JPS60128271A - 金属銅及び塩素の製造方法 - Google Patents
金属銅及び塩素の製造方法Info
- Publication number
- JPS60128271A JPS60128271A JP58235094A JP23509483A JPS60128271A JP S60128271 A JPS60128271 A JP S60128271A JP 58235094 A JP58235094 A JP 58235094A JP 23509483 A JP23509483 A JP 23509483A JP S60128271 A JPS60128271 A JP S60128271A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- cathode
- anode
- chlorine
- cupric chloride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/46—Regeneration of etching compositions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
素を製造する方法に関するものである。
従来より電解銅の析出方法としては、粗銅板を陽極とし
硫酸浴、又は硝酸浴中で硫酸銅あるいは硝酸鋼から金属
を陰極に還元析出させることが行なわれている。
硫酸浴、又は硝酸浴中で硫酸銅あるいは硝酸鋼から金属
を陰極に還元析出させることが行なわれている。
法があげられるが、析出する銅の純度か悪く鞘製工程が
必要である。
必要である。
近年プリン１一配線基板のエツチングｔこ１７ｉ！化第
二銅溶液を主成分とし、これに」ンイ酸および過酸化水
素を添加したエツチング剤が多量に使用さＩ″ｌ，るよ
うになった。これに伴い基板のエツチング後に排出され
る廃液の処理が公害防止上大きな問題となってきた。
二銅溶液を主成分とし、これに」ンイ酸および過酸化水
素を添加したエツチング剤が多量に使用さＩ″ｌ，るよ
うになった。これに伴い基板のエツチング後に排出され
る廃液の処理が公害防止上大きな問題となってきた。
かかる廃液の処理方法さして電気分解による銅の回収方
法があげられるが、無隔膜法又はＥ隔膜法電解にては電
解液中に２価の銅イオンか存在するため、銅の回収率が
低下し且つ溶液の酸性度によっては還元過程で生ずる塩
化第一銅の溶解度か小さいために、陰極板上にｊ濃化第
一銅か析出する等種々と問題が多く、容易に工業的には
採用しかたい。このように、多量に排出される塩化第二
銅廃液の処理には適切な方法が未だなく、処理に苦慮し
ているのが現状である。
法があげられるが、無隔膜法又はＥ隔膜法電解にては電
解液中に２価の銅イオンか存在するため、銅の回収率が
低下し且つ溶液の酸性度によっては還元過程で生ずる塩
化第一銅の溶解度か小さいために、陰極板上にｊ濃化第
一銅か析出する等種々と問題が多く、容易に工業的には
採用しかたい。このように、多量に排出される塩化第二
銅廃液の処理には適切な方法が未だなく、処理に苦慮し
ているのが現状である。
本発明者はかかる現状を打破ずべく稗々と仙究ヰ重ねた
結果本発明を完成するに全ったへ即ち本発明は、陽イオ
ン交換膜を介して陽極室り陰極室とに１シ１画してなる
電解槽の陽極室に、塩素カスを発生させると共に、陰極
に金属鋼を電析せしめることを特徴とする塩化第二銅水
溶液から金属な同及び塩素を製造する方法であり、以下
図面を引用して詳細に説明する。
結果本発明を完成するに全ったへ即ち本発明は、陽イオ
ン交換膜を介して陽極室り陰極室とに１シ１画してなる
電解槽の陽極室に、塩素カスを発生させると共に、陰極
に金属鋼を電析せしめることを特徴とする塩化第二銅水
溶液から金属な同及び塩素を製造する方法であり、以下
図面を引用して詳細に説明する。
第１図は本発明方法の一例を示す作用説明図である。
この図において１は、単位電解槽て構成された電解槽本
体、２は陽極室、３は陰極室であり、陽極室には陽惨５
か、陰極室には陰極６か配備され、これら両極室は陽イ
オン交換膜４によって１メ画されている。ｉｔｓ Ｓる
電解槽において、塩化第二銅の溶液は経路７より陰極室
３に送入され、又陽極室２には塩酸又は金属塩化物浴液
が、循環系路８（この循環系路の役割については後述す
る。）より供給されて電解される。
体、２は陽極室、３は陰極室であり、陽極室には陽惨５
か、陰極室には陰極６か配備され、これら両極室は陽イ
