JPS6014439B2 - リ−ドオンリメモリ回路 - Google Patents

リ−ドオンリメモリ回路

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JPS6014439B2
JPS6014439B2 JP55093647A JP9364780A JPS6014439B2 JP S6014439 B2 JPS6014439 B2 JP S6014439B2 JP 55093647 A JP55093647 A JP 55093647A JP 9364780 A JP9364780 A JP 9364780A JP S6014439 B2 JPS6014439 B2 JP S6014439B2
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JP
Japan
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bus
sense
memory cell
voltage
transistor
Prior art date
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Expired
Application number
JP55093647A
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English (en)
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JPS5718086A (en
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久紘 佐藤
実 八田
彰 大沢
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
    • G11C17/14Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards in which contents are determined by selectively establishing, breaking or modifying connecting links by permanently altering the state of coupling elements, e.g. PROM
    • G11C17/18Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory

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  • Read Only Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は半導体リードオンリメモリ回路に関するもの
で、メモリセルが誘起する電圧と、ダミーメモリセルが
誘起する電圧をたとえばダイナミック型フリツプフロツ
プ等を用いたセンス回路によって比較増幅することによ
り、高速、低消費電力のリードオンリメモリを得るもの
である。
従来、半導体リードオンリメモリは、メモリセルのトラ
ンジスタと負荷トランジスタの相互コンダクタンスの比
を利用して出力を得る型式のものが用いられてきた。第
1図にその一例の主要部を示す。1はメモリセルを構成
するMOSトランジスタで、そのドレーンは読み出し母
線3に、そのゲートは選択母線4に接続され、そのソー
スは接地されている。
2は負荷のデプリーション型MOSトランジスタで、そ
のドレーンは直流電圧源Vooに接続さ、ソース並びに
ゲートは読み出し母線3に接続されている。
選択母線4に供給された電圧により、トランジスタ1が
ターンオンされると、トランジスタ2は常にターンオン
された状態になっているので、読み出し母線3の篭位は
トランジスタ1とトランジスタ2との相互コンダクタン
スの比によって決定される電位へと変化する。しかしこ
の方法によれば、読み出し母線3の浮遊容量などに蓄積
された電荷はメモリセルのトランジスタ1を通って移動
するため、高速化するためにはトランジスタ1の相互コ
ンダクタンスを大きくしなければならない。以上はメモ
リセルに“0”′が書き込まれている場合についてであ
るが、メモリセルに“1”が書き込まれている場合には
、トランジスタ1がないかもしくはあっても閥値電圧が
高く母線4に供給された電圧によってターンオンしない
構成である。この“1”の場合の読み出しの際には負荷
トランジスタ2を通ってのみ電荷が移動する。従って高
速化のためにはトランジスタ2の相互コンダクタンスも
大きくしなければならない。しかし、そうすると過渡状
態での電流が増えるばかりでなく、定常状態での電流も
増加し、消費電力の著しい増加につながる。またメモリ
セルのトランジスタ2の面積が大きくなり、集積度が低
下する。本発明は上記従来の欠点を除去するもので、ダ
ミーメモリセルを設け、メモリセルによって譲超される
電圧をたとえばダイナミック型フリツプフロツプを用い
たセンス回路によってダミーメモリセルによって誘起さ
れる電圧と比較増幅して出力を得ることにより、定常状
態で流れる電流を小さくし、消費電力を著しく増加させ
ることなしに、高集積度の高速リードオンリメモリを得
る方法を提供しようとするものである。
以下図面によりその実施例をNチャンネルプ。
セスの場合について説明する。勿論本発明はPチャンネ
ルプロセスの場合についても同様にして実施できる。第
2図は“1”が書き込まれたメモリセルで、MOSトラ
ンジスタ ー 0のドレーンはセンス母線11にゲート
は選択母線13に接続され、ソース12は開放となって
いる。第3図は“0’’が書き込まれたメモリセルで、
MOSトランジスタ20のドレーンはセンス母線21に
、ソースは抵抗24の一端22に、ゲートは選択母線2
3にそれぞれ接続され、また抵抗24の他の一端25は
接地されている。第4図は上記〆モリセル、ダミーメモ
リセル、センス回路、プリチャージ回路、データ出力回
路等からなるこのリードオンリメモリ回路の構成を示す
もので、図中30,31,32,33および57,35
,58,59は第2図の“1”が書き込まれたメモリセ
ルの10,11,12,13に相当する。また、47,
31,48,49,50,51および52,35,53
,54,55,56は第3図の“0”が書き込まれたメ
モリセルの20,21,22,23,24,25に相当
する。34,36,37,38,39および60,61
,62,63,64はダミーメモリセルを構成し、MO
Sトランジスタ34のドレーンはセンス母線35に、ソ
ースは蓄積コンデンサ38の一端36に、ゲートは選択
母線37に接続され、蓄積コンデンサ38の他端39は
接地されている。
60,61,62,63,64からなるダミーメモリセ
ルについても同様である。
40,41,42,67,68,69はデータ出力回路
でMOSトランジスタ42および69のドレーンはそれ
ぞれセンス母線31および35に接続され、ソースはデ
ータ出力バス40および67に接続されている。
