JPS60166681A - 新規キノロン化合物およびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は新規キノロン化合物およびその塩に関する。

さらに詳しく一：、この発明は抗菌活性を有する新規キ
ノロン化合物およびその塩、その製造法、ならびにそれ
を含有する医薬もしくはＵＪ物薬組成物に関する。

すなわち、この発１ｙ−１の一つの１・１的は、多くの
病原菌に対して活性を有する新規キノロン化合物および
その塩を提供することである。

この発明のもう一つの目的は、新規キノロン化合物およ
びその塩の製造法を提供することである。

この発明のさらにもう一つの目的は、有効成分として前
記新規キノロン化合物およびその塩を含有する医薬もし
くけ動物薬組成物を提供することである。

［問題点を解決するだめの手段−Ｊ 目的とするキノロン化合物は新規であり、下記一般式（
Ｉ）で示すことかできる。

（式中　Ｒ１は水素またはハロゲン、 １３２は適当々置換基を有していてもよい縮合複素環基
、 Ｒ５けカルボキシ基またはエステル化されたカルボキシ
基、 Ｒ４はハロゲン、 Ｒ４−適当な置換基を有していてもよい低級アルキル基
、またはシクロ（低級）アルキル基をそれぞれ意味する
か、 捷だは、 Ｒ３は水素、 Ｒ４は適当な置換基を有する低級アルキル基、寸たはシ
クロ（低級）アルキル基をそれぞれ意味する。）この発
Ｌｆ、によれｄ５、新規キノロン化合物（Ｉ＋は下記の
反応式て説明される製造法により製造することかできる
。

　７− 製造法 （ｎ） またはその塩 （１） またはその塩 （式中、ＲＺ　Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４およびＲ５はそれぞれ
前と同じ意味であり、 Ｘは酸残基を意味する） この発明の原料化合物（［１および＠１１のある物は新
規であり、゛後述の製造例１〜１６で説明する製造法に
よって製造することができる。

　８− 目的化合物（Ｉ）の好適な塩は慣用の無毒性塩であり、
例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩お
よび、例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカ
リ土類金属塩のよう々金属塩、アンモニウム塩、例えば
トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩
、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ、Ｎ’−
ジベンジルエチレンジアミン塩等の有機塩基塩、例えば
酢酸塩、１−　ＩＪフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒
石酸塩、メクンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、
ギ酸塩、トルエンスルホン酸塩等の有機酸塩、例えば塩
酸塩、臭化水素酸塩、ヨク化水素酸塩、硫酸塩、リン酸
塩等の無機酸塩、または、例えばアルギニン、アスパラ
ギン酸、グルタミン酸等のアミノ酸との塩等が挙げられ
る。

この明細書の以上および以下の記載において、この発明
の範囲内に包含される種々の定義の好適々例および説明
を以下詳細に述べる。

「低級−１とは、特に指示がなければ、炭素原子１〜６
個を意味するものとする。

好適な「低級アルキル基−１としては、メチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、ブチル、第三級ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル等のような炭素原子１〜６個を有する
直鎖状捷たは分枝鎖状アルキル基が挙げられ、それらの
１個級アルキル基−１は例えば、塩素、臭素、フッ素お
よびヨウ素等のハロゲン等のような適当な置換基を有し
ていてもよい。

好適な［シクロ（低級）アルキル基−１としては、シク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル捷だはシク
ロヘキシルのような炭素原子３〜６個を有するものが挙
げられる。

好適な「ハロゲン」としては、塩素、臭素、フッ素およ
びヨウ素が挙げられる。

好適な「縮合複素環基−１としては、酸素原子、窒素原
子まだはイオウ原子のようなペテロ原子を少なくとも１
個含む飽和または不飽和縮合複素環基が挙げられ、その
よりな「縮合複素環基」としては、インドリル、過ヒド
ロインドリル、過ヒドロキシリニル、１，４−ジアザビ
シクロ［４，３，０］ノナニル、］、］４−ジアザビシ
クロ４．４．Ｏｌデ゛カニル、２，５−ジアザビシクロ
［４，４，０］テカニル、イミダゾ［２，３−ｃ］ピペ
ラジニル、１．４．８−トリアザビシクロ［４，４，０
］テカニル、４．５．６．７−テトラヒドロ−】Ｈ−ピ
ラゾロ［４，３−ｃ］ピリジル、２　Ｈ−ピラゾロ［４
，３−ｃ］ピペリジル等のような窒素原子１〜５個を含
むもの、２．３−ジヒドロベンゾオキサシリル、２−オ
キソ−５−アザビシクロ［４，４，０］テカニル、ピリ
ド［４，：３−ｂ］モルホリニル、ピラノ［３，４−ｄ
］イミダゾリジニル等のような窒素原子１〜４個および
酸素原子１〜２個を含むもの、 ２．３−ジヒドロベンゾチアゾリル、２，３−ジヒドロ
ベンゾチアジアゾリル等のような窒素原子１〜２個およ
びイオウ原子１〜２個を含むもの、４Ｈ［］、、３］オ
キサチオロ［５，４−ｂ］ピロリル等のような窒素原子
１〜４個、酸素原子１〜２個およびイオウ原子１〜２個
を含むもの等が挙げ　１１− られ、そのような「縮合複素環基」は例えば、メチル、
エチル、プロピル、第三級ブチル等の低級アルキル基、
例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、第三級ブトキ
シ等の低級アルコキシ基、例えばフッ素、塩素、臭素ま
たはヨウ素等のノ・ロゲン等のような適当な置換基を有
していてもよい。

