JPS6016383B2 - 硬化体の製造法 - Google Patents
硬化体の製造法Info
- Publication number
- JPS6016383B2 JPS6016383B2 JP9982877A JP9982877A JPS6016383B2 JP S6016383 B2 JPS6016383 B2 JP S6016383B2 JP 9982877 A JP9982877 A JP 9982877A JP 9982877 A JP9982877 A JP 9982877A JP S6016383 B2 JPS6016383 B2 JP S6016383B2
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- Japan
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- gypsum
- reaction
- cured product
- msh
- plaster
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- Curing Cements, Concrete, And Artificial Stone (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は硬化体の製造法に関するものであって、その目
的とするところは反応速度を遅延せしめて比重、強度が
共に安定な硬化体を作業性よく得ることができる硬化体
の製造法を提供するにある。
的とするところは反応速度を遅延せしめて比重、強度が
共に安定な硬化体を作業性よく得ることができる硬化体
の製造法を提供するにある。
従来からカルシウムアルミネートモノサルフェートハィ
ドレート（丈ａ０・山２０３・ＣａＳ０４・１２日２０
，以下ＭＳＨと略す）に水の存在下で石膏（ＣａＳ０４
・２日２０）を反応させてカルシウムアルミネートトリ
サルフェートハィドレート（父ａ０・Ｎ２０３・父ａＳ
０４・３１〜３２日２０、以下ＴＳＨと略す）の硬化体
を得ることが行なわれているが、従来用いられていた石
膏ではＭＳＨに対する反応性が相当に高いために賦形完
了までに反応が進み嵩高いスラリ−となるために高密度
の賦形体が得られず、また反応したスラリーでは大きな
強度をもつ賦形体が得られない欠点があり、また作業に
於いても硬化反応が遠く、どうしても抄造中にＭＳＨと
石膏との反応が起こるために抄造、賦形中の操作を不安
定な状態で短時間のうちに行なわなければならず、作業
性の上でも難点があった。
ドレート（丈ａ０・山２０３・ＣａＳ０４・１２日２０
，以下ＭＳＨと略す）に水の存在下で石膏（ＣａＳ０４
・２日２０）を反応させてカルシウムアルミネートトリ
サルフェートハィドレート（父ａ０・Ｎ２０３・父ａＳ
０４・３１〜３２日２０、以下ＴＳＨと略す）の硬化体
を得ることが行なわれているが、従来用いられていた石
膏ではＭＳＨに対する反応性が相当に高いために賦形完
了までに反応が進み嵩高いスラリ−となるために高密度
の賦形体が得られず、また反応したスラリーでは大きな
強度をもつ賦形体が得られない欠点があり、また作業に
於いても硬化反応が遠く、どうしても抄造中にＭＳＨと
石膏との反応が起こるために抄造、賦形中の操作を不安
定な状態で短時間のうちに行なわなければならず、作業
性の上でも難点があった。
本発明はかかる従来の欠点を解消せんとするもので、以
下詳細に説明する。本発明はＭＳＨ＋ＣａＳ０４・２Ｌ
Ｏ→ＴＳＨの製造過程に於いて、石膏としてＸ線回折で
００２苗未発達、０２の毎発達の針状結晶構造をもつ石
膏を用いるものである。即ち、石膏としてはＸ線回析か
ら見ると第１図ａで示すように００２面未発達、０２の
毎発達の結晶構造をもつ石膏Ａと、同図ｂで示すように
００あ毎発達、０２の罰未発達の結晶構造をもつ石膏Ｂ
とがあるが、本発明に於いては第１図ａの石膏Ａが用い
られる。しかしてこの石膏Ａを用い、まずＭＳＨと石膏
の秤量を行ない、ＭＳＨ＋石膏を例えばラリー濃度８％
で混練し、ＭＳＨ＋石膏の鶴練後にｐＨのコントロール
を行なう。ｐＨのコントロールには消石灰飽和液を用い
る。次いでｐＨの調整後、スラリーを抄造して例ば固形
分が５０％の賦形体を抄造する。ここで従来の石膏Ｂを
用いた場合の操作では、この過程でもうかなり反応が進
んでいたために安定下で賭形体を抄造できなかったが、
本発明の場合では、反応が遅延している状態で賦形体を
抄造することが可能となる。このように本発明にあって
はＭＳＨと石膏とを水の存在下にて反応硬化させてＴＳ
Ｈを製造するに当り、石膏としてＸ線回析で０２０面が
