JPH0559319B2 - - Google Patents
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- JPH0559319B2 JPH0559319B2 JP856885A JP856885A JPH0559319B2 JP H0559319 B2 JPH0559319 B2 JP H0559319B2 JP 856885 A JP856885 A JP 856885A JP 856885 A JP856885 A JP 856885A JP H0559319 B2 JPH0559319 B2 JP H0559319B2
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- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65B—MACHINES, APPARATUS OR DEVICES FOR, OR METHODS OF, PACKAGING ARTICLES OR MATERIALS; UNPACKING
- B65B31/00—Packaging articles or materials under special atmospheric or gaseous conditions; Adding propellants to aerosol containers
-
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- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65B—MACHINES, APPARATUS OR DEVICES FOR, OR METHODS OF, PACKAGING ARTICLES OR MATERIALS; UNPACKING
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- B65B31/006—Adding fluids for preventing deformation of filled and closed containers or wrappers
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- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野：
本発明は特許請求の範囲第１項の上位概念によ
る少量の低沸点液化ガスを遮断する方法および特
許請求の範囲第２項の上位概念によるこの方法を
実施する装置に関する。
る少量の低沸点液化ガスを遮断する方法および特
許請求の範囲第２項の上位概念によるこの方法を
実施する装置に関する。
とくに液体チツ素遮断装置により少量の低沸点
液化ガスを遮断する際、必要に応じて周期的にも
接続しうる均一な、支障のないいつでも遮断しう
る液化ガスの通過が達成されなければならない。
液化ガスを遮断する際、必要に応じて周期的にも
接続しうる均一な、支障のないいつでも遮断しう
る液化ガスの通過が達成されなければならない。
従来の技術：
ドイツ連邦共和国特許出願公開第2732318号明
細書から液体チツ素の遮断装置が公知であり、こ
の場合垂直軸を中心に回転しうるデイスクがチツ
素の流出孔の下に沿つて動かされる。デイスクの
形に応じて流出孔は大きくまたは小さく閉鎖され
る。しかしこのような機械的装置によれば液体チ
ツ素の周期的遮断しか可能でない。
細書から液体チツ素の遮断装置が公知であり、こ
の場合垂直軸を中心に回転しうるデイスクがチツ
素の流出孔の下に沿つて動かされる。デイスクの
形に応じて流出孔は大きくまたは小さく閉鎖され
る。しかしこのような機械的装置によれば液体チ
ツ素の周期的遮断しか可能でない。
さらにドイツ連邦共和国特許出願公開第
3141465号明細書から低沸点液化ガスの遮断を流
出孔を形成するニードル弁によつて制御すること
が公知である。この場合ニードル弁の弁軸はソレ
ノイドによつて上へ引かれるので、液体チツ素は
遮断装置の容器本体から流出することができる。
3141465号明細書から低沸点液化ガスの遮断を流
出孔を形成するニードル弁によつて制御すること
が公知である。この場合ニードル弁の弁軸はソレ
ノイドによつて上へ引かれるので、液体チツ素は
遮断装置の容器本体から流出することができる。
この場合とくに空になつた容器および引続く新
たな充てんによる長い停止時間後、凍結した弁座
または開放後もはや密閉されない弁座を加熱装置
により作業可能にすることが必要である。作業中
にも空気水分に基く弁座の氷結晶によつて液化ガ
スの不均一な流れが生ずる。
たな充てんによる長い停止時間後、凍結した弁座
または開放後もはや密閉されない弁座を加熱装置
により作業可能にすることが必要である。作業中
にも空気水分に基く弁座の氷結晶によつて液化ガ