［エステル化されたカルボキシ基−１の１エステル」部
分の好適な例としては、例えばメチルエステル、エチル
エステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、
ブチルエステル、イソブチルエステル、第三級ブチルエ
ステル、ペンチルエステル、ヘキシルエステル、１−シ
クロプロピルエチルエステル等の、低級アルキルエステ
ルが挙げられ、それらは、適当な置換基を有していても
よく、その例としては、例えば、アセトキシメチルエス
テル、プロピオニルオキシメチルエステル、ブチリルオ
キシメチルエステル、バレリルオキシメチルエステル、
ピバロイルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシ
メチルエステル、１（または２）−アセトキシエチルエ
ステル、１（また　１２− け２または３）アセトキシプロピルエステル、１（捷た
は２捷たは３または４）アセトキシエチルエステル、１
（または２）プロピオニルオキシメチルエステル、１（
ｔたは２−または３）−プロピオニルオキシプロピルエ
ステル、１（捷たは２）−ブチリルオキシエチルエステ
ル、１（捷たは２）−イソブチリルオキシエチルエステ
ル、１（ｔたＨ２）−ピパロイルオキシエチルエステル
、１（寸だは２）−へキザノイルオキシエチルエステル
、インブチリルオキシメチルエステル、２−エチルブチ
リルオキシメチルエステル、３，３−ジメチルブチリル
オキシメチルエステル、１（−！だは２）−ペンタノイ
ルオキシエチルエステル等の低級アルカノイルオキシ（
低級）アルキルエステル；例えば、２−メシルエチルエ
ステル等の低級アルカンスルホニル（低級）アルキルエ
ステル；例えば、２−ヨードエチルエステル、２，２．
２−トリクロロエチルエステル等のモノ（またはジまだ
ハトリ）−ハロ（６級）アルキルエステル；例えば、メ
トキシ力ルポニルオキシメチルエステル、エトキシ力ル
ポニルオキシメヂルエステル、２−メトギシカルボニル
オギシエチルエステル、１−エトキシカルボニルオギシ
エチルｙステル、１−イソプロポキシカルボニルオキシ
エチルエステルアルキルエステル； フタリジリテン（低級）アルギルエステル；まだ１４、
例えば（５−メチル−２−オキソ−１．３−ジオキソ−
ルー４−イル）メチルエステル、（５−エチル−２−オ
キソ−１，３−ジオキソ−ルー４−イル）メチルエステ
ル、（５−プロピル−２−オキソ−１，３−ジオキソ−
ルー４−イル）エチルエステル等の（５−低級アルキル
ー２−オキソ−１，３−ジオキソ−ルー４−イル）（低
級）アルキルエステルが挙げられる。； さらに例えばビニルエステノペアリルエステル等のアリ
ールエステル。

例工ばエチニルエステル、プロピニルエステル等の低級
アルキニルエステル； 例エバベンジルエステル、４−メトキシベンジルエステ
ル、４−ニトロベンジルエステル、フェネチルエステル
、トリデルエステル、ベンズヒドリルエステル、ビス（
メトキシフェニル）メチルエステル、３．４−ジメトキ
シベンジルエステル、４−ヒドロキシ−３，５ージ第三
級ブチルベンジルエステル等の適当な置換基を有してい
てもよいア＃　（　［（［　）アルキルエステル；例ｔ
　ｕ’、フェニルエステル、４−１０口フェニルエステ
／ｌ／，　←リルエステル、第三級ブチルフェニルエス
テル、キシリルエステル、メシチルエステル、クメニル
エステル等の適当な置換基を有していてもよいアリール
エステル； フタリジルエステル等が挙げられる。

好適な「酸残基」としては、例えばフッ素、塩素、臭素
捷たはヨウ素等のハロゲン、例えばメシルオキシ、ベン
ゼンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ
等のスルホニルオキシ基、等が挙げられる。

１」的化合物（Ｉ）の好捷しい実施態様は次のとおり　
１５　− である。

Ｒ１の好ましい実施態様は、水素またはノ・ロゲンであ
る。

Ｒ２の好捷しい実施態様は、窒素原子１〜３個を含む結
合複素環基であり、さらに好ましくは、１。

４−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナン−４−イル、
４、　５，　６．　７−チトラヒトローＩＨーピラゾロ
［４．３−ｃ］ピリジン−５−イルまたは２Ｈ−ピラゾ
ロ［４．３−ｃｌピペリジン−５−イルである。

Ｒ３およびＲ４の好ましい実施態様は、Ｒ３がハロゲン
であり　Ｈ４がハロゲンを有していてもよい低級アルキ
ル基捷たはシクロ（低級）アルキル基であるか、 または、 Ｒ３が水素であり、Ｒ４がハロゲンを有する低級アルキ
ル基またはシクロ（低級）アルキル基である。

Ｒ５の好捷しい実施態様はカルボキシ基である。

この発明の目的化合物の製造法を以下詳細に説明する。

　１６　− 製造法 目的化合物（Ｉ）ｔたはその塩は、化合物（ＩＩ）また
はその塩を化合物＠）と反応させることにより製造する
ことかできる。

化合物（ＩＩ）の好適な塩としては、目的化合物（Ｉ）
について例示したよう々塩基との塩を挙げることができ
る。

この反応は塩基の存在下に行なってもよい。

好適な塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、例えば、水酸化
マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属
水酸化物、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の
アルカリ金属炭酸塩、　ン例えば、炭酸マグネシウム、
炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩、例えば、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金
属炭酸水素塩、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等
のアルカリ金属酢酸塩、例えばリン酸マグネシクム、リ
ン酸カルシウム等のアルカリ土類金属リン酸塩、例えば
、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム等の
アルカリ金属リン酸水素塩等のような無機塩基、および
例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン等のトリア
ルキルアミン、ピコリン、Ｎ−メチルピロリジン等のよ
うな有機塩基がその例として挙げられる。

この反応は通常溶媒中で行なわれる。

好適な溶媒として１件クロロホルム、塩化メチレジ、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、Ｎ。

１１−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドが
挙げられるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば
その他のいかなる溶媒も使用することができる。

反応温度は特に限定されず、通常は、常温、加温丁また
は加熱下、好捷しくは加熱下に反応か行なわれる。

この発明の目的化合物（１，）およびその塩は新規化合
物であり、高い抗菌活性を示し、ダラム陽性菌およびグ
ラム陰性菌を含む床几な病原菌の生育を咀止し、抗菌網
として有用である。治療のためにこの発明の化合物は経
口投与、非経口投与または外用に５１＆シた有機捷たは
無機固体状捷たは液状の賦形剤のような医薬もしくは動
物薬として許容される担体と混合して、前記化合物を有
効成分として含有する慣用の医薬製剤もしくは動物薬製
剤の形で使用することかできる。

医薬製剤もしくは動物薬製剤はカプセノベ錠剤、糖衣錠
、軟膏捷だは半割のよう々固体状であってもよく、溶液
、懸濁液捷たはエマルジョンのような液状であってもよ
い。所望に応じて、上記製剤中に助剤、安定剤、湿潤剤
捷たは乳化剤、緩衝液およびその他の通常使用される添
加剤が含まれていてもよい。