発達した結晶構造をもつ石膏を用いているから、石膏と
ＭＳＨの反応が遅延される。即ち、ＭＳＨ十ＣａＳ０４
・汎２０→ＴＳＨ反応過程に於いて石膏のみを第１図ａ
，ｂに示した石膏Ａ，Ｂと変えたところ、反応率と時間
との関係は第２図の通りであった。この第２図に於いて
曲線ａは石膏Ａを用いたもの、曲線ｂは石膏Ｂを用いた
ものである。したがって本発明の場合ではＭＳＨと石膏
との反応が遅延するために賦形完了までの反応進行が低
く抑えられ、嵩低いスラリーとなって高密度の賦形体が
得られ、また賦形後には反応硬化する割合が高くなるた
めにＴＳＨ結晶間の結合強度が高くなって強度の大きな
賦形体が得られる利点がある。更にこのように反応が遅
延されるために沙造、賦形中の操作を安定な状態で行な
い得て、操作が楽に行なえる利点がある。以下本発明を
実施例に基づいて具体的に説明する。
下詳細に説明する。本発明はＭＳＨ＋ＣａＳ０４・２Ｌ
Ｏ→ＴＳＨの製造過程に於いて、石膏としてＸ線回折で
００２苗未発達、０２の毎発達の針状結晶構造をもつ石
膏を用いるものである。即ち、石膏としてはＸ線回析か
ら見ると第１図ａで示すように００２面未発達、０２の
毎発達の結晶構造をもつ石膏Ａと、同図ｂで示すように
００あ毎発達、０２の罰未発達の結晶構造をもつ石膏Ｂ
とがあるが、本発明に於いては第１図ａの石膏Ａが用い
られる。しかしてこの石膏Ａを用い、まずＭＳＨと石膏
の秤量を行ない、ＭＳＨ＋石膏を例えばラリー濃度８％
で混練し、ＭＳＨ＋石膏の鶴練後にｐＨのコントロール
を行なう。ｐＨのコントロールには消石灰飽和液を用い
る。次いでｐＨの調整後、スラリーを抄造して例ば固形
分が５０％の賦形体を抄造する。ここで従来の石膏Ｂを
用いた場合の操作では、この過程でもうかなり反応が進
んでいたために安定下で賭形体を抄造できなかったが、
本発明の場合では、反応が遅延している状態で賦形体を
抄造することが可能となる。このように本発明にあって
はＭＳＨと石膏とを水の存在下にて反応硬化させてＴＳ
Ｈを製造するに当り、石膏としてＸ線回析で０２０面が
発達した結晶構造をもつ石膏を用いているから、石膏と
ＭＳＨの反応が遅延される。即ち、ＭＳＨ十ＣａＳ０４
・汎２０→ＴＳＨ反応過程に於いて石膏のみを第１図ａ
，ｂに示した石膏Ａ，Ｂと変えたところ、反応率と時間
との関係は第２図の通りであった。この第２図に於いて
曲線ａは石膏Ａを用いたもの、曲線ｂは石膏Ｂを用いた
ものである。したがって本発明の場合ではＭＳＨと石膏
との反応が遅延するために賦形完了までの反応進行が低
く抑えられ、嵩低いスラリーとなって高密度の賦形体が
得られ、また賦形後には反応硬化する割合が高くなるた
めにＴＳＨ結晶間の結合強度が高くなって強度の大きな
賦形体が得られる利点がある。更にこのように反応が遅
延されるために沙造、賦形中の操作を安定な状態で行な
い得て、操作が楽に行なえる利点がある。以下本発明を
実施例に基づいて具体的に説明する。
〔実施例 １〕
ＭＳＨとして平均粒度が８ムのものを用い、石膏として
第１図ａで示した針状結晶構造の石膏Ａを用いて両者を
秤量し、ＭＳＨ十石管をスラリー濃度８．０％で混練し
て、この混練直後に消石灰飽和水溶液にｐＨを１１．５
に調整した。
第１図ａで示した針状結晶構造の石膏Ａを用いて両者を
秤量し、ＭＳＨ十石管をスラリー濃度８．０％で混練し
て、この混練直後に消石灰飽和水溶液にｐＨを１１．５
に調整した。
次いでこのスラリーを抄造して固形分が５０％の賦形体
を製造し、養生して硬化体を得た。〔実施例 ２〕 ＰＨを１２．０にコントロールした他は実施例１と同様
にして硬化体を得た。
を製造し、養生して硬化体を得た。〔実施例 ２〕 ＰＨを１２．０にコントロールした他は実施例１と同様
にして硬化体を得た。
〔実施例 ３〕
軸を１２．５にコントロールした他は実施例１と同様に
して硬化体を得た。
して硬化体を得た。
〔比較例 １〕
石膏Ａに代えて第１図ｂに示した石膏Ｂを用いた他は実
施例１と同様にして硬化体を得た。
施例１と同様にして硬化体を得た。
〔比較例 ２〕石膏Ａに代えて石膏Ｂを用いた他は実施
例２と同様にして硬化体を得た。
例２と同様にして硬化体を得た。
〔比較例 ３〕
石膏Ａに代えて石膏Ｂを用いた他は実施例３と同様にし
て硬化体を得た。
て硬化体を得た。
以上の実施例１〜３及び比較例１〜３とにつき、スラリ
ーのｐＨと養生温度とが反応遅延に及ぼす影響を調べた
ところ、下記第１表の結果が得られた。
ーのｐＨと養生温度とが反応遅延に及ぼす影響を調べた
ところ、下記第１表の結果が得られた。
〔第１表）
但し、第１表中の数値の単位は分である。
この第１表の結果から、石膏Ｂを用いた比較例１〜３の
場合では温度を下げてもｐＨを１１．５から上昇させて