スの不均一な流れが生ずる。
発明が解決しようとする課題：
本発明の課題は少量の低沸点液化ガスの支障の
ない遮断を簡単に可能にすることである。
ない遮断を簡単に可能にすることである。
課題を解決するための手段：
この課題は、本発明によれば、特許請求の範囲
第１項の特徴部に記載された特徴、即ち流出する
液化ガスを遮断するために、流出孔の前に高めた
圧力下にあるガスボルスタを構成し、その際ガス
ボルスタの高めた圧力は少なくとも、流出孔の周
囲を支配する液化ガスの全圧に一致することによ
つて解決される。
第１項の特徴部に記載された特徴、即ち流出する
液化ガスを遮断するために、流出孔の前に高めた
圧力下にあるガスボルスタを構成し、その際ガス
ボルスタの高めた圧力は少なくとも、流出孔の周
囲を支配する液化ガスの全圧に一致することによ
つて解決される。
さらに、本発明方法を実施する装置は、特許請
求の範囲第２項の記載により、液化ガスの流出孔
およびこの孔に所属せる液化ガスの遮断手段を備
える室を有し、該流出孔に、高めた圧力下にある
ガスボルスタの供給導管が接続されていることを
特徴とする。
求の範囲第２項の記載により、液化ガスの流出孔
およびこの孔に所属せる液化ガスの遮断手段を備
える室を有し、該流出孔に、高めた圧力下にある
ガスボルスタの供給導管が接続されていることを
特徴とする。
本発明による装置の他の有利な実施態様は、特
許請求の範囲第３項〜第７項に記載されている。
許請求の範囲第３項〜第７項に記載されている。
作 用：
本発明による方法は、流出する液化ガスを遮断
するために、多孔体と流出孔の前に高めた圧力下
にあるガスボルスタを構成し、その際ガスボルス
タは遮断ガスの連続的供給によつて維持される。
この場合、流出孔は多孔体の空〓を介して液体と
結合している。容器の流出孔（第１図、第２図お
よび第３ａ図参照）は、これらの図面に示された
容器の位置では、流出孔の前に多孔体が配置され
ている場合にのみ、ガスボルスタで遮断すること
ができる。この多孔体の多数の空〓によつて、流
出孔前方の液体窒素の静水圧が減少し、流出孔中
への液体窒素の流入が阻止される。
するために、多孔体と流出孔の前に高めた圧力下
にあるガスボルスタを構成し、その際ガスボルス
タは遮断ガスの連続的供給によつて維持される。
この場合、流出孔は多孔体の空〓を介して液体と
結合している。容器の流出孔（第１図、第２図お
よび第３ａ図参照）は、これらの図面に示された
容器の位置では、流出孔の前に多孔体が配置され
ている場合にのみ、ガスボルスタで遮断すること
ができる。この多孔体の多数の空〓によつて、流
出孔前方の液体窒素の静水圧が減少し、流出孔中
への液体窒素の流入が阻止される。
本発明により達成される利点は流出孔から流出
する低沸点液化ガス流の支障のない流出開始およ
び遮断が保証されることにある。この場合液体を
系に充てんする前にとくに流出孔および室、場合
により全系（容器、導管）を乾燥ガスで洗うこと
もできる。
する低沸点液化ガス流の支障のない流出開始およ
び遮断が保証されることにある。この場合液体を
系に充てんする前にとくに流出孔および室、場合
により全系（容器、導管）を乾燥ガスで洗うこと
もできる。
実施例：
次に本発明の実施例を図面により説明する。
第１図に示す装置は導管２の端部にある液化ガ
スの供給に役立つ焼結金属体１を有する。焼結金
属体１は容器３内に配置され、この容器は壁１４
に容器内部へ距離２１をもつて配置した液化ガス
流出孔４および容器上部に蒸発したガスの多数の
取出孔５を備える。
スの供給に役立つ焼結金属体１を有する。焼結金
属体１は容器３内に配置され、この容器は壁１４
に容器内部へ距離２１をもつて配置した液化ガス
流出孔４および容器上部に蒸発したガスの多数の
取出孔５を備える。
流出孔４は周囲２３にねじ２４を有するとくに
円筒体２２内に配置される。円筒体２２は外ねじ
２４によつて内ねじ２５を備える接続管２６へね
じこまれ、接続管の容器内へ突入する長さ２７は
円筒体２２の長さ２８より大きい。
円筒体２２内に配置される。円筒体２２は外ねじ
２４によつて内ねじ２５を備える接続管２６へね
じこまれ、接続管の容器内へ突入する長さ２７は
円筒体２２の長さ２８より大きい。
接続管２６は流出孔４の流出側端面３０により
容器壁１４内の接続管外径３１に相当する孔に配
置され、容器壁１４と溶接される。
容器壁１４内の接続管外径３１に相当する孔に配
置され、容器壁１４と溶接される。
流出孔４の流入側３２の前にポツト状の多孔性
焼結金属体１３が接続管２６と固定結合するデイ
スク３３上に配置され、底を形成するデイスク３
３とともに容器３と分離した室１５が形成され
る。室１５へ電磁弁１７により遮断される導管１
６が接続する。容器３自体は断熱材を備える第２
容器６によつて泡囲される。容器３と６の間に間
〓８が形成される。容器６および断熱材７はガス
出口孔９を有し、この孔は容器３の液化ガスの流