化合物の投与量は患者の年齢および条件によって変化す
るが、この発明による化合物を平均１回投与量約１０ｑ
、５０ｒｎｇ、１００ｍｙ、２５０ｔｎｇ、５００　ｍ
ｇ、１０００　ｍｇ投与すれば病原菌による感染症の治
療に有効である。

一般的には、１日当りｌｆｎｇ／個体〜約６０００ｍｙ
／個体捷たはそれ以上投与してもよい。

　１９− １発明の効果−１ １」的化合物の有用性を示すために、この発明の代表的
化合物の抗菌活性を以下に示す。

最小発育阻止濃度 （Ａ）試験法 試験管内抗菌活性を下記の寒天平板希釈法により測定ｌ
−だ。

トリプチケース・ソイ・プロス中、各試験菌株を一夜培
養して、その−白金耳（生菌数１０６個／ｍｅ　）を、
各濃度段階の代表的試験化合物を含むハート・インフュ
ージョン寒天（Ｈニー寒天）に接種し、３７°Ｃで２０
時間インキュベートした後、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ
）をμｙ／ｍｅで表わした。

（Ｂ）試験化・＾物 （１）１−シクロプロピル−３−カルボキシ−６−フル
オロ−７［（６Ｒ）−１，４−ジアザビシクロ［４，３
，０］ノナン−４−イル］−４−キノロン（Ｃ）試験結
果［Ｍ、　１．　Ｃ，（ｐｙ／ｍｅ　）　］　２０− 「一実施例」 以下製造例および実施例に従って、この発明をさらに詳
細に説明する。

製造例１ ２−（２−ニトロメチレン−１−ピロリジニル）酢酸メ
チルエステル（ＥおよびＺ混合物、１３．Ｏｙ）のメタ
ノール（１３０ｍｅ　）およびエタノール（ｌｏＯｍｅ
）混合物溶液を、ラネーニッケル（１０ｙ）の存在下、
水素雰囲気中大気圧下に５時間接触還元する。触媒を沢
去し、涙液を減圧濃縮して得る固体をジエチルエーテル
で洗浄し、戸数、風乾して、（６Ｒ８）　−１，４−ジ
アザビシクロ〔４゜３．０］ノナン−３−オン（６，１
５ｐ　）を得る。

ｍｐ：９７〜９９°Ｃ Ｉ’Ｒ（ヌジョール）：　１６６５．　１５００．　１
３１５．　１１０５゜８３５□−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：　１．２０−２，４０
（７Ｈ，ｍ）。

２．７Ｏ−３６０（４Ｈ，ｍ）、７．６３（］、Ｈ，ブ
ロード　Ｓ）製造例２ （６Ｒ３）　−１，４−ジアザビシクロ［４，３，Ｏ］
ノナン−３−オン（６，１２ｙ）の無水テトラヒドロフ
ラン（５０＋ｎｅ）溶液を水素化アルミニウムリチウム
（３，３ｙ）の無水テトラヒドロフラン（５０ｍｅ　）
溶液に滴下する。混合物を６．５時間還流する。

反応混合物に酢酸エチル（２０ｍｅ）、メタノール（２
０ｍｅ　）および水（５０ｍｅ　）を順次滴下する。

混合物を濾過し、涙液を減圧濃縮して残渣を得る。

残渣を蒸留（沸点８０〜８５°Ｃ／　２０　ｍｍ１１ｇ
　）　して、（６Ｒ３）−１，４−ジアザビシクロ［４
，３，０１ノナン（３，７５ｐ　）を得る。

ＩＲ（フィルム）：３４００−３２００．　２８００．
　１４５０゜１１６５ＣＭ−１ ＮＭＲ（Ｄ２０．δ）：　１．５０−３．３０（１３Ｈ
，ｍ）製造例３ 塩化チオニル（２９ｍｌ’）をエタノール（２５０ｍｅ
　）に撹拌下＝ｌＯ℃で滴下する。混合物を同温で１０
分間撹拌する。この溶液にＤ−プロリン（２５ｙ）を同
温で加え、混合物を常温で一夜撹拌する。反応混合物を
減圧濃縮して残渣をエタノール（８０ｍｅ）に溶解し、
減圧下にエタノールを留去する。この操作を２回繰返し
、残渣を減圧乾燥してＤ−プロリンエチルエステル−塩
酸塩（４０、５７）を得る。

〔α］２０−→−３２．４°（Ｃ＝１．０．　ＭｅＯＨ
）ＩＲ（フィルム）：　３４００−３３５０．　１７３
５．　１５６５゜１．２２０．　１，０９５．　１．０
４５σ−１ＨＭＲ（ＣＤＣｌ２．δ）：　１．２８（３
Ｈ，ｔ、　、Ｔ＝７Ｈｚ）。

］、、］８７−２．６５４Ｈ，ｍ）、３．３０−３．９
２（２Ｈ，ｍ）。

４．２７（２Ｈ，ｑ、、、Ｔ＝７Ｈｚ）、４．４５−４
．７５（ｌＨ，ｍ）１１／すｊｌｌｌ　倖１／Ｉ Ｄ−プロリンエチルエステル・塩酸塩Ｃ４０，５ｙ）の
エタノール（４００ｍｅ）溶液に、エチレンイミン（３
５，０ｍｅ）のエタノール（３５ｍｅ）溶液を常温で滴
下し、混合物を１０時間還流する。反応混合物を減圧濃
縮して残渣を得る。この残渣をシリカゲル（３００ｐ　
）を使用するカラムクロマトクラフィーに付し、クロロ
ホルム、メタノール　２３　− および濃アンモニア水（９：　ｉ　：　０．０２．　ｖ
／ｖ　）の混合物で溶出する。目的化合物を含む両分を
集め、減圧濃縮して、（６Ｒ）　−１，４−ジアザビシ
クロ［４，３，０］ノナン−５−オン（１５，７６ｙ）
を得る。

ｍｐ　：　１９４〜１．９６°Ｃ ［α’ｌ”０−＋５６．８°（Ｃ＝　１．、　Ｏ、ＤＭ
ＳＯ）ＩＲ（ヌジョール＋ＥｔＯＨ）：　１６７０．　
１３３０．　１１２０゜１０９０、　１０５０ｚ−１ 製造例５ （５Ｒ）−１，４−ジアザビシクロ［４，３，０］ノナ
シー５−オン（１５，２ｙ）のテトラヒドロフラン（５
０ｍｅ　）溶液を、水素化アルミニウムリチウム（１０
，３Ｐ）のテトラヒドロフラン（１００ｍｔり中懸濁液
に還流下に加える。混合物を３時間還流する。反応混合
物にメタノール（５０ｍｅ）および水（５０ｍｅ）の混
合物を滴下する。生成する沈殿を許去し、メタノールで
洗浄する。Ｆ液と洗液とを集め、減圧濃縮して残渣を得
る。この残渣を減圧蒸留して、（６Ｒ）−１，４−ジア
ザビシクロ［２４− ４，３，０］ノナン（７，７７ｙ＞を得る。

