JPS60162771A - るつぼ - Google Patents
るつぼInfo
- Publication number
- JPS60162771A JPS60162771A JP1783784A JP1783784A JPS60162771A JP S60162771 A JPS60162771 A JP S60162771A JP 1783784 A JP1783784 A JP 1783784A JP 1783784 A JP1783784 A JP 1783784A JP S60162771 A JPS60162771 A JP S60162771A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hole
- crucible
- nozzle
- molten substance
- spouting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B14/00—Crucible or pot furnaces
- F27B14/08—Details peculiar to crucible or pot furnaces
- F27B14/10—Crucibles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は物質の蒸気を噴出させるようにしたるつほに
関するものである。
関するものである。
従来、常温固体状の物質を加熱して蒸発させ、被蒸着材
上に蒸着して薄膜を形成する真空蒸着においては、特公
昭54−9592号公報に示されているようなるつばが
使用されてい喪。即ち、第1図において、(1)は噴出
孔(1a)が設けられたるつぼで、常温固体状の金属部
材が収容される。(2)はるつぼ(1)を囲繞し九フィ
ラメントからなる加熱手段である。
上に蒸着して薄膜を形成する真空蒸着においては、特公
昭54−9592号公報に示されているようなるつばが
使用されてい喪。即ち、第1図において、(1)は噴出
孔(1a)が設けられたるつぼで、常温固体状の金属部
材が収容される。(2)はるつぼ(1)を囲繞し九フィ
ラメントからなる加熱手段である。
上記構成において、加熱手段(2)でるつは(1)内の
金属部材を蒸発させて、噴出孔(1a)から蒸気を噴出
する場合、溶融物質が突沸した際に噴出孔(la)に固
着して、孔径を狭めるとか孔の形状を変えてしまうので
、予定された蒸着特性が得られないという欠点があった
。
金属部材を蒸発させて、噴出孔(1a)から蒸気を噴出
する場合、溶融物質が突沸した際に噴出孔(la)に固
着して、孔径を狭めるとか孔の形状を変えてしまうので
、予定された蒸着特性が得られないという欠点があった
。
この発明は上記欠点を解消するためになされたもので、
るつぼの噴出孔と対向したしゃへい部材を設けることに
よって、突沸した溶融物質が噴出孔に固着するのを防止
して、噴出孔の変形を防止できるるつほを提供する。
るつぼの噴出孔と対向したしゃへい部材を設けることに
よって、突沸した溶融物質が噴出孔に固着するのを防止
して、噴出孔の変形を防止できるるつほを提供する。
以下、図について説明する。第2図において、(1)
(2)は従来と同様である。(3)は噴出孔(1a)と
対向して配置されたしゃへい材で、るつは(1)の内壁
に固着されている。なお、しやへい材(3)はるつぼ(
1)と一体で形成してもよい。(4)は金属S拐等の溶
融物質が収容される収容部である〇 次に作用を説明する。12図において、るつぼ(11で
溶融した物質が突沸した場合、突沸した溶融物ηはしや
へい劇(3)で阻止されて、噴出孔(1a)へ到達しな
い。
(2)は従来と同様である。(3)は噴出孔(1a)と
対向して配置されたしゃへい材で、るつは(1)の内壁
に固着されている。なお、しやへい材(3)はるつぼ(
1)と一体で形成してもよい。(4)は金属S拐等の溶
融物質が収容される収容部である〇 次に作用を説明する。12図において、るつぼ(11で
溶融した物質が突沸した場合、突沸した溶融物ηはしや
へい劇(3)で阻止されて、噴出孔(1a)へ到達しな
い。
上言e実施例において、しやへい材(3)は1個のもの
について説明したが、複数個をジグザグに配置すると、
さらに阻止効果が上がる。
について説明したが、複数個をジグザグに配置すると、
さらに阻止効果が上がる。
この発明によると、噴出孔と対向したじゃへい材を設け
ることによって、突沸した溶融物朱が噴出孔に同着する
のを防止できるので、噴出孔の変形を防止できる。
ることによって、突沸した溶融物朱が噴出孔に同着する
のを防止できるので、噴出孔の変形を防止できる。
第1図は従来のるつばを示す断面図、第2図はこの発明
の一実施例を示す断面図である。図において、(1)は
るつは、(3)はしやへい材でおる。 なお、各図中同一符号は同−又は札当部分を示す0 代理人 大 岩 施 雄 第1−図 第2図
の一実施例を示す断面図である。図において、(1)は
るつは、(3)はしやへい材でおる。 なお、各図中同一符号は同−又は札当部分を示す0 代理人 大 岩 施 雄 第1−図 第2図
Claims (1)
- (1)噴出孔から物質の蒸気を噴出させるものにおいて
、溶融物質の収容部と上記噴出孔との間に上記噴出孔か
ら所定O距離をあけて上記噴出孔と対向したしゃへい材
を設けたるりは。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1783784A JPS60162771A (ja) | 1984-02-01 | 1984-02-01 | るつぼ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1783784A JPS60162771A (ja) | 1984-02-01 | 1984-02-01 | るつぼ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60162771A true JPS60162771A (ja) | 1985-08-24 |