出孔４の下方に配置される。
焼結金属体１３が接続管２６と固定結合するデイ
スク３３上に配置され、底を形成するデイスク３
３とともに容器３と分離した室１５が形成され
る。室１５へ電磁弁１７により遮断される導管１
６が接続する。容器３自体は断熱材を備える第２
容器６によつて泡囲される。容器３と６の間に間
〓８が形成される。容器６および断熱材７はガス
出口孔９を有し、この孔は容器３の液化ガスの流
出孔４の下方に配置される。
本発明による装置の機能は次のとおりである：
ガスと混合した圧力下にある液化ガスたとえばチ
ツ素は導管２を介して断面が導管より大きい焼結
金属体１へ入る。焼結金属体１はガス状および液
状のガスに対し透過性である。膨張して大気圧下
にある−196℃で沸とうする液体チツ素１０は容
器３の底に集まる。同様−196℃のガス状チツ素
は取出孔５を介して容器３と６の間〓８へ入る。
ガスの流れは矢印１１で示される。低温ガスは
徐々に大きいガス出口孔９へ流れ、その際全装置
は容器３内にある液体チツ素が外側からできるだ
け少量の熱しか供給されないように深冷される。
ガス状チツ素１１の流速が低いため流出孔４から
流出する液体チツ素の流れはガス流によつて妨害
されない。流出孔は交換可能の円筒体２２からな
るので、流出する液体流の太さは単位時間当りの
所要量に応じて変化することができる。流出孔４
の断面積のほか単位時間当り連続的に流出する液
体チツ素の量は液体チツ素１０の液面の高さによ
つても決定される。それゆえ液面は高さ調節可能
の測定ゾンデ１２により一定に保持され、このゾ
ンデにより必要に応じて導管２に配置した図示さ
れていない電磁弁が開閉される。流出孔４から連
続的に流出する計量された液体流れは室１５への
遮断ガスの連続的供給によつて遮断される。この
場合流出孔４を保持する円筒体２２を容器３内に
距離２１をもつて配置することにより流出孔４は
全長２８にわたつて液体チツ素１０で包囲される
ので、液体流れ遮断の全時間の間流出孔４の冷却
が行われる。付加的に液体チツ素１０を通つて遮
断ガス気泡が間〓８へ上昇することによつて液体
流れ遮断の間も装置の冷却が達成される。この場
合液体チツ素の圧力をとくに0.1〜0.4バール超え
る遮断圧力によりきわめて低いガス消費量で十分
な遮断圧力が達成され、室１５は液体から分離さ
れ、流出孔４は乾いた遮断ガスと液の混合を生ず
ることなく乾き状態に維持される。この場合低い
遮断圧力は流出孔４の前の焼結金属体１３の配置
によつて達成され、液体チツ素１０の室１５への
静圧が低下され、同時にたとえば金属切粉のよう
な付加的異物粒子が流出孔４から隔離される。約
10cm3のとくに小さい容積を有する室１５へこの圧
力で送られる遮断ガスはこの室容積の場合直径約
２mmの流出孔４および焼結金属体１３の不規則に
形成された孔３４を介して逃げる。導管１６に配
置した電磁弁１７を介するガス供給中断の際、液
体チツ素はただちに再び流出孔４から流出し、そ
の際ガス供給中断と液体流出の間に測定可能の時
間差は認められない。他の低温で安定なフイルタ
たとえばシーブを使用しうることは明らかであ
る。この場合焼結金属体１３の孔３４は全体で、
流出孔４の液体通過の遅れを避けるため、流出孔
４より大きくなければならない。
ガスと混合した圧力下にある液化ガスたとえばチ
ツ素は導管２を介して断面が導管より大きい焼結
金属体１へ入る。焼結金属体１はガス状および液
状のガスに対し透過性である。膨張して大気圧下
にある−196℃で沸とうする液体チツ素１０は容
器３の底に集まる。同様−196℃のガス状チツ素
は取出孔５を介して容器３と６の間〓８へ入る。
ガスの流れは矢印１１で示される。低温ガスは
徐々に大きいガス出口孔９へ流れ、その際全装置
は容器３内にある液体チツ素が外側からできるだ
け少量の熱しか供給されないように深冷される。
ガス状チツ素１１の流速が低いため流出孔４から
流出する液体チツ素の流れはガス流によつて妨害
されない。流出孔は交換可能の円筒体２２からな
るので、流出する液体流の太さは単位時間当りの
所要量に応じて変化することができる。流出孔４
の断面積のほか単位時間当り連続的に流出する液
体チツ素の量は液体チツ素１０の液面の高さによ
つても決定される。それゆえ液面は高さ調節可能
の測定ゾンデ１２により一定に保持され、このゾ
ンデにより必要に応じて導管２に配置した図示さ
れていない電磁弁が開閉される。流出孔４から連
続的に流出する計量された液体流れは室１５への
遮断ガスの連続的供給によつて遮断される。この
場合流出孔４を保持する円筒体２２を容器３内に
距離２１をもつて配置することにより流出孔４は
全長２８にわたつて液体チツ素１０で包囲される
ので、液体流れ遮断の全時間の間流出孔４の冷却
が行われる。付加的に液体チツ素１０を通つて遮
断ガス気泡が間〓８へ上昇することによつて液体
流れ遮断の間も装置の冷却が達成される。この場
合液体チツ素の圧力をとくに0.1〜0.4バール超え