オン交換膜４によって１メ画されている。ｉｔｓ Ｓる
電解槽において、塩化第二銅の溶液は経路７より陰極室
３に送入され、又陽極室２には塩酸又は金属塩化物浴液
が、循環系路８（この循環系路の役割については後述す
る。）より供給されて電解される。
即ち電解槽における通電で陰極室３の塩化第二ン、塩化
第−鋼Ｑ５錯イオン（ＣｕＣ７４’）として存在し、銅
イオンおよび銅の４ｊｌｉイオンは金属鋼として陰極６
の表面に電析される。
第−鋼Ｑ５錯イオン（ＣｕＣ７４’）として存在し、銅
イオンおよび銅の４ｊｌｉイオンは金属鋼として陰極６
の表面に電析される。
一方、陽極室２内では塩酸又は金属塩化物水溶液の解離
により陽イオン（水素イオン、又は該当する金属塩イビ
゛物の金属イオりとして存在し、これが陽イオン交換膜
を通して配位水と共に陰極室３内に移行し、陰極室内に
おいて塩素イオンにより塩酸又は金属塩化物を生成する
。
により陽イオン（水素イオン、又は該当する金属塩イビ
゛物の金属イオりとして存在し、これが陽イオン交換膜
を通して配位水と共に陰極室３内に移行し、陰極室内に
おいて塩素イオンにより塩酸又は金属塩化物を生成する
。
この様にして生成した門酸又は金属塩化物は、塩化第二
銅給液中に含まれる遊離塩酸等と共に既述の循環系路８
を通じて陽極室２に導入され、陽極室供給原料として用
使用に供される。、又陽極室においては、ｊ慕素イオン
が１場極５で放′亀して塩素カスとして経路９より系外
に排出され、陽極室における淡塩水は経路ＩＯより糸外
に排υ」される。
銅給液中に含まれる遊離塩酸等と共に既述の循環系路８
を通じて陽極室２に導入され、陽極室供給原料として用
使用に供される。、又陽極室においては、ｊ慕素イオン
が１場極５で放′亀して塩素カスとして経路９より系外
に排出され、陽極室における淡塩水は経路ＩＯより糸外
に排υ」される。
陰極室３シこ供給される塩化第二銅は、０．０Ｉｎｊｏ
ｌ／ｌ〜２．７ ｍｏｔ ／ ｔの濃度があれは充分で
あるが、本発明で特に限定されるものではない。
ｌ／ｌ〜２．７ ｍｏｔ ／ ｔの濃度があれは充分で
あるが、本発明で特に限定されるものではない。
陰極室における２価銅イオンの濃度が低い時には、電解
液抵抗を減する為、電解質として塩酸又＾液の供給に併
行して陰極室内に添加することが好ましい。この場合の
水素イオン濃度（ｐＨ）は、４以下であることが梁丈し
い。
液抵抗を減する為、電解質として塩酸又＾液の供給に併
行して陰極室内に添加することが好ましい。この場合の
水素イオン濃度（ｐＨ）は、４以下であることが梁丈し
い。
陽イオン交換膜を通して陽極室から陰極室に移行される
陽イオンは、配位水と共に通過電流によりその移行量が
決ってくる。
陽イオンは、配位水と共に通過電流によりその移行量が
決ってくる。
陽極室に供給する塩酸又は金属塩化物水溶液の濃度はＱ
、 ５ ｍｏｌ ／ ｔ〜５１１１０１’ ／ Ａの範
囲か好ましく、これら供給反別は、前記の通り陰極室に
おける脱銅後の塩酸又は金属塩化物であることが最も望
ましいが、本発明では必ずしもこれに拘泥するものでは
なく、一部もしくは全部を新液として供給してもよい。
、 ５ ｍｏｌ ／ ｔ〜５１１１０１’ ／ Ａの範
囲か好ましく、これら供給反別は、前記の通り陰極室に
おける脱銅後の塩酸又は金属塩化物であることが最も望
ましいが、本発明では必ずしもこれに拘泥するものでは
なく、一部もしくは全部を新液として供給してもよい。
これらの供給液の内の金域塩化物陽イオン棟としてはＮ
’ａ”、Ｌｉ”、Ｋ”、Ｒ４ｇ”、Ｃａ”Ｓｒ”、Ｂａ
”の塩化物であり、具体的には、Ｎａ’ｃｔ、ＫＣ２゜
Ｌ ｒ ＣＬ 、 Ｍ ｇ ＣＬ ２ 、 Ｃａ Ｃｔ
２ 、 Ｓ ｒ Ｌ ７２ 、 Ｉ３；＋ （−Ｌ ２
等をあげることができる。
’ａ”、Ｌｉ”、Ｋ”、Ｒ４ｇ”、Ｃａ”Ｓｒ”、Ｂａ
”の塩化物であり、具体的には、Ｎａ’ｃｔ、ＫＣ２゜
Ｌ ｒ ＣＬ 、 Ｍ ｇ ＣＬ ２ 、 Ｃａ Ｃｔ
２ 、 Ｓ ｒ Ｌ ７２ 、 Ｉ３；＋ （−Ｌ ２
等をあげることができる。
陽極室から排出される淡塩水は０．５ ｍｏｌ ／ を
以上あればよく、経済的には分解率を大きくする方が好
ましい。通電電流密度は１ Ａ Ｉｌｌ Ｉ） ／ （
Ｉ Ｘ ＋ｎ’−３ＱＡｍｐＡｍｐ／ｄＸｍが特に望ま
しい。
以上あればよく、経済的には分解率を大きくする方が好
ましい。通電電流密度は１ Ａ Ｉｌｌ Ｉ） ／ （
Ｉ Ｘ ＋ｎ’−３ＱＡｍｐＡｍｐ／ｄＸｍが特に望ま
しい。
又電解反応に供される陽イオン交換膜については、カル
ボン酸膜、スルフォン酸膜等の通常の陽イオン交換樹脂
