JPS60142944A - スクアライン化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般的に云えは改良方法に関し、更に詳しく
云えば本発明は、層型の感光像形成装置 化合物の改良された製造方法に関する。本発明はその／
実施態様においては、ゾアルキルスクアレートとアニリ
ン誘導体との反応により、ある種のスクアライン化合物
の製造方法を包含する。得られるスクアライン化合物は
、層型の感光像形成装置において有用であり、これらの
装置においては例えば、それらの感度を変更あるいは向
上させて、それらの装置が、レーザープリンター、特に
ガリウム砒素ヨー素し−ザーグリンターに必要な可視光
および赤外線に感光性とすることができる。これらの感
光装置では例えは、光発生層と正孔輸送層との間の位置
あるいは光発生層と支持基体との間の位置に、本発明方
法により調製したスクアライン化合物からなる光４電性
層を位置させることができる。これらのスクアライン化
合物は、スペクトルの赤外および／また社可視領域にお
いて光発生層の固有の性質を向上あるいは低下させるこ
とができて、それによつ、てそのような装置を可視光お
よび／または赤外線の波長に対して感応性とすることが
できるものと考えられている。

ある種のスクアライン化合物、特にヒドロキシスクアラ
インを利用した光導電性像形成部材は公知である。また
、光発生層と輸送層を有する層型の感光装置も公知であ
る（参照米国特許第１Ａ、！乙左９９０号明細書）。こ
の特許明細暫、に記載された光発生層の例としては、三
方晶系セレン、フタロシアニンを包含し、使用できる輸
送層の例は、不活性な樹脂バインダー中に分散させたあ
る種のジアミンから構成されている。史に、感光像形成
装置にある糧のスクアライン顔料を使用することは、継
続中の特許出願明細書に記載されておシ、この明細書で
は、基体、正孔ブロッキング層、任意の接着界面層、無
機光発生層、光発生層の固有の性質を向上あるいは低下
させることができる光導電性材料および正孔輸送層から
なる改良された感光装置が記載されている。この装置の
光導電性拐料としては、上記の明細書の７３頁２７行の
初めに概記された如き式のヒドロキシスクアライン化合
物を包含する各種のスクアライン顔料が選択することが
できる０更に、米国特許第３、　ｇ　、２４０９９号明
細書には、ある種の感光性ヒドロキシスクアライン化合
物が記載されている。

この特許明細書の開示によれば、そのスクアライン化合
物は、通常の静電写真像形成装置において感光性である
。

他の継続中の特許出願明細書においては、ビス−９−（
ｇ−ヒドロキシジュロリゾニル）スクアラインの如き新
規なスクアライン化合物と、それを像形成部材として使
用することが記載されている。それらの像形成部材の７
ｇは、支持基体、正孔ブロッキング層、任意の接着界興
層、無機光発生層・光発生層の固有の性質を１句−）Ｔ
！たはイ氏下させることができる光導電性材料および正
孔輸送層を有しておシ、この光導電性材料は、上記の継
続中の出願明細書記載された新規なジュロリジンスクア
ライン材料から構成されている０例えば、上記で参照し
た継続中の出願明細書に記載された新規なゾユロリジニ
ルスクアライン化合物は、芳香族アミンとスクアリック
酸とを、約／Ｊ　：　／〜３：／のモル比で脂肪族アル
コールおよび任意の共沸性共溶剤の存在下で反応させて
調製されている。約２００ｍ１のアルコールが、０．１
モルのスクアリック酸に対して用いられ、一方、約ｔｉ
ｏｍｉ〜約り０００−の共沸性共溶剤が選択されている
。上記のスクアリック酸の反応は一般的には、約ＳＯ°
Ｃ〜約／３０℃の温度で達成されている。アミン反応物
の例としては、ｇ−ヒドロキシジュロリジンがあげられ
、一方、脂肪族アルコールの例としては、／−ブタノー
ルが挙げられ、共沸性材料としては、ベンゼンおよびト
ルエンの如き芳香族系溶剤が挙げられている。同様にす
べての他の公知の方法は、出発物質としてスクアリック
酸を挙げている。