る遮断圧力によりきわめて低いガス消費量で十分
な遮断圧力が達成され、室１５は液体から分離さ
れ、流出孔４は乾いた遮断ガスと液の混合を生ず
ることなく乾き状態に維持される。この場合低い
遮断圧力は流出孔４の前の焼結金属体１３の配置
によつて達成され、液体チツ素１０の室１５への
静圧が低下され、同時にたとえば金属切粉のよう
な付加的異物粒子が流出孔４から隔離される。約
10cm3のとくに小さい容積を有する室１５へこの圧
力で送られる遮断ガスはこの室容積の場合直径約
２mmの流出孔４および焼結金属体１３の不規則に
形成された孔３４を介して逃げる。導管１６に配
置した電磁弁１７を介するガス供給中断の際、液
体チツ素はただちに再び流出孔４から流出し、そ
の際ガス供給中断と液体流出の間に測定可能の時
間差は認められない。他の低温で安定なフイルタ
たとえばシーブを使用しうることは明らかであ
る。この場合焼結金属体１３の孔３４は全体で、
流出孔４の液体通過の遅れを避けるため、流出孔
４より大きくなければならない。
遮断または乾燥ガスとして計量装置の本来の深
冷沸とうガスを使用するのがとくに有利なことが
明らかになつた。もちろん沸点が液化ガスのそれ
より低い他の乾燥ガス、たとえば液体チツ素に対
してヘリウムガスまたは液体アルゴンに対しチツ
素ガスを使用することもできる。
冷沸とうガスを使用するのがとくに有利なことが
明らかになつた。もちろん沸点が液化ガスのそれ
より低い他の乾燥ガス、たとえば液体チツ素に対
してヘリウムガスまたは液体アルゴンに対しチツ
素ガスを使用することもできる。
第２図は本発明による遮断装置の他の実施例を
示し、第２図ａには室１５の垂直配置、第２図ｂ
には室１５の水配置が示される。この場合室１５
は容器３の壁１４の前に前室１８として形成さ
れ、その液体チツ素の通過孔２０は板状焼結金属
体１３によつて閉鎖される。前室１８には本発明
の方法によりとくに簡単かつ安価に製造しうる流
出孔４が配置される。室１５へ遮断ガス供給導管
１６が開口し、この導管は水平または垂直位置で
室１５へ接続することができる。
示し、第２図ａには室１５の垂直配置、第２図ｂ
には室１５の水配置が示される。この場合室１５
は容器３の壁１４の前に前室１８として形成さ
れ、その液体チツ素の通過孔２０は板状焼結金属
体１３によつて閉鎖される。前室１８には本発明
の方法によりとくに簡単かつ安価に製造しうる流
出孔４が配置される。室１５へ遮断ガス供給導管
１６が開口し、この導管は水平または垂直位置で
室１５へ接続することができる。
第３図ａには水平位置に配置した管状容器３が
示され、その端壁１４に流出孔４が配置される。
管状容器３の室１５は流出孔４の前に板状焼結金
属体１３を組込むことによつて得られる。室１５
へ遮断ガス供給導管１６が接続される。
示され、その端壁１４に流出孔４が配置される。
管状容器３の室１５は流出孔４の前に板状焼結金
属体１３を組込むことによつて得られる。室１５
へ遮断ガス供給導管１６が接続される。
管状容器３を流出孔４が上昇するように水平に
対しとくに15゜以上の角度１９で傾斜配置し（第
３図ｂ）、または図示されていない容器の上部が
Ｌ形輪かく有し、その上部の曲り部分に流出孔を
配置する場合、遮断装置は焼結金属体１３なしで
作動する。室１５はこの場合環状容器３内に得ら
れる気泡によつて形成される。
対しとくに15゜以上の角度１９で傾斜配置し（第
３図ｂ）、または図示されていない容器の上部が
Ｌ形輪かく有し、その上部の曲り部分に流出孔を
配置する場合、遮断装置は焼結金属体１３なしで
作動する。室１５はこの場合環状容器３内に得ら
れる気泡によつて形成される。
第１図は本発明の装置の縦断面図、第２図は遮
断装置の２つの実施例の縦断面図、第３図は管状
容器の際の遮断装置の２つの実施例の縦断面図で
ある。 １……焼結金属体、３……容器、４……流出
孔、５……ガス取出孔、６……第２容器、７……
断熱材、１２……液面測定ゾンデ、１３……焼結
金属体、１５……室、１６……遮断ガス供給管、
２２……円筒体。
断装置の２つの実施例の縦断面図、第３図は管状
容器の際の遮断装置の２つの実施例の縦断面図で
ある。 １……焼結金属体、３……容器、４……流出
孔、５……ガス取出孔、６……第２容器、７……
断熱材、１２……液面測定ゾンデ、１３……焼結
金属体、１５……室、１６……遮断ガス供給管、
２２……円筒体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 断熱容器の流出孔から流出しうる少量の低沸
点液化ガスを遮断する方法において、流出する液
化ガスを遮断するために、流出孔４の前に高めた
圧力下にあるガスボルスタを構成し、その際ガス
ボルスタの高めた圧力は少なくとも、流出孔４の
周囲を支配する液化ガスの全圧に一致することを
特徴とする少量の低沸点液化ガスを遮断する方
法。 ２ 液化ガスの流出孔およびこの孔の所属せる液
