JPS60136777U - 回転塗布装置 - Google Patents

回転塗布装置

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JPS60136777U
JPS60136777U JP19822984U JP19822984U JPS60136777U JP S60136777 U JPS60136777 U JP S60136777U JP 19822984 U JP19822984 U JP 19822984U JP 19822984 U JP19822984 U JP 19822984U JP S60136777 U JPS60136777 U JP S60136777U
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JP
Japan
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nozzle
cap
coating liquid
solvent
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JP19822984U
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English (en)
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JPS6223581Y2 (ja
Inventor
文雄 崎谷
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タツモ株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
図面は本考案を示す断面図で、第１図は半導体ウェハー
に塗布液を滴下している状態を示す動作説明図、第２図
はノズルをキャップで蓋をして溶剤揮散を防止している
動作説明図、第３図及び第４図は溶剤揮散を防止するた
めの実施例である。 １・・・・・・半導体ウェハ、２・・・・・・スピンド
ル、３・・・・・・受皿、４・・・・・・ノズル、５・
・・・・・塗布液、６・・・・・・キャップ、７・・・
・・・キャップ支持棒、８・・・・・・キャップシリン
ダー、９・・・・・・ノズル支持棒、１０・・・・・・
ノズルシリンダー、１１・・・・・・溶剤、１２・・・
・・・溶剤蒸気、１３・・・・・・ホース、１４・・・
・・・容器。

Claims (3)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. （１）下向きとなした塗布液滴下用ノズルを上下方向の
    一定距離間移動するように、また上記ノ；゛ζル下面と
    接合して密閉構造とするための上方Ｃ）開放されたキャ
    ップを水平移動するように設けしめ、不使用時はスピン
    ドル上方の一定高さｆ、【置でノズル下面に蓋をしてノ
    ズルの周囲を溶ＥＪ蒸気雰囲気となるようにし、塗布液
    の滴下時はノズルとキャップとの接合を解放すると共に
    、ノズルを基板上近くまで下降させて塗布液を滴下する
    ように構成したことを特徴とする回転【１布装置。
  2. （２）キャップ底に溶剤の一定量が貯留されていること
    を特徴とする実用新案登録請求の範囲第、１ｊ項記載の
    回転塗布装置。
  3. （３）　　別に溶剤液を入れた容器を設け、該容器から
    ホースによりキャップ内に溶剤蒸気が導かれるように構
    成されていることを特徴とする実用新案登録請求の範囲
    第１項記載の回転塗布装置。
JP19822984U 1984-12-29 1984-12-29 回転塗布装置 Granted JPS60136777U (ja)

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JP19822984U JPS60136777U (ja) 1984-12-29 1984-12-29 回転塗布装置

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Publication Number Publication Date
JPS60136777U true JPS60136777U (ja) 1985-09-11
JPS6223581Y2 JPS6223581Y2 (ja) 1987-06-16

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS648621A (en) * 1987-06-30 1989-01-12 Fujitsu Ltd Resist coating apparatus
JP2006015302A (ja) * 2004-07-05 2006-01-19 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、および電気光学装置の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS648621A (en) * 1987-06-30 1989-01-12 Fujitsu Ltd Resist coating apparatus
JP2006015302A (ja) * 2004-07-05 2006-01-19 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、および電気光学装置の製造方法
JP4626196B2 (ja) * 2004-07-05 2011-02-02 セイコーエプソン株式会社 液滴吐出装置、および電気光学装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6223581Y2 (ja) 1987-06-16

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