ｂ、ｐ、５１〜５２°Ｃ（５〜６＋ｕ＋Ｈｇ　）［α］
２０＝＋３．６°　（Ｃ＝１．０　、　Ｈ２Ｏ）ＴＲ（
フィルム）：　１６６０−１６３０．　１５６０−１５
４０゜１．２７５．　１２２５．　１１９５．　１１．
６０ｃｍ−’ＮＭＲ（Ｄ２０．δ）：　１．２０−３．
２５（１３Ｉ（、ｍ）Ｍａｓｓ　：　１２６　（Ｍ＋） 製造例６ １−第三級ブトキシ力ルボニル−４−ピペＩＪ　トン（
４０，０ｙ）とギ酸エチル（２２，２ｙ）とのジエチル
エーテル（５００ｍｌ？）溶液に、金属ナトリウム（４
，６０ｇｔ）を氷冷、撹拌下に加える。この混合物にエ
タノール（１，０ｍｅ）を加え、混合物を常温で２４時
間撹拌する。生成する懸濁液をｎ−ヘキサン（ｌＩり中
に注ぐ。沈殿をＰ取して水に溶解する。水溶液を６Ｎ塩
酸でｐＨ４，０に調整し、酢酸エチルで２回抽出する。

有機層を合わせ、塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄して
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去して、
１−第＋’−級−フトキシ力ルポニルー３−ホルミル−
４−ピペリドン（４０ｙ）を得る。

ＩＰ（フィルム）：　１．６８８（ブロード）、１４１
５．　１，２３６゜１１６０ｃｍ１ ＮＭＲ（ＣＤＣｅ３Ｉδ）＋　１．４５（９Ｈ，ｓ）＋
　２．５０（２Ｈ，ｔ。

Ｊ＝６Ｈｚ）、３．６０（２Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈｚ１　４
．１８（２１（。

ｂｒ−ｓ　）、ｓ、　５０　（Ｉ　Ｈ，ｓ　）製造例７ ］−％三級ブトギシカルボニルー３−ホル三ル＝４−ピ
ペリドン（３ｏ、６ｙ）のメタノール（３００ｍｅ　）
溶液に、メチルヒドラジン（７，８７ｍｅ　）を−３０
℃で加える。添加終了後、混合物を常温に加温して減圧
濃縮し、残渣の油状物をシリカゲルを使用するカラムク
ロマトグラフィーにイ＼１１−で、■−メチルー５−第
三級ブトキシ力ルボニル−４゜５、６．７−チトラヒド
ロー　１１（−ピラゾロ［４，３−Ｃ］ピリジンおよび
２−メチル−５−第三級ブトキシ力ルボニル−２Ｈ−ピ
ラゾロ［４，３−ｃ］ピペリジンの混合物（１７，１！
　）を得る。

ＩＲ（フィルム）：　３３５０（）油−ド）、１６７８
（ブロード）側−１ＨＭＰ（Ｃ（Ｊ？４．δ）：　１．
４５（９Ｈ，ｓ）、２．６６（２Ｈ，ｍ）。

３．７０（２Ｉ（、ｍ）、３．６６（３／２Ｈ，ｓ）、
３．７７（３／２Ｈ。

ｓ）、４．３７（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、７．００（１／２
Ｈ，ｓ）。

７．０５（１７２Ｈ，ｓ） 製造例８ １−メチル−５−第三級ブトキシカルボニル−４、５，
６，７−チトラヒトローＩＨ−ピラゾロ［４，３−ｃ］
ピリジンおよび２−メチル−５−第三級ブトキシ力ルボ
ニル−２Ｈ−ピラゾロ［４，３−ｃ］ピペリジン（３，
０ｙ）のギ酸（１５ｍｅ　）中温合物を６０°Ｃで９０
分間撹拌する。ギ酸を留去後、残渣をテトラヒドロフラ
ン（１００ｍｌ？）に溶解し、炭酸カリウム２０１−水
溶液で中和する。次いで溶液を炭酸カリウムで乾燥し、
減圧濃縮して、１−メチル−４，５，６，７−チトラヒ
トローＩＨ−ピラゾロ［４，３−Ｃ］ピリジンおよび２
−メチル−２Ｈ−ピラソＩフ［４，３−ｃｌピペリジン
の混合物（１，４７，？）を得る。

工Ｒ（フィルム）：　３２５０．　１４２２．　７８３
ｃｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣＩ！３．δ）：　２．６０（２
Ｈ，ｍ）、３．０５（２Ｈ，ｔ。

Ｊ＝６Ｈｚ）、３．６０（３／２Ｈ，ｓ）、３．７０（
３／２Ｈ，ｓ）。

　２７− ４．２３（２Ｈ，ｂｒ−ｓ）、６．８０（１，７２ＩＪ
、　ｓ）、６．９０（１，／２Ｈ，ｓ） 製造例９ 塩化第一スズ・２水和物（５５，５７）の濃塩酸（ｏｏ
ｍｅ）溶液を、２．３．４−１−リフルオロニ］−ロベ
ンゼン（１２，９５ｙ）のメタノール溶液に−１５〜−
１０°Ｃで３０分Ｆ１■かけて滴下する。混合物を同温
で１時間、０〜５°Ｃで４時間撹拌する。メタノールを
減圧下に留去して得る水溶液を水酸化ナトリウム４　Ｎ
水溶液で中和する。不溶物を戸去し、ｐ液を酢酸エチル
（２００ｍｅ　）で抽出する。有機層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧濃縮して、２．３．４−１−リフルオ
ロアニリン（９，４０ｙ）を油状物と１−て得る。