化ガスの遮断手段を備える容器を有する、断熱容
器の流出孔から流出しうる少量の低沸点液化ガス
を遮断する装置において、流出孔４に、高めた圧
力下にあるガスボルスタの供給導管１６が所属し
ていることを特徴とする少量の低沸点液化ガスを
遮断する装置。 ３ 流出孔４が、液化ガスの供給孔（第１図の３
４および第２図の２０）を有する分離された室１
５に配置されかつ室１５に遮断ガスの供給導管１
６が接続されている、特許請求の範囲第２項記載
の装置。 ４ 室１５および流出孔４を有する物体２２，２
６が容器３内に配置され、かつ液化ガスによつて
包囲されている特許請求の範囲第２項または第３
項記載の装置。 ５ 室１５の少なくとも１つの孔（第１図の３４
および第２図の２０）が多孔体１３として形成さ
れている特許請求の範囲第２項から第４項までの
いずれか１項記載の装置。 ６ 多孔体１３の全空〓３４が流出孔４より大き
い特許請求の範囲第２項から第５項までのいずれ
か１項記載の装置。 ７ 多孔体１３の鉢形の焼結体である特許請求の
範囲第２項から第６項までのいずれか１項記載の
装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3402292.9 | 1984-01-24 | ||
| DE3402292A DE3402292C2 (de) | 1984-01-24 | 1984-01-24 | Verfahren und Vorrichtung zum Dosieren kleiner Mengen eines tiefsiedenden, verflüssigten Gases |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60168996A JPS60168996A (ja) | 1985-09-02 |
| JPH0559319B2 true JPH0559319B2 (ja) | 1993-08-30 |
Family
ID=6225735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60008568A Granted JPS60168996A (ja) | 1984-01-24 | 1985-01-22 | 少量の低沸点液化ガスを遮断する方法および装置 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4586343A (ja) |
| EP (1) | EP0149843B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60168996A (ja) |
| AT (1) | ATE39561T1 (ja) |
| AU (1) | AU571156B2 (ja) |
| CA (1) | CA1258837A (ja) |
| DE (1) | DE3402292C2 (ja) |
| DK (1) | DK160641C (ja) |
| ES (2) | ES8609658A1 (ja) |
| FI (1) | FI77926C (ja) |
| NO (1) | NO161343C (ja) |
| NZ (1) | NZ210879A (ja) |
| ZA (1) | ZA85531B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| US4956975A (en) * | 1989-08-17 | 1990-09-18 | Gustafson Keith W | Shutoff valve for cryogenic liquid storage tank |
| US5271232A (en) * | 1990-07-20 | 1993-12-21 | Toshiba Ceramics Co., Ltd. | Filtration apparatus |
| FR2688469A1 (fr) * | 1992-03-16 | 1993-09-17 | Air Liquide | Dispositif d'injection sequencee d'une dose de liquide cryogenique. |
| US5272881A (en) * | 1992-08-27 | 1993-12-28 | The Boc Group, Inc. | Liquid cryogen dispensing apparatus and method |
| GB9309637D0 (en) * | 1993-05-11 | 1993-06-23 | Boc Group Plc | Cryogenic liquid dispensers |
| US5385025A (en) * | 1994-03-04 | 1995-01-31 | Mg Industries | Apparatus and method for dispensing droplets of a cryogenic liquid |