スクアライン化合物を調製する上記の方法は、その意図
した目的には適当である示、光導′電性材料として有用
であるスクアライン化合物を調整できる他の方法が引続
き要望されている。更に、得、　られるスクアライン化
合物が、従来のスクアリック酸方法から得られたスクア
ラインよりも不純物が実質的に少ないスクアライン化合
物である簡単で経済的な調製方法が依然として要求され
ている。

それは、スクアリック酸方法から得られたスクアライン
化合物中に不純物が存在すると、このような化合物の、
感光性が有意に変化し、多くの場合には、本発明の方法
で調製したスクアライン化合物よりも郷党性、が低下、
するからである。更に、ノー型才の感光付像形成部材に
用いた時に、許容できる像を発生させることが、でき、
またそのような装置が多数回の像形成サイ、クルで繰返
し使用でき、しかも様、械壊境や周囲の条件で劣化しな
い新規なスクアライン化合物が引続き！！望されている
０更に、像形成部相中に組込んだ時にその生成物が優れ
た暗減衰と優れた感光性を発揮するある種のスクアライ
ン化合物の製造方法が依然として要望されている。また
、本発明の方法によれば、望ましい感度、低い暗減衰お
よび高い電荷許容値を有する新規な赤外線感応性スクア
ライン光発生材料からなるゼログラフ光導電性装置が提
供される。

従って、本発明の目的は、スクアライン化合物の改良さ
れた製造方法を枡供することである。

本発明の別の目的は、向上した感光性、優れた暗減衰性
、および許容できる１イ荷受容性を有するある種のスク
アライン化合物の改良された製造方法を提供することで
ある。

本発明の別の目的は、簡単で経済的なある糧のスクアラ
イン化合物の與造方法を提供することである。

本発明の更に別の目的は、公知のスクアリック酸方法に
より調製されたと同様なスクアラインよりも不純物が実
質的に少ないスクアライン化合物を得る改良方法を提供
することである。

本発明の別の目的は、ヒドロギシスクアライン、ジュロ
リジンスクアライン、フッ素化スクアラインおよび他の
スクアラインを、ジアルキルスクアレートを芳香族アミ
ンと反応させることによって得る改良方法を提供するこ
とである。

本発明のｇｆに別の目的はＳ　（ａられた生成物の粒子
径が、望ましくは約、２ミクロン以下あるいは公知のス
クアリック酸方法でｑＨられるスクアライン化合物より
も多くの場合に約局以下の粒子径であるスクアライン化
合物を提供することである。

本発明の上記の目的および他の目的は、一般的には、ジ
アルキルスクアレートとアニリンを酸触媒と脂肪族アル
コールの存在下で反応させることによシ達成された０更
にｇＴ：　Ｌ　＜云えば１本発明方法は、約乙０°Ｃ〜
／乙０℃の温度で、酸触媒と脂肪族アルコールの存在下
でジアルキルスクアレートとジアルキルアニリンとを反
応させることからなる。この反応は、下記の例示の式に
よって表わされる。。

■　一般反応 ０′″ スクアライン生（支）吻 スタフ２４４句前吻 上記式中のＲ、Ｒ，およびＲ２は、それぞれ無関係にア
ルキル基から選ばれ、Ｒは、アルキル基、ヒドロキシル
基またはフッ素であり、Ａｒ　は芳香族基であり、ｎは
θまたは／の数値である。

アルキル１１換基としては、約／〜約／θ個、好ましく
け／〜約６個の炭素原子を有するもの、例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプ
チル、ノニルおよびデシルを包含する。好ましいアルキ
ル基は、メチル、エチル、プロピルおよびブチルである
。

芳香族の置換基としては、フェニル、ナフチルの如く約
Ａ〜約２１１個の炭素原子を有するものを包含する。好
ましいのはフェニルである。

Ｒ５の置換基としては、すでに示した通り本明細書で定
義したアルキル基でもよいし、ヒドロキシまたはフッ素
でもよい。

ジアルキルスクアレート反応物の例としては、ジメチル
スクアレート、ジグロピルスクアレート、ジュテルスク
アレート、ジブチルスクアレート、ジペンチルスクアレ
ート、ジヘキシルスクアレート、ジへプチルスクアレー
ト、ジオクチルスクアレート等を包含する。好ましいも
のはジメチル。

