手の
断面積のほか単位時間当り連続的に流出する液体チッ素
の量は液体チッ素10の液面の高官によっても決定され
る。それゆえ液面は高さ調節可能の測定ゾンデ12VC
より一定に保持され、このゾンデにより必要に応じて導
管2に配置した図示されていない電磁弁が開閉される。
合した圧力下にある液化ガスたとえばチッ素は導管2を
介して断面が導管より大きい焼結金属体1へ入る。焼結
金属体1はガス状および液状のガスに対し透過性である
。膨張して大気圧下にある一196℃で沸とうする液体
チッ素10は容器3の底に集まる。同様−196℃のガ
ス状チッ素は取出孔5を介して容器3と6の間隙8へ入
る。ガスの流れは矢印11で示される。低温ガスは徐々
に大きいガス出口孔9へ流れ、その際全装置は容器δ内
にある液体チッ素が外側からできるだけ少量の熱しか供
給されないように深冷される。ガス状チッ素11の流速
が低いため流出凡手から流出する液体チッ素の流れはガ
ス流によって妨害されない。流出孔は交換可能の円筒体
22からなるので、流出する液体流の太さは単位時間当
りの所要量に応じて変化することができる。流出凡手の
断面積のほか単位時間当り連続的に流出する液体チッ素
の量は液体チッ素10の液面の高官によっても決定され
る。それゆえ液面は高さ調節可能の測定ゾンデ12VC
より一定に保持され、このゾンデにより必要に応じて導
管2に配置した図示されていない電磁弁が開閉される。
流出凡手から連続的に流出する計量された液体流れは室
15への遮断ガスの連続的供給によって遮断される。こ
の場合流出凡手を保持する円筒体22を容器δ内に距離
21をもって配置することにより流出孔4は全長28に
わたって液体チッ素10で包囲されるので、液体流れ遮
断の全時間の間流出凡手の冷却が行われる。付加的に液
体チッ素10を通って遮断ガス気泡が間隙8へ上昇する
ことによって液体流り遮断の間も装置の冷却が達成され
る。この場合液体チッ素の圧力をとくに01〜04パー
ル超える遮断圧力によりきわめて低いガス消費量で十分
な遮断圧力が達成され、室15は液体から分離され、流
出孔Φは乾いた遮断ガスと液体の混合を生ずることなく
乾き状態に維持される。この場合低い遮断圧力は流出凡
手の前の焼結金属体13の配置によって達成きれ、液体
チッ素1oの室]5への静圧が低下さね、同時にたとえ
ば金属切粉のような付加的異物粒子が流出孔4がら隔離
される。約I Q C++13のとくに小さい容積を有
する室15へこの圧力で送られる遮断ガスはこの室容積
の場合直径約2市の流出凡手および焼結金属体13の不
規則に形成された孔34を介して逃げる。導管16VC
配置した電磁弁17を介するガス供給中断の際、液体チ
ッ素はただちに再び流出凡手から流出し、その際がス供
給中断と液体流出の間に測定可能の時間差は認めらh、
ない。他の低温で安定なフィルタたとえばンーブヲ使用
しうろことは明らかである。この場合焼結金属体13の
孔34は全体で、流出凡手の液体通過の遅れを避けるた
め、流出凡手より大きくなければならない。
15への遮断ガスの連続的供給によって遮断される。こ
の場合流出凡手を保持する円筒体22を容器δ内に距離
21をもって配置することにより流出孔4は全長28に
わたって液体チッ素10で包囲されるので、液体流れ遮
断の全時間の間流出凡手の冷却が行われる。付加的に液
体チッ素10を通って遮断ガス気泡が間隙8へ上昇する
ことによって液体流り遮断の間も装置の冷却が達成され
る。この場合液体チッ素の圧力をとくに01〜04パー
ル超える遮断圧力によりきわめて低いガス消費量で十分
な遮断圧力が達成され、室15は液体から分離され、流
出孔Φは乾いた遮断ガスと液体の混合を生ずることなく
乾き状態に維持される。この場合低い遮断圧力は流出凡
手の前の焼結金属体13の配置によって達成きれ、液体
チッ素1oの室]5への静圧が低下さね、同時にたとえ
ば金属切粉のような付加的異物粒子が流出孔4がら隔離
される。約I Q C++13のとくに小さい容積を有
する室15へこの圧力で送られる遮断ガスはこの室容積
の場合直径約2市の流出凡手および焼結金属体13の不
規則に形成された孔34を介して逃げる。導管16VC
配置した電磁弁17を介するガス供給中断の際、液体チ
ッ素はただちに再び流出凡手から流出し、その際がス供
給中断と液体流出の間に測定可能の時間差は認めらh、
ない。他の低温で安定なフィルタたとえばンーブヲ使用
しうろことは明らかである。この場合焼結金属体13の
孔34は全体で、流出凡手の液体通過の遅れを避けるた
め、流出凡手より大きくなければならない。
遮断11こは乾燥ガスとして計量装置の本来の深冷沸と
うガスを使用するのがとくに有利なことが明らかになっ
た。もちろん沸点が液化ガスのそれより低い他の乾燥ガ
ス、たとえば液体チツ素に対してヘリウムガスまたは液
体アルゴンに対しチッ素ガスを使用することもできる。
うガスを使用するのがとくに有利なことが明らかになっ
た。もちろん沸点が液化ガスのそれより低い他の乾燥ガ
ス、たとえば液体チツ素に対してヘリウムガスまたは液
体アルゴンに対しチッ素ガスを使用することもできる。
第2図は本発明による遮断装置の他の実施例を示し、第
2図aVCは室15の垂直1置、第2図すには室15の
水装置が示される。この場合室15は容器3の壁14の
前に前室18として形成され、その液体チッ素の通過孔
2oは板状焼結金属体13によって閉鎖される。前室1
8には本発明の方法によりとくに簡単かつ安価に製造し
うる流出凡手が配置される。室15へ遮断ガス供給導管
16が開口し、この導管は水平またけ垂直位置で室15
へ接続することができる。
2図aVCは室15の垂直1置、第2図すには室15の
水装置が示される。この場合室15は容器3の壁14の
前に前室18として形成され、その液体チッ素の通過孔
2oは板状焼結金属体13によって閉鎖される。前室1
8には本発明の方法によりとくに簡単かつ安価に製造し
うる流出凡手が配置される。室15へ遮断ガス供給導管
16が開口し、この導管は水平またけ垂直位置で室15
へ接続することができる。
第3図aには水平位置に配置した管状容器3が示され、
その端壁14に流出孔Φが配置される。管状容器3の室
15は流出凡手の前に板状焼結金属体13を組込むこと
によって得らねる。室15へ遮断ガス供給導管16が接
続される。
その端壁14に流出孔Φが配置される。管状容器3の室
15は流出凡手の前に板状焼結金属体13を組込むこと
によって得らねる。室15へ遮断ガス供給導管16が接
続される。
管状容器3を流出凡手が上昇するように水平に対しとく
に15°以上の角度19で傾斜配置し(第3図b)、寸
たけ図示さねでいない容器の上部がL形輪かく有し、そ
の」二部の曲り部分に流出孔を配置する場合、遮断装置
は焼結金属体13なしで作動する。室15はこの場合環
状容器3内に得らねる気泡によって形成される。
に15°以上の角度19で傾斜配置し(第3図b)、寸
たけ図示さねでいない容器の上部がL形輪かく有し、そ
の」二部の曲り部分に流出孔を配置する場合、遮断装置
は焼結金属体13なしで作動する。室15はこの場合環
状容器3内に得らねる気泡によって形成される。
第1図は本発明の装置の縦断面図、第2図は遮断装置の
2つの実施例の縦断面図、第3図は管状容器の際の遮断
装置の2つの実施例の縦断面図である。
2つの実施例の縦断面図、第3図は管状容器の際の遮断
装置の2つの実施例の縦断面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ]−断熱容器の流出孔から流出する少量の低沸点液化ガ
スを計量する方法において、容器(3)の流出孔(4)
を気泡によって遮断することを特徴とする少量の低沸点
液化ガスを計量する方法。 2 液化ガスの圧力を01〜5パール超える遮断圧力の
気泡を維持する特許請求の範囲第1項記載の方法。 3、 液化ガスの圧力を01〜04パール超える遮断圧
力の気泡を維持する特許請求の範囲第1項または第2項
記載の方法。 4、 容器(3)を流出孔(4)が上昇するように水平
に対し傾斜配置する特許請求の範囲第1項から第3項1
でのいずれか1項記載の方法。 5 容器(3)を流出孔(4)が上昇するように水平に
対し15°以上傾斜配置する特許請求の範囲第1項から
第牛項1でのいずねか1項記載の方法。 6、 液化ガスの流出孔およびこの孔に配置した遮断装
置を含む容器を有し、遮断装置が液化ガス流入のための
孔を有する少量の低沸点液化ガスを計量する装置におい
て、室(15)が遮断装置であり、この室(15)へ遮
断ガスの供給導管(16)が接続していることを特徴と
する少量の低沸点液化ガスを開開する装置。 7 室(15)および流出孔(4,)を有する円筒体(
22)が容器(3)内に距離(21)をもって配置さ力
、かつ液化ガスによって包囲されている特許請求の範囲
第6項記載の装置。 8 室(15)の少なくとも1つの孔(20)が多孔体
(13)として形成されている特許請求の範囲第6項ま
たは第7項記載の装置。 9 多孔体(13)の孔(34)が全体で流出孔(4)
より大きい特許請求の範囲第6項から第8項までのいず
わが1項記載の装置。 ]0 多孔体(13)がポット状の焼結体である特許請
求の範囲第6項から第9項1でのいずれか1項記載の装
置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3402292A DE3402292C2 (de) | 1984-01-24 | 1984-01-24 | Verfahren und Vorrichtung zum Dosieren kleiner Mengen eines tiefsiedenden, verflüssigten Gases |
DE3402292.9 | 1984-01-24 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60168996A true JPS60168996A (ja) | 1985-09-02 |
JPH0559319B2 JPH0559319B2 (ja) | 1993-08-30 |
Family
ID=6225735
Family Applications (1)
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