| US5495717A (en) * | 1994-05-04 | 1996-03-05 | Messer Griesheim Gmbh | Insulated container for storing liquid helium |
| GB9419055D0 (en) * | 1994-09-21 | 1994-11-09 | Boc Group Plc | Liquid dispenser flow calming |
| DE102005044534B3 (de) | 2005-09-17 | 2007-06-06 | Astrium Gmbh | Treibstofftank für kryogene Flüssigkeiten |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5796921A (en) * | 1980-12-03 | 1982-06-16 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | Device for dropping and filling liquefied inert gas |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2436411A (en) * | 1945-12-11 | 1948-02-24 | John A Weaver | Portable liquid oxygen unit |
| US2834366A (en) * | 1957-01-11 | 1958-05-13 | Houdry Process Corp | Valve for gas flow |
| US3270756A (en) * | 1963-04-09 | 1966-09-06 | Hugh L Dryden | Fluid flow control valve |
| US3481205A (en) * | 1966-10-17 | 1969-12-02 | Singer General Precision | Flueric valve element |
| FR1497036A (fr) * | 1966-10-19 | 1967-10-06 | Alfa Laval Ab | Dispositif d'arrêt du débit d'un liquide soutiré d'un réservoir situé à un certain niveau pour être amené dans un réservoir à un niveau inférieur |
| US3605424A (en) * | 1970-03-19 | 1971-09-20 | Nasa | Valving device for automatic refilling in cryogenic liquid systems |
| US3631870A (en) * | 1970-04-14 | 1972-01-04 | Factory Mutual Res Corp | Method of stopping flow in a pipeline |
| US3933003A (en) * | 1974-04-25 | 1976-01-20 | General Dynamics Corporation | Cryostat control |
| US4080802A (en) * | 1976-07-14 | 1978-03-28 | International Telephone And Telegraph Corporation | Hybrid gas cryogenic cooler |
| DE2732318C2 (de) * | 1977-07-16 | 1986-06-26 | Messer Griesheim Gmbh, 6000 Frankfurt | Vorrichtung zum Dosieren kleiner Mengen eines tiefsiedenden verflüssigten Gases |
| AU6832981A (en) * | 1980-03-14 | 1981-09-17 | Pharaoh, P.L.G. | Metering sterilising agent into water |
| DE8107795U1 (de) * | 1981-03-18 | 1983-05-19 | Messer Griesheim Gmbh, 6000 Frankfurt | "vorrichtung zur handhabung und dosierung kleiner mengen tiefkalten fluessigen mediums" |
-
1984