ジエチル、ジゾロビルおよびジブチルスクアレートであ
る。アニリン反応物の例としては、Ｎ、Ｎ−ジメチルア
ニリン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジアルキ
ルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジブチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジペ
ンチルアニリン、Ｎ、Ｎ　−’／へ＊シルアニリン、３
−メチル−Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、３−ヒドロキシ
−Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、３−フルオロ−Ｎ、Ｎ−
ジメチルアニリン、３−ヒドロキシ−Ｎ、Ｎ−ジエチル
アニリン、３−エチル−Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等を
包含する。

反応は酸の存在下で達成され、これらの酸としては、硫
酸、トリクロル酢酸、シュウ酸、トルエンスルホン酸の
如き各糧の無機酸および有機酸を包含し、好ましいもの
は硫酸およびトリクロル酢酸である。

スクアラインと酸触媒の溶液番形成するためには、メタ
ノール、エタノール、フロパノール、ブタノール、特に
水を飽和した／−ブタノ一ル、アミルアルコール等を包
含する公知の脂肪酸アルコールが選択できる。本発明の
目的が達成される限り、すなわちジアルキルスクアレー
トと酸触媒の均一な溶液が形成できる限シ、他の溶剤も
使用できる。

反応温度は広い範囲にわたり、一般的には、使用した反
応物や他の同様なファクターによって変る。一般的には
反応温度は脂肪族アルコールが沸とうする温度で達成さ
れる。、しかして、例えは、反応温度は一般的には、約
６θ℃〜約７１，０℃、好ましくは約りｇ℃〜約／ｌθ
℃であシ、特に使用した脂肪族アルコールが、約３〜約
３個の炭素原子の長さの炭素釦を有する・場合は、上記
の９ｇ℃〜約１ｌＩｏ℃である。

使用する反応物と触媒の量は、使用する特定の反応物、
使用する反応温度を包含する多数のファクターによって
変化する。しかし・ながら一般的には、約Ｓミリモル〜
約Ｓθミリモルのジアルキルスクアレート、約１０ミリ
モル〜約ＳＱミリモルのアニリンおよび約３ミリリツト
ル〜約ＳＯミリリツトルの脂肪族アルコールが使用され
る。また酸触媒中には約ｌミリモル〜約４１０ミリそル
のフロトンが含有される。

公知の方法、例えばｐ過によって反応混合物から分離し
た後に得られた生成物を、主として融点のデータ、赤外
分析および可視吸収スペクトロスコピーで固定した。更
に、これらの技術から得られたデータを、スクアリック
酸方法で調製した同一の化合物のデータと比較した。更
に、炭素、水素、窒素およびフッ素の如き各種の置換体
の元素分析を行った。

本発明方法で得られる特定のスクアライン化合物の例と
しては、ビス（クージメチルアミノフェニル）スクアラ
イン、ビス（ｌＩ−ジエチルアミノフェニル）スクアラ
イｙ１　ビス（コーフルオローダージメチルアミノフェ
ニル）スクアライン、ビス（２−フルオローダージエチ
ルアミノフェニル）スクアライン、ビス（λ−ヒドロキ
シーダージメチルアミノフェニル）スクアライン、ビス
（２−ヒドロキシ−グージエチルアミノフェニル）スク
アライン、ビス（コーメチルーグージメチルアミノフェ
ニル）スクアライン等を包含する。本発明方法で調製し
たフッ素化スクアライン化合物は、新規、な化学物質で
あると考えられる。これらの化合物は、継続中の米国特
詐′出願　□　号□明細書（この明細書の開示はすべて
参照文献として本明細ＩＦＫ包□含される。）に記載さ
れている。

特定のｌ実ｔｒｍ態様における本発明方法では、約ｓ□
〜約３θミリモルのジアルキルスクアレートと約・θ、
’／ｍｌ〜約／−の硫酸および約、ｔｆｎｌ〜約３０−
の脂肪酸アルコールを混合することによって、ジアルキ
ルスフアレー・ト反応物と酸触媒の溶液を形成する。こ
の溶液は、連続的に攪拌しながら約６θ℃〜約７６０℃
の温度に加熱する。約／θ〜約／θ０ミリモルの、量の
アニリン反応物を加熱しながら約６〜約７２時間を委し
てゆっ・くシと加える。更に約、２を時間〜り０時間加
熱後、反応混合物を冷却し、次いで所望のスクアライン
生成物をト過によって分離する。□候られた生成物はθ
、／ミクロン〜約、ｔ、ｏ　ミクロン以下の範囲の小さ
い粒径のものであって、この小さい粒子径のためにこれ
らのスクアライン化合物を樹脂バインダー材料中に高度
に分計させることができるので、スクアリック酸方法で
調製した同じスクアライン化合物に比して、上記の化合
物が優れた暗減衰性、高い電荷受容性と優れた感光度を
発揮することができる。

本発明方法で調製尤だ、新規なフッ素化スクアラインを
包含するスクアライン化合物は光導電性側斜として有用
である。従って、支持基体、正孔輸送層、および本発明
方法で調製したスクアライン化合物からなる光導電層（
これは支持基体と正孔輸送層との間に位置すする）から
なる層型の感光装置を調製することができる。他の実施
態様の感光装置は、基体、本発明方法で調製したスクア
ライン化合物からなる光導電層および該光導電層と支持
基体との間に位置する正孔輸送層から構成される。更に
、プリント装置に有用である感光装置であって、その像
形成部材が本発明方法で調製したスクアライン化合物か
らなる層であシ、この層が光発生層と正孔輸送層との間
あるいは光発生層と支持基体との間にある装置を調製す
ることができる。後者の装置の場合には、スクアライン
化合物からなる光導電層が、スペクトルの赤外および／
または可視範囲に訃ける光発生１錆の固有の性質を向上
あるいは低下させる作用をしている。とれらの装置は、
継Ｕ中の米国特許出願用ダ９３．／／’７号明細書（こ
の明細書の開示はすべて参照文献として本明細書に包含
される）に記載されている。

本発明方法で調製しだスクアライン化合物を利用した７
つの特定の改良された感光装置は、１基体、２正孔輸送
ノー、３任意の接清界面泗、４無機光発生層、５光発生
層の固有の性質を強化あるいは減少させることができる
光導電性材料（本発明方法で調製したスクアライン材料
）層および６正孔輸送層のとの記載した順序から構成さ
れている。

上述の感光＠置は、多数の公知の方法（例えば前記継続
中の特許出願明細書参照）で調製することができ、その
プロセスパラメーターとノ曽の被縫の順序は、所望する
装置によって変化する。しかして、例えは、三層構造の
感光装置ｇは、支持基体上に光導電ＮＩｉを真空蒸着し
、次いで正孔輸送層を溶液コーティングすることにより
調製することができる。別の変法では上記の層型の感光
ＪＡ置は、正孔ブロッキング層と任意の接着層とを有す
る導電性基体を用意し、それに溶剤コーティング法、ラ
ミネート法あるいは他の方法で、光発生層、本発明の新
規なスクアライン化合物（これがスペクトルの赤外およ
び／または可視範囲において光発生層の固有の性質を向
上あるいは低下させることができる。）からなる光導電
性材料層および正孔輸送層を施蓋させることによって調
製することができる。

本発明の改良された感光装置は、従来からゼログラフィ
ー像形成装置として知られているような各種の像形成装
置に組込むことができる。更に、無機の光発生層、およ
び本発明の新規なスクアライン化合物からなる光導電１
層を有する本発明の改良された感光装置は、可視光およ
び／または赤外光による像形成装置および印刷装置ｎで
同時に機能することができる。この実施態様では、本発
明の改良された感光装置は、負に帯電させ、約４ｔ００
〜約ｔ０００ナノメーターの波長の光に露光し、続いで
あるいは同時に得られた像を現像し、紙に転写すること
ができる。そしてこの操作は多数回繰返すことができる
０ 次に本発明の特定の好ましい実施態様を参照して本発明
を更に詳細に説明するが、これらの実施例は単なる例示
にすぎないとがｒするべきである。