も反応時間の遅延は見られないが、石膏Ａを用いた実施
例１〜３では温度を下げたりｐＨを上げたりすることに
より反応時間の遅延は種々に調節できることが判った。
また実施例１〜３のものと比較例２のものとについて硬
化体の比重と強度とを測定したところ、下記第２表の結
果が得られた。
場合では温度を下げてもｐＨを１１．５から上昇させて
も反応時間の遅延は見られないが、石膏Ａを用いた実施
例１〜３では温度を下げたりｐＨを上げたりすることに
より反応時間の遅延は種々に調節できることが判った。
また実施例１〜３のものと比較例２のものとについて硬
化体の比重と強度とを測定したところ、下記第２表の結
果が得られた。
「第２表〕
第２表の結果から、石膏Ｂを用いた比較例２の場合では
抄造中に反応が起こり嵩高いものができて比重の小さな
軽く弱いものしか得られないが、同条件で石膏Ａを用い
た実施例２の場合では抄造中及び藤形後の反応遅延があ
るために比重が高く強いものが得られる。
抄造中に反応が起こり嵩高いものができて比重の小さな
軽く弱いものしか得られないが、同条件で石膏Ａを用い
た実施例２の場合では抄造中及び藤形後の反応遅延があ
るために比重が高く強いものが得られる。
また温度やｐＨを変えることにより比重の低いものから
高いものまで容易に得られる。このように本発明にあっ
てはＸ線回析で０２０面が発達した結晶構造の石膏を用
いたことにより比重、強度が共に大きく、また反応が遅
延しているために抄造から賦形体を得るまでの操作過程
が容易になることがわかった。
高いものまで容易に得られる。このように本発明にあっ
てはＸ線回析で０２０面が発達した結晶構造の石膏を用
いたことにより比重、強度が共に大きく、また反応が遅
延しているために抄造から賦形体を得るまでの操作過程
が容易になることがわかった。
図面の簡単な説明第１図ａは本発明で用いる石膏Ａの拡
大図、同図ｂは従来の石膏Ｂの拡大図、第２図は石膏Ａ
，Ｂの反応速度の比較図である。
大図、同図ｂは従来の石膏Ｂの拡大図、第２図は石膏Ａ
，Ｂの反応速度の比較図である。
第１図
第２図
Claims (1)
- １ カルシウムアルミネートモノサルフエートハイドレ
ートに水の存在下で石膏を反応硬化させてカルシウムア
ルミネートトリサルフエートハイドレートを製造するに
際し、Ｘ線回析で０２０面が発達した結晶構造をもつた
石膏を用いることを特徴とする硬化体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9982877A JPS6016383B2 (ja) | 1977-08-15 | 1977-08-15 | 硬化体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9982877A JPS6016383B2 (ja) | 1977-08-15 | 1977-08-15 | 硬化体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5431436A JPS5431436A (en) | 1979-03-08 |
| JPS6016383B2 true JPS6016383B2 (ja) | 1985-04-25 |
Family
ID=14257671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9982877A Expired JPS6016383B2 (ja) | 1977-08-15 | 1977-08-15 | 硬化体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6016383B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6071452A (ja) * | 1984-07-07 | 1985-04-23 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ウエブの巻出姿勢制御方法 |
| JPH0138112Y2 (ja) * | 1985-02-28 | 1989-11-15 | ||
| JPH0234546U (ja) * | 1988-08-26 | 1990-03-06 |
-
1977
- 1977-08-15 JP JP9982877A patent/JPS6016383B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5431436A (en) | 1979-03-08 |
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