ＮＭＲ（ｎＭｓｏ−ａ　６．δ）　：　５．３３（２Ｈ
，ｂｒ−ｓ）。

６．４−６．８（ＩＨ，ｍ）、６．４−７．３（ＩＨ，
ｍ）製造例１０ ２、３．４−トリフルオロアニリン（９，３５ｙ　）お
ヨヒエトキシメチレンマロン酸ジエチルエステル（１２
，９ｍｅ）の混合物を１３０〜１３５℃で１．５−２８
　＝ 時間撹拌する。冷後、混合物を７ｚ−ヘキサンから結晶
化させて、（２，３，４−トリフルオロアニリノ）メチ
レンマロン酸ジエチルエステル（１８，５９ｙ）を結晶
として得る。

ｍｐニア６〜７７８Ｃ ＩＲ（ヌジョール）：　１６９５．　１６５５．　１６
２５Ｑｍ’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）　：　１．２
５　（６Ｉｉ、　ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ　）。

４．１．３（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７Ｈｚ）、４．２３（２
Ｈ，ｑ−、Ｊ＝７Ｈｚ）。

７．０−７．８（２Ｈ，ｍ）、８．３３（ＩＨ，ｄ、Ｊ
−１４Ｈｚ）。

１０．７５（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１４Ｈｚ）Ｍａｓｓ　：
　３１７（Ｍ　）、２７３（Ｍ　−４４）製造例１１ 水素化す）　ＩＪクム（油中６０≠分散体、２．８ｙ）
を（２，３，４−トリフルオロアニリノ）メチレンマロ
ン酸ジエチルエステル（１８，５５ｙ）のＮ、Ｎ　−ジ
メチルホルムアミド（１，８０ｍ１？）溶液に撹拌下、
常温で滴下する。混合物を６０℃に加熱してヨー化エチ
ル（６，２ｍｅ）を混合物に加える。溶液を６０℃で３
時間撹拌し、減圧濃縮して得る油状物をクロロホルム（
１，ｏｏｍｅ）に溶解し、水（１００ｍｅ　）で洗浄ｌ
〜て硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して、（Ｎ−
エチル−２，３，４−１−リフルオロアニリノ）メチレ
ンマロン酸ジエチルエステル（２０，０１ｙ）を油状物
として得る。

ＩＲ（ニーｔ・）：　１７２０．　１６８５ｃｍ−１Ｈ
ＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）：　７．６３（ＩＨ，ｓ）
製造例１２ （Ｎ−エチル−２，３，４−１−リフルオロアニリノ）
メチレンマロン酸ジエチルエステル（１９，９５Ｐ）の
ポリホスフェートエステル（２００ｙ）中貼濁液を撹拌
下、１１０〜１１５℃に１．５時間加熱する。混合物を
木本（Ｉｅ）中に注き、クロロホルム（２００ｍｔ？）
で抽出する。有機層を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液で
洸沖し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減Ｆｌｉ：濃縮し
て得る油状物をシリカゲル（２００ｙ）を用いるカラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルムで溶出する。

目的化合物を含む両分を集め、減圧濃縮［７て、１−エ
チル−３−エトキシカルボニル−６、７，８−）リフル
オロ−４−キノロン（８，３１７）を得る。

ｍｐ　：　１９］〜１９３℃ ＩＲ（ヌジョール）：　１６８０ひ一１ＮＭＩＲ（ＣＤ
Ｃ／？３　ｌδ）：　１．４１（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ
）＋　１．５５（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、４．１０（
４Ｈ，ｑ＋　Ｊ＝７ｕｚ）＋８．０−８．５（１，Ｈ，
ｍ）、８．４４（ＩＨ，ｓ）製造例１３ １−エチル−３−エトキシカルボニル−６，７，８−ト
リフルオロ−４−キノロン（８，２５ｙ）の濃塩酸（２
５ｍｅ）および氷酢酸（１００ｍ（り混合物溶液を６時
間還流する。今後、混合物を氷水（１，２１）中に注ぎ
、水酸化すトリウム４Ｎ水溶液で中和する。沈殿をＦ収
し、五酸化リンで減圧乾燥して、１−エチル−３−カル
ボキシ−６、７，８−）リフルオロ−４−キノロン（６
，５１ｙ）ヲｆｌル。

ｍｐ　：　２１０°Ｃ（分解） ｒｎ（ヌジョール）：１７２５σ１１ ＨＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ，δ）＋　１．６７（３Ｈ，ｔ
、、Ｔ＝７Ｈｚ）。

５、］３（２Ｈ，ｄｔ、Ｊ＝２Ｈｚ、７Ｈｚ）、８．３
−８．６（ＩＨ，ｍ）。

９、４８（ＩＨ，ｓ　） Ｍａｓｓ　：　２７１（Ｍ　−１）、２５５（Ｍ　−１
７）。

　３１− ２２７（Ｍ”−４５） 製造例１４ 水素化ナトリウム（油中６０φ分散体、１．７ｆｌ）ヲ
（２，３，４−）リフルオロアニリノ）メチレンマロン
酸ジエチルエステル（１１，６５ｙ）のＮ、Ｎ　−ジメ
チルホルムアミド（１，２０ｍｅ　）溶液に撹拌上常温
で滴下する。混合物を５０〜５５°Ｃに３０分間加熱し
、次いでｐ−トルエンスルホン酸の２−フルオロエチル
エステル（１，２，５ｙ　）　ヲ混合物に加える。混合
物を９０〜９５°Ｃで５時間撹拌し、氷水中に注いでク
ロロホルムで抽出スる。クロロホルム層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧濃縮して油状物を得る。この油状物
をシリカゲル（１７０ｙ）を使用するカラムクロマトグ
ラフィーに付し、ヘキサンと酢酸エチルとの混合物（２
：１）で溶出する。目的化合物を含む両分を集め、Ｈ圧
ｔｋ給して、［Ｎ−（２−フルオロエチル）＝２、３．
４−　トリフルオロアニリノ］メチレンマロン酸ジエチ
ルエステル（６，９８ｙ）を油状物として得る。

　３２− 丁Ｒに−ト）：　１７２５−１６９０ｃｍ−１ＨＭＲ（
ＤＭＳＯ−ｄ６．δ）　：　７．６７（ＬＨ，ｓ）製造
例１５ （Ｎ−（２−フルオロエチル）　−２，３，４−トリフ
ルオロアニリノ〕メチレンマロン酸ジエチルエステル（
６，９５ｙ−）のポリボスフェートエステル（７０ｙ）
中貼濁液を撹拌下１１．　ＯｏＣで１時間加熱する。混
合物を氷水（７００ｍｅ）中に撹拌下に注ぐ。生成する
沈殿をＰ取し、五酸化リンで減圧４ｉ１して、］−−（
］２−フルオロエチル−３−エトキシカルボニル−６ キノロン（５．３２ｙ）を固体として得る。

ｍｐ：　１．６３〜１６４°Ｃ ＩＲ（ＫＢｒ）　：　１７２５ｍ　’ ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ，δ）　：　１．５５（３Ｈ，
　ｔ＋　Ｊ＝７Ｈｚ）。

４、７４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）、４．５−４．８（
ＩＨ，ｍ）。

５、０−５．３（ＬＨ，　ｍ）、５．３−５．７（２Ｈ
，　ｍ）。

８、２−８．８（ＩＨ，ｍ）、９．３１（ＩＨ，ｓ）製
造例１６ ］−（２−フルオロエチル ルボニル−６，７，８−トリフルオロ−４−キノロン（
５，３０ｙ）の濃塩酸（ｌ　］、　ｍｅ　）と氷酢酸（
４４ｍｅ　）との混合物溶液を６時間還流する。今後、
混合物を氷水（５５０ｍｅ　）中に注ぐ。生成する沈殿
をＰ取し、五酸化リンで減圧乾燥して、１−（２−フル
オロエチル）−３−カルボキシ−６、７，８＝トリフル
オロ−４−キノロン（４，２０ｇ１）を固体として得る
。

ｍｐ　：　２０３〜２０５６Ｃ ＩＲ（Ｋ’Ｂｒ）　：　１７２７ｃｍ−１ＨＭＲ（（Ｊ
”３ＣＯＯＨ，δ）＋　４．８７（２Ｈ，ブロードｄ、
Ｊ＝２８Ｈｚ）。

５．３−５．７（２Ｈ，ｍ）、８．３−８．７（ＩＨ，
ｍ）、９．４５（ＩＨ，ｓ） Ｍａｓｓ　：　２８８（Ｍ　−１）、　２７１．　２６
０．　２４６実施例１ １−シクロプロピル−３−カルボキシ−６−フルオロ−
ツークロロ−４−キノロン（１ｙ）と（６Ｆ？）−１，
，４−ジアザビシクロ［４，３，０］ノナシ（１，３５
ｙ）とのジメチルスルホキシド（５ｍｅ）中混合物を１
４０℃で１時間撹拌する。反応混合物を７０℃で減圧濃
縮し、残渣を氷水で粉砕する。

生成する沈殿を加数して、１−シクロプロピル−；３−
カルボキシ−６−フルオロ−７−−１．４−ジアザビシ
クロ［４．３．０］ノナン−４−イル１−４−キノロン
（０．７９ｙ）を得る。

ｍｐ　：　２５０〜２５２°Ｃ ＴＲ（ヌジョール）：　１７２０，　１６２５，　１６
］０礪−１ＨＭＲ（Ｃ］！”３ＣＯＯＤ，δ）：　１．
３３−１．８３（４Ｈ，ｍ）、２．１０　−２、７５（
４Ｈ，ｍ）、３．］、Ｏ−４．５０（］−０Ｈ，ｍ）、
７．９０（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ）、８．３３（ＩＨ，
ｄ，Ｊ−＝１２Ｈｚ）。

９、　３３　（　Ｈ（、　ｓ　） Ｍａｓｓ　：　３７１（Ｍ　）、３２７（Ｍ　−４４’
）実施例２ １−シクロプロピル− ルオローフークロロー４−キノロン（０．５ｙ）と（６
ＲＳ）−１．４−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナン
（０．７，Ｐ）のジメチルスルホキシド（２．５ｍｅ）
中混合物を１４０°Ｃで１時間撹拌する。反応混合物を
８０°Ｃで減圧濃縮する。残渣を水酸化ナトリウム０，
ＩＮ水溶液に溶解後、この溶液を１０％塩　３５　− 酸でｐＨ４．０に調整し、非イオン吸着樹脂［−ダイヤ
イオンＵＰ−２（ＬＪ（商標、三菱化成社製−１を使用
するカラムクロマトグラフィーに付し、１０％イソプロ
ピルアルコール水溶液で溶出する。

目的化合物を含む両分を合わせて減圧濃縮し、凍結乾燥
して、１−シクロプロピル−３−カルボキシ−６−フル
オロ−７−（　（　６　ＲＳ　）　−１．４　＝ジアザ
ビシクロ［４．３．０］ノナン−４−イル〕−４−キノ
ロン（０．３５ｙ）を得る。

ｍｐ　：　２６０〜２６２６Ｃ 工Ｒ（ヌジョール）：　２４００−２６００．　１７２
０，　１６３０。

１６１０ｃｍ−１ ＮＭＲ（Ｄ２０−ＮａＯＤ，δ）：　１．１０−１．５
０（４Ｈ，ｍ）。

１、、６０−２．００（４Ｈ，ｍ）、２．１５−２．７
０（４Ｈ，ｍ）。

２、７５−３．２０（３Ｈ，　ｍ）、３．３０−３．７
５（３Ｈ，　ｍ）。

７、４０（ＬＨ，　ｄ，　Ｊ−＝７Ｈｚ）、７．７０（
ｌＨ，　ｄ，　Ｊ＝１２Ｈｚ）。

８、３１（ＩＨ，ｓ） Ｍａｓｓ　＋　３７１（Ｍ　）、３２７（Ｍ　−４４）
実施例３ 実施例１および２と同様にして、１−シクロプ　３６　
− ロピルー３−カルボキシ−６−フルオローフークロロー
４−キノロン（０．５ｙ）を、１−メチル−４、　５，
　６．　７−チトラヒトローＩＨーピラゾロ〔４，３−
０１ピリジンおよび２−メチル−２Ｈ−ピラゾロ［４．
３−ｃ］ピペリジンの混合物（１．ｓｙ）と反応させて
、１−シクロプロピル−３−カルボキシ−６−フルオロ
−７−［１−メチル−４．　５，　６．　７−テトラヒ
ドロ−１■ーピラゾロ［４．３−ｃ］ピリジン−５−イ
ル〕−４−キノロンと１−シクロプロピル−３−カルボ
キシ−６−フルオロ−７−［２−メチル−２Ｈ−ピラゾ
ロ［４．３−ｃ］ピペリジン−５−イル］−４−キノロ
ンとの混合物（０、５ｙ）を得る。

ｍｐ　＋　２　１　０　〜２　１　３°ＣＩＲ（ヌジョ
ール）：　２５００−２４００．　１７２０．　１６２
０。

１６１０、１５００ａｍ−１ ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ．δ）：　１．３５−１．８５
（４Ｈ，ｍ）、３．１０−３．７０（２Ｈ，　ｍ）、４
．００−４．６５（６Ｈ，　ｍ）、４．７５（］、］Ｈ
，ｂｒーｓ、７．８５−８．１５（２Ｈ，ｍ）、８．３
３（ＩＨ，ｄ，、Ｔ＝１２Ｈｚ）、９．３３（ＩＨ，ｓ
）実施例４ 実施例１および２と同様にして、１−（２−フルオロエ
チル フ−クロロ− ６ＲＳ）　−１．４−ジアザビシクロ（４．：（、０’
ｌノナン（１．０ｇりと反応させて、１−（２−フルオ
ロエチル）−３−カルボキシ−６−フルオロ−７−［（
６ＲＳ）−１．４−−ジアザビシクロ［４．３．０］ノ
ナン−４−イル１−４−キノロン（０．２５５’）を得
る。

ｍｐ　：　２１５〜２１９８Ｃ ＩＲ（ヌジョール）：　３３５０，　２６００−２５（
１０，　１７２０。

１６３０、１６１０．　１３８０ｃｍ’ＮＭＩＲ（ＤＭ
ＳＯ−ｄ６，　ａ）、　１．６０−２．２０（４Ｈ，　
ｍ）。

２、８０−３．８０（８Ｈ，　ｍ）、４．４　４．９（
２Ｈ，　ｍ）。

５、０５（２Ｈ，　ｂｒ−ｓ）、７．１５（ＩＨ，　ｔ
，　Ｊ＝７Ｈｚ）。

７、８０（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１２１（ｚ）、８．７０（Ｉ
Ｈ，ｓ）実施例５ 実施例１および２と同様にして、ｌ−エチル−３−カル
ボキシ−６、　７．　８−トリフルオロ−４−キメロン
（０．６０ｙ）を、（（３’Ｒ）−１．４−ジアザビシ
クロ［４．３．０］ノナン（０．９０ｐ）と反応させて
、１−エチル−３−カルボキシ−６、　８　−　ジフル
オロ−７−［　（　６Ｒ　）−１．４−ジアザビジタロ
１４、３、０］ノナン−４−イル］−４−キノロン（０
、４８ｙ）を得る。

ｍｐ　：　２２６〜２２７℃ ［αコ２０＝＋７０．５°　（Ｃ−閣，］−　／１ＯＮ
　ＮａＯＨ）ＩＲ（ヌジョール）＋　１７２０，　１６
２５砿−１ＨＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ，δ）　：　１．８
］．（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ＝７Ｈｚ）。

２１−２、８（４Ｈ，ｍ）、３．２−４．５（９Ｈ，ｍ
）、５．０５（２Ｈ，　（３（］、　Ｊ＝２１（Ｚ．　
７Ｈｚ）、８．　２８（］、Ｈ，　ｄ．ｄ．、　Ｊ：＝
ｌｌ（ｚ。

１１Ｈｚ）、９．３１（］、Ｈ，　ｓ）Ｍａｓｓ　：　
３７７（Ｍ　）、３６２（Ｍ　−１５）。

３４９（Ｍ−２８）、３３３（Ｍ　−４４）実施例６ 実施例１および２と同様にして、１−エチル−３−カル
ボギシー６．　７．　８　−　１−リフルオロ−４−キ
ノロン（ｏ．ｓｏｙ）を、（６Ｒｓ）−１．４−ジアザ
ビシクロ〔４、３．０〕ノナン（　］、、　４　０　ｙ
）と反応３９　− させて、１−エチル−３−カルポギシー６，８ージフル
オロ−７−［（６ＴＩ８）−１．、４−ジアザビシクロ
［４．３．０］ノナン−４−イル］ー４ーキ／ロン（０
．７６ｙ）を得る。

ｍｐ　：　２３０℃　（ｄｅｃ．） ＩＲ（ヌジョール）：　１．７２５，　１．６３０砿−
１ＨＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ，　ｌ　）　：　］、　８２
（３Ｈ，　ｔ，　、Ｔ＝７Ｈｚ　）。

２、１−２．８（４Ｔ（、ｍ）、３．０−４．５（９Ｔ
（＋ｍ）＋　４．８　−５、４（２）（、ｍ）、　８．
３５（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝ＩＨｚおよび１、１Ｈｚ）、９
．３３（ＩＨ，　ｓ）Ｍａｓｓ　：　３７７（Ｍ　）、
３６２（Ｍ　−１５）。

３４９（Ｍ”−２８）、３３３（Ｍ−４４）実施例７ ］−（２−フルオロエチル）−３−カルボキシ−　６．
　７．　８−トリフルオロ−４−キノロン（　０．　５
　０ｙ）と（６Ｒｓ）−１．４−ジアザビシクロ［４、
３。

０］ノナン（０．９０ｙ）のジメチルスルホキシド（５
ｍｅ）中温合物を１１０℃で２．５時間撹拌する。

今後、生成する沈殿をＰ取し、五酸化リンで減圧下ＫＫ
燥して、１−（２−フルオロエチル）−３＝　４〇　− 一カルボキシー６，８ージフルオロ−７−［（６’ＲＳ
）−１．、４−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナン−
４−イル］−４−キノロン（　０．　４　５　ｙ）を固
体として得る。

ｍｐ　：　２４４〜２４６６Ｃ ＩＲ（ＫＢｒ）＋　１７２０ｃｍ　’ ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ，δ）：　２．１−２．７（４
Ｈ，ｍ）、３．２　−４、４（９Ｈ，ｍ）、４．８７（
２Ｈ，ブロード　ｄ，Ｊ＝２８　Ｈｚ）。

５、３　５．６（２Ｈ，ｍ）、８．３１（ＩＨ，ｄｄ．
、Ｊ−ＩＨｚおよび７Ｈｚ）、９．２８（ＩＨ，ｓ） Ｍａ．ｓｓ　：　３９４（Ｍ−１）、２５４，　２２］
．、１９３実施例８ ■ーエチルー３ーカルボキシー６ーフルオローフークロ
ロー４−キノロン（０．５ｙ）のジメチルスルホキシド
（５ｍｅ）溶液に、（６Ｒ）−１．４　−ジアザビシク
ロ［４．３０］ノナン（０．９４ｙ）を加え、混合物を
１０５℃て６時間撹拌する。反応混合物に氷水（３０＋
ｒ＋／）を水冷下に加える。生成する沈殿を戸数、水洗
、風乾して、１−エチル−３−カルボキシ−６−フルオ
ロ−７−（（６Ｒ）＝１，４−ジアザビシクロ［４，３
，０］ノナシー４−イル］−４−キノロン（３００１ｎ
ｇ）を得る。

ｍｐ：　２３３〜２３６℃（分解） 〔α］　２０−＋３７．３°（Ｃ＝　０．１　、　０．
　］、　、Ｎ　Ｎａ、Ｏ）！水溶液）ＩＰ（ヌジョール
）：　１７４０．　１６３０．　１６１５．　１５２０
゜１２６０礪−１ ＮＭＲ（ＣＦ３ＣＯＯＨ，δ）　：　１．８０　（３Ｈ
，ｔ、　Ｊ＝７Ｈ２）。

２、２０　２−７０　（４Ｈｌｍ　）、１３０　４．６
０　（９Ｈ＋　ｍ　）。

４．９０（２Ｈ，ｑ＋　Ｊ＝７Ｈｚ）、　７．４５　（
１，Ｈ，ｄ、、　Ｊ＝８Ｈｚ　）。

８、３５（１，Ｈ，ｄ、　Ｊ＝１２Ｈｚ）、９．３２（
ＩＨ，ｓ）Ｍａｓｓ　：　３５９（Ｍ　）　３］５（Ｍ
　−４４）　４３− 第１頁の続き ■Ｉｎｔ、ＣＩ、４　識別記号　庁内整理番号８４４− １３５８３

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ｌ）一般式： （） （式中、Ｒ１け水素または）・ロゲン、Ｒ２は適当な置
   換基を有していてもよい縮合複素環基、 Ｒ５はカルボキシ基まだはエステル化されたカルボキシ
   基、 Ｒ３はハロゲン、 Ｒ４は適当な置換基を有していてもよい低級アルキル基
   、またはシクロ（低級）アルキル基をそれぞれ意味する
   か、 まだは、 Ｒ３は水素、 Ｒ４け適当な置換基を有する低級アルキル基、またはシ
   クロ（低級）アルキル基をそれぞれ意味する。）で示さ
   れる化合物またはその塩。 ２）Ｒ１が水素捷だけハロゲン、 Ｒ２か低級アルキル基を有していてもよい、窒素原子１
   〜３個を含む縮合複素環基、 Ｒ５がカルボキシ基、 Ｒ３がハロゲン、 Ｒ４がハロゲンを有していてもよい低級アルキル基壇だ
   けシクロ（低級）アルキル基であるか、捷たけ、 Ｒ３が水素、 Ｒ４がハロゲンを有する低級アルキル基壇たはシクロ（
   低級）アルキル基である、特許請求の範囲第１項記載の
   化合物。 ３）■−シクロプロピルー −フルオロ−７−［　（　６　Ｒ　）−１．４−ジアザ
   ビシクロ［４．３．０］ノナン−４−イル〕−４−キノ
   ロン、 １−シクロプロピル−３−カルボキシ−６−フルオロ−
   ７−［（６Ｒ８）−１，４−ジアザビシクロ［４，３，
   ０］ノナン−４−イル］−４−キノロシ、１−シクロプ
   ロピル− ルオロ−７−［１−メチル−４．　５，　６．　７−チ
   トラヒトローＩＨーピラゾロ［４．３−ｃ］ピリジン−
   ５−イル側−４−キノロン、 １−シクロプロピル−３−カルボキシ−６−フルオロ−
   ７−［２−メチル−２Ｈ−ピラゾロ［４。 ３−ｃ］ピペリジン−５−イル側−４−キノロン、１−
   （２−フルオロエチル −６−フルオロ−７−［（６ＲＳ）　１．４−ジアザビ
   シクロ［４．３．０）ノナン−４−イル側−４−キノロ
   ン、 ｌ−エチル−３−カルボキシ−６＋８−ジフルオロ−７
   −［　（　６　Ｒ　）　−１．４−ジアザビシクロ−［
   ４、３．０］ノナン−４−イル側−４−キノロン、１−
   エチル−３−カルボキシ＝６，８ージフルオロ−７−［
   　（　６ＲＳ　）−１．、４−ジアザビシクロ−［４．
   ３．０］ノナン−４−イル〕−４−キノロン、ｌ−（２
   −フルオロエチル）−３−カルボキシ−６、８−ジフル
   オロ−７−［　（’６ＲＳ　）−１．４　＝ジアザビシ
   クロ［４．３．０］ノナン−４−イル側−４−キノロン 」つすなる群から選択された特許請求の範囲第２項記載
   の化合物。 ４）式： （式中　Ｒ１は水素捷たはハロゲン、 Ｒ５はカルボキシ基寸たはエステル化されたカルボキシ
   基、 Ｒ３けハロゲン、 Ｒ４は適当な置換基を有していてもよい低級アルキル基
   、捷だはシクロ（低級）アルキル基をそれぞれ意味する
   か、 または、 Ｒ３は水素、 　３　− Ｒ４は適当な置換基を有する低級アルキル基、またはシ
   クロ（低級）アルキル基をそれぞれ意味する）で示され
   る化合物まだはその塩を、式：（式中、Ｒ２は適当な置
   換基を有していてもよい縮合複素環基を意味する） で示される化合物と反応させて、一般式：（式中、Ｒ１
   ，Ｒｚ，Ｒ３，Ｒ４オヨヒＲ５はツレツレ前と同じ意味
   ） で示される化合物またはその塩を得ることを特徴とする
   製造法。 ５）一般式： （式中　Ｒ１は水素またはハロゲン、 Ｒ２は適当々置換基を有していてもよい縮合複素環基、 Ｒ５はカルボキシ基ｔたはエステル化されたカルボキシ
   基、 Ｒ３はハロゲン、 Ｒ４は適当な置換基を有していてもよい低級アルキル基
   、捷だはシクロ（低級）アルキル基をそれぞれ意味する
   か、 または、 Ｒ３は水素、 Ｒ４は適当な置換基を有する低級アルキル基、またけシ
   クロ（低級）アルキル基をそれぞれ意味する）で示され
   る化合物またはその塩を有効成分とする医薬もしくは動
   物薬組成物。