本発明は、本明細書に開示された材料、条件あるいはプ
ロセスパラメーターに限定されるものではない。またす
べての部とすべてのノや一セントは、特に断シのない限
り暇針基準である。

実施例／ ビス（弘−ジメチルアミノフェニル）スクアラインを、
ジーｎ−プチルスクアレートとＮ、Ｎ−ジメチルアニリ
ンとを反応させて１［また。まず最初に、３θ）のスク
アリック酸をコθＯｍＡのトルエンおよび２０θ−の／
−ブタノール中に溶解してジーｎ−プチルスクアレート
を調製した。この混合物は約７６時間共沸的に環流させ
、生成した水をディーン、スタークトラップで除去した
。

反応完了後、過剰のトルエンとブタノール溶剤を減圧下
で除去し、且つ約／１１．ｇＣで、約θ／ｍｇＨｇで真
空蒸留して約９３％の収率でジープチルスクアレートを
得た。

次に上記で調製したジーｎ−プチルスクアレート／／３
９Ｃ！ｒミリモル）を、磁気攪拌俸および窒素ガス導入
管を備えた１００成の三ツロフラスコ中で、ｏ、１ｒｒ
ｔの濃硫酸を含有している水で朗報した３戒の／−ゲタ
ノール中に溶解した。反応混合物を攪拌し、／θ０成の
三ツロフラスコを囲んでいる油浴中で約／２θ〜／３θ
Ｃの温度に加熱して環流させた。次いで、約ｇ時間を要
して、３！ｒ分毎に約２滴づつ、１３ｄ（１０，２ミＩ
Ｊモル）のＮ、Ｎ−ジメチルアニリンを加えた。添加が
完了した時点で反応混合物の色は淡黄緑色であった。

約−グル９θ時間環流を続け、室温に冷却後２−のトリ
エチルアミン、３０ｙｎＡのエーテル／メタノール／：
／混合物を溶液に加えた。生じた沈ｃ設物を中間の焼結
ガラスロートで１過して反応混合物から分離し、次いで
エーテル／メタノール溶液（／：／）で洗浄した。この
洗浄はｐ液が淡青色になるまで、疏けだ。０７２ｇ（収
率約４ＬＳ％）でビス（ｔ−ジメチルアミノフェニル）
スクアラインが得られた。これは喫水、水素、窒素の元
素分析、融点データ、吸収スペクトロスコピーおよび赤
外分析で固定した。

融点：２７０Ｃ Ｃ２ｏＨ２ｏＮ２０２　としての計算値Ｃ７１Ａ９ｇ＋
　Ｈムコ９１　Ｎ　ｇ’７ダ実測値 Ｃ７６；、／／：　Ｈ／ｚ弘Ａｉ　Ｎ　９．０４実施例
コ 実施例／の方法を繰厄したが、ジーｎ−プチルスクアレ
ートの代わりに、ジャーナル・オプ・アメリカン、ケミ
カル、ソサイテイのｇｇ巻、／！；３３頁（／９１．４
）に概記されている方法で合成したゾメチルスクアレー
トを使用した。！；２．に％の収率でビス（グージメチ
ルアミノフェニル）スクアラインが得られた。この化合
物は実施例／の方法により同定して実質的に同一の結果
を得た。

実施例３ 実施例／の方法を繰返したが、−）−〇−プチルスクア
レートに代えて、スクアリック酸と／−プロパツールか
ら９３％の収率で調製したジーｎ−プロビルスクアレー
トを使用し、４ｔ７％の収率でビス（グージメチルアミ
ノフェニル）スクアラインを得た。このものは実施例／
の操作で同定し、実質的に同一の結果を得た。

実開０ 実施例／の方法を繰返したが、硫酸の代わりにａ６ｇの
トリクロル酢酸を使用し、７ダ％の収率でビス（ｔ−ジ
メチルアミノゾロビル）スクアラインを得た。この生成
・吻を実施例／の方法で同定し、ノミ質的に同一の結果
を得た。

実施例Ｓ ジアルヤルスクアレートと３−フルオロ−Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアニリンを反応させてビス（２−フルオローダージ
メチルアミノフエニンレ）スクアラインを得た。

前記で１Ｊ！製したジーｎ−プチルスクアレート１　／
３（Ｊ　（、ｔミ！Ｊモル）を、磁気撹拌俸と窒素がス
の入口を備えｔ、、―／　００　ｙｎｌｌ、の三ツロフ
ラスフ中で、０．７−の濃硫酸を含有している水で飽和
した／−ツタノール３−中に溶解した。この混合物を攪
拌し、三ツロフラスコを浸している油浴を／２θＣ〜／
３θＣの温度に保持して不活性雰囲気下で環流させた。

次に、ｉ’１０９の３−フルオロ−′Ｎ。

Ｎ−ジメチルアニリンを、約７〜ｇ時間を要して、圧力
を同じにしだロートから３θ分に２滴づつ反応混合物に
加えた。この時間の最後には、溶液が淡緑色に変化した
。環流を約２ダ時間続け、反応混合物を室温に冷却し、
この時点で、２戒のトリエチルアミン、および３０−の
エーテル／メタノール（混合比／ＩＩ）を加えた。生じ
た沈澱生成物を、細かい焼結ガラスロートな通して濾過
して反応混合物から分離し、次いで、ｐ液が淡青色にな
るまでエーテル、／メタノール（／！／）溶液で洗浄し
た。約０．３４＋ｇＣ収率／９％）のビス（２−フルオ
ロ″−ゲージメチルアミノフェニル）スクアラインが得
られた。これは、炭素、水素、窒素およびフッ素の元素
分析、吸収スペクトロスコーー赤外分析、およびマスス
（クトル分析で確認した。

更にこの材料の融点は２７３ｃであった。

Ｃ２０日１８Ｎ２０２’２　としての計算値：ＣＡ２ダ
ｌＩ膠　Ｈふθり墨　Ｎ！ｆｆ？＋　Ｆ／θ乙り実測値 ｃＡ２．５−ｆｆ＋　Ｈ，Ｓｍ３１　Ｎ７．７９＋　Ｆ
ｌｏ、ｇ／実施例６ 前記で１個展したジーｎ−プチルスクアレートｉ／３ｇ
（！；ミリモル）を、磁気撹拌棒および窒素導入管を備
えた三ツロフラスコ中で、θ／戒の濃硫酸を含有してい
る水で飽和したＳ成の／−シタノール中に溶解させた。

この混合物を攪拌し且つ油浴を／２０Ｃ〜／３θＣに保
持して不活性雰囲気下で副流させた。次に／、３ｇ’ｊ
の３−メチル−Ｎ、Ｎ−ツメチルアニリンを、５時間を
要して３０分に２滴づつ、圧力を等しくした胃−トから
反応混合物に加えた。この時間の最後には、溶液は淡緑
色に変化した。環流を約２０−９θ時間続け、且つ反応
混合物を室温に冷却し、この時点で２　ｄのトリエチル
アミン、および３θｍ１１．のエーテル／メタノール／
ｌ／混合物を加えた。生成した沈澱物を中程度の焼結ｆ
ラスロートを通して濾過して反応混合物から分離し、次
いでｐ液が淡青色になるまでエーテル／メタノールに／
溶液で洗浄した。約ｌＯ／’ｊ＜収率ｓｇ％）のビス（
２−メチル−を−ツメチルアミノフェニル）スクアライ
ンを得た。これは、炭素、水素および窒素の元素分析、
赤外分析およびマススペクトル分析で確認した。更に、
この化合物の融点は２ｇ２Ｃであった。

Ｃ２２Ｈ２４Ｎ２０２　としての計算値：Ｃ７ふｇ３！
　Ｈム９グＩＮｇ、０１１実測値 Ｃ７より７ｓ　Ｈ２０グＩ　Ｎｇ、０９実施例７ 前記で調製したジーｎ−プチルスクアレ〜トｉ　／　３
　ｇ（５ミＩＪモＡ／）を、磁気撹拌棒と窒素ガス導入
管を備えた三ツロフラスコ中で、ｏ、ｉｍｎの濃硫酸を
含有している水で飽和した／−ブタノール５冠中に溶解
した。この混合物を攪拌し、且つ油浴な７２０Ｃ〜／３
θＣの温度に保って不活性雰囲気下で環流させた。次に
ｌりＯｇの３−ヒドロキシ−Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン
を、約３時間を要して（７時間あたりθｉｇｔｉ）反応
混合物に加えた。この時間の最後には、溶液は暗緑色に
変化した。環流を約２９〜９０時間続け、且つ反応混合
物を室温に冷却し、この時点で、２戒のトリエチルアミ
ン、および３０ｖｄＬのエーテル／メタノール／ｌ／混
合物を加えた。生じた沈澱物を、中程度の焼結ガラスロ
ートを通して濾過して反応混合ｌ吻から分離し、次いで
ｐ液が淡青色になるまでエーテ／Ｌ／／メタノール／：
／溶液で洗浄した。約１４ｔ４１９（収率ｇ２％）のビ
ス（２−ヒドロキシ−ｐ−ツメチルアミノフェニル）ス
クアラインが得られた。これは、炭素、水素および窒素
の元素分析、吸収ス（クトロスコビー、赤外分析および
マススペクトル分析で確認した。更に、この化合物の融
点は３０θＣ以上であった。

Ｃ２ｏＨ２ｏＮ２０２としての計算値；Ｃ乙ｇ、／り；
　Ｈより２茎　Ｎ２９ｊ実測値： Ｃ乙ｇ、／９；　Ｈ左ｇ４Ｌｊ　ＮとＯ／実施ｙｖ　ｇ 前記で調製したジーｎ−プチルスクアレート１／３（Ｊ
（！ｒミリモル）を、磁気攪拌隋と窒素導入［コを備え
た三ツロフラスコ中で、θ／成の１硫ばを含有する水で
飽和したＳｍＬの７−ブタノール中に溶解した。この混
合物を攪拌し、且っ油浴を／、２０Ｃ〜／３０Ｃの温度
に保って不活性雰囲気下で環流させた。次に、１７．ｇ
’ｊの３−ヒドロキシ−Ｎ、Ｎ〜ツメチルアニリンを約
３時間を要して７時間あたり０．．２　／　Ｑづつ反応
混合・吻に加えた。

この時間の終りには、溶液は暗緑色に変化した。

環流を約２り〜ケθ時間続け、且つ反応混合物を室温に
冷却し、この時点で、２　ＦＩＬのトリエチルアミン、
および３θ成のエーテル／メタノール／ｌ／混合物を加
えた。生じた沈層吻を中程度の焼結ガラスセードを通し
て濾過して反応混合物から分離し、次いで、ｆｒＩ液が
淡青色になるまでエーテル／メタノール／＋／溶液で洗
浄した。約１ｇ４１９（収率９θ％）のビス（２−ヒド
ロキシ−グージエチルアミノフェニル）スクアラインが
得られた。

これは、炭素、水素および窒素の元素分析、吸収スペク
トロスコピー、赤外分析およびマススペクトル分析によ
って確認した。更に、この化合物の融点はコＳ７Ｃであ
った。

０２４Ｈ２８Ｎ２０４としての計算値：Ｃ７θタ？＋　
Ｈム９／；　Ｎムｇ乙 実測値工 Ｃ７０，ｔｌＢ　Ｈｌ、ｇｉｌｔ　Ｎｌ、７に本発明を
本発明の好ましい実施浦様を参照して記述したが、本発
明はこれらの実施畑保に限定されず、当７ゑ者であれば
本発明の安旨と範囲内において各種の変形と暎正が可能
である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ＋ｔ）　ジアルキルスクアレートを、酸触媒および脂肪
   族アルコールの存在下に、約６θ℃〜約／乙θ℃の温度
   でテ＝す、ンと反応させ、ることからなるスクアライン
   化合物の製造方法。 （２＋　シアルキル、スクアレー、、トが、ジメチルス
   フアレ下ト、ジエチルスフアレ、−）、−）プロビルス
   クアレート、ジブ、チルスクアレート、ジベンチルスク
   アレートまたはジヘゾテルスクアレートである特許請求
   の範囲、第（１）：頃、に記載の方法。 （３）　アニリンが、　Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ
   、Ｎ−シエチルアニリ、ン、ＮｌＮ−ジプロピルアニリ
   ン、Ｎ、Ｎ−ジプチルアニリン、また１、はＮ、Ｎ−ジ
   ペンｔルアニリンである特許請求の範囲第（■）項に記
   載の方法。 （４１アニリンが、３−フルオロ−Ｎ、Ｎ−ジメチルア
   ニリン、３−ヒドロキシ−Ｎ、Ｎ　−ジメチルアニリン
   または３−メチル−ｔｉ、Ｎ−ジメチルアニリン、３−
   ヒドロキシ−Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリンである特許請求
   の範囲第（１）項に記載の方法。 （５）酸触媒が、硫酸、トリクロロ酢酸またはシュウ酸
   である特許請求の範囲第（１）項に記載の方法。 （６）脂肪族アルコールが、／−ブタノール、／−フロ
   ／ＩＰノール、またはアミルアルコールである特許請求
   の範囲第（１）項に記載の方法。 （７）約Ｓミリモル〜約ＳＯミリモルのジアルキルスク
   アレート、約０．７−〜約／　ｍｌの酸、約７０ミリモ
   ル〜約１００ミリモルのアニリンおよびＦＪＳ−〜約左
   θ−の脂肪族アルコールを選択する特許請求の範囲第（
   １）項に記載の方法。 （８）反応温度が、約９　ｇ　０Ｃ〜約／ｌＩθ℃であ
   る特許請求の範囲第（１）項に記載の方法。 （９）イｑられるスクアライン生成物が、ビス（２−フ
   ルオロ−クー、ジメチルアミノフェニル）スクアライン
   である特許請求の範囲第（１１項に記載の方法。 （１，０１得られるスクアライン生成ｉが、ビス（４ｔ
   −ジメチルアミノフェニル）スクアラインである特許請
   求の範囲第（１’１項に記載の方法。 （１１）　イ（）られるスクアライン生成物が、ビス（
   ２−ヒドロキシ−クージメチルアミノフェニル）スクア
   ラインである特許請求の範囲第（１）項に記載の方法。 （Ｉ２１　得られるスクアライ生成物が、ビス（コーメ
   チルークージメチルアミンゾロピル）スクアラインまた
   はビス（，２−ヒドロキシーダーゾエチルアミノフェニ
   ル）スクアラインである特ｗ１・請求の範囲第（夏）項
   に記載の方法。 ０３、Ｉ　ジアルキルスクアレートが、ジーｎ−プチル
   スクアレートである特許請求の範囲第（１）項に記載の
   方法。 ０４）約６θ℃〜約／　４０　’Ｃの温度で、酸触媒お
   よび脂肪族アルコールの存在下で、次式のジアルキルス
   クアレートを次式のアニリンと反応させることからなる
   スクアライン化合物の製造方法。 〇− （但し、上記式中のＲ、Ｒ１、Ｒ２はアルキル基からそ
   れぞれ無関係に選ばれ、且っＲ３は、アルキル基、水酸
   基、フッ素であＪ）、Ａｒ　は芳香族基であシ、且っｎ
   は０または／の数字である。）α５１　Ｒｔ　Ｒ１＊　
   Ｒ２およびＲ６が、約／〜約／θ個の炭素原子を含有す
   るアルキル基である特許請求の範囲第０４項に記載の方
   法。 αｂｌ　ＲがブチルでありｓＡｒ　がフェニルであり、
   Ｒ７がメチルであ’）ｓＲ２がメチルであシ且っｎがＱ
   である特許請求の範囲第１項に記載の方法Ｏ