JPS60129132U - プラズマ気相成長装置の電極板と基板の配置 - Google Patents

プラズマ気相成長装置の電極板と基板の配置

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JPS60129132U
JPS60129132U JP1415484U JP1415484U JPS60129132U JP S60129132 U JPS60129132 U JP S60129132U JP 1415484 U JP1415484 U JP 1415484U JP 1415484 U JP1415484 U JP 1415484U JP S60129132 U JPS60129132 U JP S60129132U
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JP
Japan
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electrode plate
arrangement
substrates
plasma vapor
substrate
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Pending
Application number
JP1415484U
Other languages
English (en)
Inventor
黒河 治重
Original Assignee
株式会社日立国際電気
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
、第1薗は従来のプラズマ気相成長装置の一例の構成図
、第2図は第1図中の石英ボートに搭載された電極板と
基板の配置図、第3゛゛薗は本考案を実施したプラズマ
気相成長装置の反応管内の電極板の配置と構造側図で条
る。 1・・・・・・反応管、2・・・・・・扉、3・・・・
・・電極板、4・・・・・・シリコン基板、5・・・・
・・加熱用ヒータ、11・・・五クリーンベンチ、12
・・・・・・高周波発振機、13・・・・・・ガス供給
源、14・・・・・・リード線、15・・・・・・石英
ボート、16・・・・・・基板支持爪、4′・・・・・
・2枚組の  ゛基板、4a・・・・・・基板の表側、
14a・・・・・・リード取  =付端子、17・・・
・・・プラズマ放電領域。     □、゛ 、  ゛
−゛−゛ (C)    、イ、  − A、/1

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 ル形抵抗加熱炉内に設置せる反応 管の内部に挿入し、複数の基板上に導入ガスに上る指定
    の膜成長を行わせるためめ石英ボートに搭載する複数の
    電極板と、複数基板を一定叩隔にて゛  電極板面を対
    向するようにそれぞれ平行に並べ加熱炉外の高周波発振
    機よりのプライマ発生用高圧リード線に対向電極板とは
    互に逆位相となるように接続した複数電極板と、これら
    ゛の電極板の各2゛ 一枚の中間毎に設置され、それぞ
    れの表面を外側にして背中合わせに付着させた2悠1組
    の基板の複”数組とによって構成配置させたことを特徴
    “とする、プラズマ気相成長i竺の電極板と基板7配置
    。  、
JP1415484U 1984-02-06 1984-02-06 プラズマ気相成長装置の電極板と基板の配置 Pending JPS60129132U (ja)

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5687323A (en) * 1979-12-19 1981-07-15 Pioneer Electronic Corp Substrate supporting device of plasma reaction tube
JPS5773174A (en) * 1980-10-24 1982-05-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Manufacturing apparatus for coating film
JPS5839017A (ja) * 1981-09-01 1983-03-07 Kokusai Electric Co Ltd 半導体基板における化学気相生成装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5687323A (en) * 1979-12-19 1981-07-15 Pioneer Electronic Corp Substrate supporting device of plasma reaction tube
JPS5773174A (en) * 1980-10-24 1982-05-07 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Manufacturing apparatus for coating film
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