44はプリチャージ回路でセンス母線31および35を
あらかじめ一定の同一レベルの電圧にプリチャージする
このときMOSトランジスタ30,34,4 7,52
,57,60等はオフになっており、蓄積コンデンサ3
8,63には電荷が蓄積されていない。さて、選択母線
33が選択された場合について考えると、選択母線33
およびセンス回路に対し反対側に位置するダミーメモリ
セルの選択母線37にハイレベルの電圧が印加され、ト
ランジスタ30および34がターンオンされると、セン
ス母線31の電圧は変化しないが、センス母線35の電
圧は、このセンス母線と基板等との間の容量に蓄積され
た電荷の一部がトランジスタ34を通ってダミーメモリ
セルの蓄積コンデンサ38を充電するので、センス母線
35と基板との容量と蓄積コンデンサ38の容量との比
によって決まる一定値まで低下する。蓄積コンデンサ3
8の容量が小さければこの電圧の変化はごくわずかであ
り、したがってセンス母線31とセンス母線35との電
圧の違いもわずかである。このわずかの電圧の違いをダ
イナミック型センス回路43で比較増幅し、センス母線
31および35にソースを接続したトランジスタ42お
よび69のゲート41および68にハイレベル電圧を供
聯合し、両トランジスタの各ドレーンに接続された読み
出し母線40と67にデ−夕“1”およびその反転デー
タが出力される。以上、“1”が書き込まれたメモリセ
ルが選択された場合について説明したが、47,48,
49,50,51からなる“0”が書き込まれたメモリ
セルが選択された場合には選択母線33には電圧は供給
されず、代わりに選択母線49に/・ィレベルの電圧が
供給され、トランジスタ47が夕ーンオンされる。
この場合はトランジスタ47のソース48が抵抗50を
通して接地されているので、センス母線31と基板等と
の間の容量に蓄積された電荷がトランジスタ47を通し
て放電される。そして、センス母線31の電圧がセンス
母線35の電圧よりも低くなったときにセンス回路が動
作すれば、“1”が書き込まれたメモリセルが選択され
た場合とは逆にセンス母線31の電圧がローレベルに、
センス母線35の電圧がハイレベルに増幅される。そし
てロ−レベルのデ−夕“0”が読み出し母線40‘こ出
力され、その反転データが読み出し母線67に出力され
る。なお、データ出力の後、次のサイクルが始まる前に
トランジスタ45,65のゲート46,66に電圧が供
給されてトランジスタ45と65がターンオンし、蓄積
コンデンサ38,63に蓄積された電荷を放電させる。
なおこの実施例では第2図においてメモリセルのMOS
トランジスタのソース12を開放としたが、ソース12
は正の直流電圧源V。
。に接続してもよい。また第3図において、MOSトラ
ンジスタ20のソースと接地点との間に接続されている
抵抗24を除去して、MOSトランジスタ20のソース
を直接接地して半導体基板に接続してもよく、要するに
ソースは電流供給母線となる端子に接続すればよい。
さらに、ダミーメモリセルの蓄積コンデンサ38の端子
39を上記の直流電圧源Vooに接続するなど種々の変
形が考えられる。以上説明したように、本発明によれば
ダイナミック回路を利用することにより、消費電力を小
さく保つたまま、またメモリセルのトランジスタを小さ
くして高集積度を保つたまま高速動作が可能である。
また以上説明した回路はダイナミックランダムアクセス
メモリと共通の部分が多く、ダイナミックランダムアク
セスメモリの設計にわずかな変更を加えるだけで簡単に
リードオンリメモリが得られるという利点もある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従瑠来のIJードオンリメモリ回路の主要部を
示す図、第2図は本発明の実施例で用いるメモリセルで
“1”が書き込まれた場合を示す図、第3図は本発明の
実施例で用いるメモリセルで“0”が書き込まれた場合
を示す図、第4図はこれらのメモリセルとダミーメモリ
セル、センス回路、プリチャージ回路などからなる本発
明のリードオンリメモリ回路を示す図である。 1,2,10,20,30,34,42,45,47,
52,57,60,65,69““”MOSトランジス
タ、3,40,67・・・・・・読み出し母線、4,1
3,23,33,37,49,54,59,63・・・
・・・選択母線、11,31,35・・・・・・センス
母線、24,2 ,55・・・・・・抵抗、38,63
・・・・・・蓄積コンデンサ、43・・・・・・センス
回繁。 第1図 第2図 ・第3図 第4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ドレイン、ソースおよびゲート電極を有する第1の
    MISトランジスタのソース電極を電流供給母線に接続
    し、ドレイン電極をセンス母線に接続し、さらにゲート
    電極を選択母線に接続した第1のメモリセルと、ドレイ
    ン、ソースおよびゲート電極を有する第2のMISトラ
    ンジスタのソース電極を開放もしくは電源端子へ接続し
    、ドレイン電極をセンス母線に接続し、さらにゲート電
    極を選択母線に接続した第2のメモリセルと、ドレイン
    電極をセンス母線に接続し、ゲート電極を選択母線に接
    続した第3のMISトランジスタおよび同第3のMIS
    トランジスタのソース電極に第1端子を接続し、第2端
    子を電流供給母線に接続した蓄積コンデンサとからなる
    ダミーセルと、センス回路とを備えてなり、前記第1も
    しくは第2メモリセルのいずれかによって誘起される電
    圧と前記ダミーセルによって他のセンス母線に誘起され
    る電圧とを前記センス回路によって比較増幅してデータ
    出力線に情報を読み出すことを特徴とするリードオンリ
    メモリ回路。
JP55093647A 1980-07-08 1980-07-08 リ−ドオンリメモリ回路 Expired JPS6014439B2 (ja)

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JPS5718086A JPS5718086A (en) 1982-01-29
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JPS58139399A (ja) * 1982-02-15 1983-08-18 Hitachi Ltd 半導体記憶装置
JPS6173300A (ja) * 1984-09-17 1986-04-15 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JPS6177199A (ja) * 1984-09-21 1986-04-19 Toshiba Corp 半導体記憶装置
FR2600808A1 (fr) * 1986-06-26 1987-12-31 Dolphin Integration Sa Plan memoire a lecture rapide

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