Family
ID=11954795
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1783784A Pending JPS60162771A (ja) | 1984-02-01 | 1984-02-01 | るつぼ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60162771A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004211110A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-29 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 蒸着用るつぼ、蒸着装置および蒸着方法 |
KR100490537B1 (ko) * | 2002-07-23 | 2005-05-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 가열용기와 이를 이용한 증착장치 |
EP3241923A4 (en) * | 2014-12-29 | 2018-02-07 | Kunshan Go-Visionox Opto-Electronics Co., Ltd. | Linear evaporation source |
-
1984
- 1984-02-01 JP JP1783784A patent/JPS60162771A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100490537B1 (ko) * | 2002-07-23 | 2005-05-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 가열용기와 이를 이용한 증착장치 |
US8025733B2 (en) * | 2002-07-23 | 2011-09-27 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Heating crucible and deposition apparatus using the same |
JP2004211110A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-29 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 蒸着用るつぼ、蒸着装置および蒸着方法 |
EP3241923A4 (en) * | 2014-12-29 | 2018-02-07 | Kunshan Go-Visionox Opto-Electronics Co., Ltd. | Linear evaporation source |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5104695A (en) | Method and apparatus for vapor deposition of material onto a substrate | |
US3230110A (en) | Method of forming carbon vapor barrier | |
US3699917A (en) | Vapor deposition apparatus | |
JPS60162771A (ja) | るつぼ | |
KR0158703B1 (ko) | 대량생성을 위한 넓은 채널 환상링 모양의 게터장치 | |
US4983806A (en) | Method and device for cooling electron beam gun | |
US3523222A (en) | Semiconductive contacts | |
JPS60255971A (ja) | 薄膜形成装置 | |
JPS61163267A (ja) | 真空蒸着装置 | |
JPH08306978A (ja) | 酸化物薄膜の製造方法および装置 | |
JPH01176071A (ja) | 蒸着方法 | |
DE2628765C3 (de) | Vorrichtung zum Aufdampfen insbesondere sublimierbarer Stoffe im Vakuum mittels einer Elektronenstrahlquelle | |
KR0144917B1 (ko) | 하향분사가 가능한 소오스 구조를 이용한 이온빔 증착방법 및 그 장치 | |
JP3323522B2 (ja) | 分子線セル | |
JPS648267A (en) | Thin film forming device | |
JPS5910992B2 (ja) | 蒸着装置 | |
JPS5664480A (en) | Manufacture of semiconductor detector for radioactive ray | |
JPS60116771A (ja) | クラスタイオンビ−ム蒸発源装置 | |
JPS59183341A (ja) | 焦電形赤外線センサの製造方法 | |
JPH02270959A (ja) | 蒸発源用坩堝 | |
JPH06948B2 (ja) | 金属蒸発方法 | |
Khoromenko | Ejection of Metal Droplets From a Crucible During Evaporation | |
JPS61279668A (ja) | 薄膜形成装置 | |
JPS60211067A (ja) | 薄膜形成装置 | |
JPH0347571B2 (ja) |