- 1984-01-24 DE DE3402292A patent/DE3402292C2/de not_active Expired
- 1984-12-21 NO NO845221A patent/NO161343C/no unknown
- 1984-12-24 AT AT84116275T patent/ATE39561T1/de not_active IP Right Cessation
- 1984-12-24 EP EP19840116275 patent/EP0149843B1/de not_active Expired
-
1985
- 1985-01-08 US US06/689,790 patent/US4586343A/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-01-11 CA CA000471994A patent/CA1258837A/en not_active Expired
- 1985-01-16 ES ES539609A patent/ES8609658A1/es not_active Expired
- 1985-01-18 NZ NZ210879A patent/NZ210879A/en unknown
- 1985-01-21 FI FI850269A patent/FI77926C/fi not_active IP Right Cessation
- 1985-01-22 JP JP60008568A patent/JPS60168996A/ja active Granted
- 1985-01-23 DK DK29585A patent/DK160641C/da not_active IP Right Cessation
- 1985-01-23 AU AU38026/85A patent/AU571156B2/en not_active Ceased
- 1985-01-23 ZA ZA85531A patent/ZA85531B/xx unknown
-
1986
- 1986-05-09 ES ES554852A patent/ES8801556A1/es not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5796921A (en) * | 1980-12-03 | 1982-06-16 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | Device for dropping and filling liquefied inert gas |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NO161343C (no) | 1989-08-02 |
| US4586343A (en) | 1986-05-06 |
| DK160641C (da) | 1991-09-02 |
| JPS60168996A (ja) | 1985-09-02 |
| AU571156B2 (en) | 1988-03-31 |
| DK160641B (da) | 1991-04-02 |
| FI850269L (fi) | 1985-07-25 |
| FI77926C (fi) | 1989-05-10 |
| NZ210879A (en) | 1986-09-10 |
| DE3402292C2 (de) | 1986-01-23 |
| NO845221L (no) | 1985-07-25 |
| EP0149843B1 (de) | 1988-12-28 |
| ATE39561T1 (de) | 1989-01-15 |
| FI77926B (fi) | 1989-01-31 |
| DK29585D0 (da) | 1985-01-23 |
| ES539609A0 (es) | 1986-09-01 |
| NO161343B (no) | 1989-04-24 |
| DE3402292A1 (de) | 1985-08-01 |
| ZA85531B (en) | 1985-08-28 |
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| ES554852A0 (es) | 1988-02-16 |
| CA1258837A (en) | 1989-08-29 |
| ES8801556A1 (es) | 1988-02-16 |
| ES8609658A1 (es) | 1986-09-01 |
| EP0149843A2 (de) | 1985-07-31 |
| AU3802685A (en) | 1985-08-01 |
| EP0149843A3 (en) | 1986-05-14 |
| DK29585A (da) | 1985-07-25 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |