JPS60133725A - パタ−ンの欠陥検査装置に用いるパタ−ンの判定方法 - Google Patents
パタ−ンの欠陥検査装置に用いるパタ−ンの判定方法Info
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- JPS60133725A JPS60133725A JP58240832A JP24083283A JPS60133725A JP S60133725 A JPS60133725 A JP S60133725A JP 58240832 A JP58240832 A JP 58240832A JP 24083283 A JP24083283 A JP 24083283A JP S60133725 A JPS60133725 A JP S60133725A
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58240832A JPS60133725A (ja) | 1983-12-22 | 1983-12-22 | パタ−ンの欠陥検査装置に用いるパタ−ンの判定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58240832A JPS60133725A (ja) | 1983-12-22 | 1983-12-22 | パタ−ンの欠陥検査装置に用いるパタ−ンの判定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60133725A true JPS60133725A (ja) | 1985-07-16 |
| JPH0374822B2 JPH0374822B2 (enExample) | 1991-11-28 |
Family
ID=17065353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58240832A Granted JPS60133725A (ja) | 1983-12-22 | 1983-12-22 | パタ−ンの欠陥検査装置に用いるパタ−ンの判定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60133725A (enExample) |
-
1983
- 1983-12-22 JP JP58240832A patent/JPS60133725A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0374822B2 (enExample) | 1991-11-28 |
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