JPS60129132U - プラズマ気相成長装置の電極板と基板の配置 - Google Patents
プラズマ気相成長装置の電極板と基板の配置Info
- Publication number
- JPS60129132U JPS60129132U JP1415484U JP1415484U JPS60129132U JP S60129132 U JPS60129132 U JP S60129132U JP 1415484 U JP1415484 U JP 1415484U JP 1415484 U JP1415484 U JP 1415484U JP S60129132 U JPS60129132 U JP S60129132U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode plate
- arrangement
- substrates
- plasma vapor
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
、第1薗は従来のプラズマ気相成長装置の一例の構成図
、第2図は第1図中の石英ボートに搭載された電極板と
基板の配置図、第3゛゛薗は本考案を実施したプラズマ
気相成長装置の反応管内の電極板の配置と構造側図で条
る。 1・・・・・・反応管、2・・・・・・扉、3・・・・
・・電極板、4・・・・・・シリコン基板、5・・・・
・・加熱用ヒータ、11・・・五クリーンベンチ、12
・・・・・・高周波発振機、13・・・・・・ガス供給
源、14・・・・・・リード線、15・・・・・・石英
ボート、16・・・・・・基板支持爪、4′・・・・・
・2枚組の ゛基板、4a・・・・・・基板の表側、
14a・・・・・・リード取 =付端子、17・・・
・・・プラズマ放電領域。 □、゛ 、 ゛
−゛−゛ (C) 、イ、 − A、/1
、第2図は第1図中の石英ボートに搭載された電極板と
基板の配置図、第3゛゛薗は本考案を実施したプラズマ
気相成長装置の反応管内の電極板の配置と構造側図で条
る。 1・・・・・・反応管、2・・・・・・扉、3・・・・
・・電極板、4・・・・・・シリコン基板、5・・・・
・・加熱用ヒータ、11・・・五クリーンベンチ、12
・・・・・・高周波発振機、13・・・・・・ガス供給
源、14・・・・・・リード線、15・・・・・・石英
ボート、16・・・・・・基板支持爪、4′・・・・・
・2枚組の ゛基板、4a・・・・・・基板の表側、
14a・・・・・・リード取 =付端子、17・・・
・・・プラズマ放電領域。 □、゛ 、 ゛
−゛−゛ (C) 、イ、 − A、/1
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 ル形抵抗加熱炉内に設置せる反応 管の内部に挿入し、複数の基板上に導入ガスに上る指定
の膜成長を行わせるためめ石英ボートに搭載する複数の
電極板と、複数基板を一定叩隔にて゛ 電極板面を対
向するようにそれぞれ平行に並べ加熱炉外の高周波発振
機よりのプライマ発生用高圧リード線に対向電極板とは
互に逆位相となるように接続した複数電極板と、これら
゛の電極板の各2゛ 一枚の中間毎に設置され、それぞ
れの表面を外側にして背中合わせに付着させた2悠1組
の基板の複”数組とによって構成配置させたことを特徴
“とする、プラズマ気相成長i竺の電極板と基板7配置
。 、
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1415484U JPS60129132U (ja) | 1984-02-06 | 1984-02-06 | プラズマ気相成長装置の電極板と基板の配置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1415484U JPS60129132U (ja) | 1984-02-06 | 1984-02-06 | プラズマ気相成長装置の電極板と基板の配置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60129132U true JPS60129132U (ja) | 1985-08-30 |
Family
ID=30498818
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1415484U Pending JPS60129132U (ja) | 1984-02-06 | 1984-02-06 | プラズマ気相成長装置の電極板と基板の配置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60129132U (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5687323A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-15 | Pioneer Electronic Corp | Substrate supporting device of plasma reaction tube |
JPS5773174A (en) * | 1980-10-24 | 1982-05-07 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Manufacturing apparatus for coating film |
JPS5839017A (ja) * | 1981-09-01 | 1983-03-07 | Kokusai Electric Co Ltd | 半導体基板における化学気相生成装置 |
-
1984
- 1984-02-06 JP JP1415484U patent/JPS60129132U/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5687323A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-15 | Pioneer Electronic Corp | Substrate supporting device of plasma reaction tube |
JPS5773174A (en) * | 1980-10-24 | 1982-05-07 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Manufacturing apparatus for coating film |
JPS5839017A (ja) * | 1981-09-01 | 1983-03-07 | Kokusai Electric Co Ltd | 半導体基板における化学気相生成装置 |
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