膜が使用出来るか、？ＪＩ ＦＦＩＩ浴の水素イオン濃
度が高いので強酸型の例えばスルフォン酸基をもつ交換
膜が望ましい。
ボン酸膜、スルフォン酸膜等の通常の陽イオン交換樹脂
膜が使用出来るか、？ＪＩ ＦＦＩＩ浴の水素イオン濃
度が高いので強酸型の例えばスルフォン酸基をもつ交換
膜が望ましい。
弱酸型の陽イオン交換膜を用いるさ、ｊ摸の抵抗が大き
くなり、槽′電圧か置くなる傾向なのであまり好ましく
ない。
くなり、槽′電圧か置くなる傾向なのであまり好ましく
ない。
又電解浴自体が酸性である為、多価陽イオンの混在があ
っても交換膜の損傷は小さい。但し多価陽イオンとして
銅より責なる析出′電位をもつ金属イオンは純銅を得る
目的ではあまり好ましいものてはない。
っても交換膜の損傷は小さい。但し多価陽イオンとして
銅より責なる析出′電位をもつ金属イオンは純銅を得る
目的ではあまり好ましいものてはない。
陽極の材質に関してはクラファイト、マグネイト、過酸
化ナマリ、あるいはチタン上に白金を塗工された寸法安
定性不溶性金属陽極が使用れる。
化ナマリ、あるいはチタン上に白金を塗工された寸法安
定性不溶性金属陽極が使用れる。
陰極の材質については銅の析出電位が水素発より貴の電
位で電析する為酸性溶液中において常温での電解が可能
となるので、例えはニッケ銅、チタン、チタン合金を使
用しても陰極の腐は問題とはならない。
位で電析する為酸性溶液中において常温での電解が可能
となるので、例えはニッケ銅、チタン、チタン合金を使
用しても陰極の腐は問題とはならない。
以上の本発明方法によれば、塩化第二銅を主して含む溶
液を陽イオン交換膜を用いた電解槽電解処理して高純度
の金属銅および塩素を高い率で容易に回収することが出
来、従来その処理難点のあったプリント配線基板のエソ
チンク廃等の処理に利用して極めて有効であり、利用価
頗る犬なる発明と云える。
液を陽イオン交換膜を用いた電解槽電解処理して高純度
の金属銅および塩素を高い率で容易に回収することが出
来、従来その処理難点のあったプリント配線基板のエソ
チンク廃等の処理に利用して極めて有効であり、利用価
頗る犬なる発明と云える。
以下に実施例を揚げて本発明を説明する。
実施例１
第１図に示す電解槽構造および付属配管系路族Ｈ４ｒ’
？Ｉ’ｈＪ室３に供給した。但し陽極室には上記第１図
の循さ 環系路を使用することなく、別途塩酸を直接供
給した。又経路１０より未反応の塩酸を含む液を排生
出した。
？Ｉ’ｈＪ室３に供給した。但し陽極室には上記第１図
の循さ 環系路を使用することなく、別途塩酸を直接供
給した。又経路１０より未反応の塩酸を含む液を排生
出した。
も この場合の各部の送入Ｓよび排出の諸元ならびル、
に運転条件、その他は第１表の通りであった。
に運転条件、その他は第１表の通りであった。
明細書の浄書（内容に変更なし）
その結果を下記第２表に示す。
実施例２
実施例１で得た銅イオン含有陰極液５００ ｍ Ａ！を
経路８により陽極室に送し、陽極液とした。又明細２Ｑ
の沖宙（内容に変更なし） 陰極には銅板を用いた。その他の電解条件は実施例１と
同じ条件であった。その結果を第３表に示す０ 第 ３ 表 以上の結果より明らかな通り極めて良好な成績で銅およ
び塩素を取得することが出来た。
経路８により陽極室に送し、陽極液とした。又明細２Ｑ
の沖宙（内容に変更なし） 陰極には銅板を用いた。その他の電解条件は実施例１と
同じ条件であった。その結果を第３表に示す０ 第 ３ 表 以上の結果より明らかな通り極めて良好な成績で銅およ
び塩素を取得することが出来た。
第１図は本発明の一例を示す作用説明図である。
１・・・電解槽本体、２・・・陽極室、３・・陰極室、
４・・・陽イオン交換膜。 特許出願人の名称 鶴見曹達株式会社 ７１ 口 昭和５９年４月区日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和５８年特許願第２３５０９４号３
、補正をする者 通り浄書する。 （内容に変更なし）
４・・・陽イオン交換膜。 特許出願人の名称 鶴見曹達株式会社 ７１ 口 昭和５９年４月区日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和５８年特許願第２３５０９４号３
、補正をする者 通り浄書する。 （内容に変更なし）
Claims (1)
- 化物水溶液を、又陰極室には塩化第二銅水溶液ま□ た
は／および過剰の塩素イオンを含む塩化第二銅水溶液を
夫々供給し、電解により陽極より塩素ツｊスを発生させ
ると共に、陰極に金属鋼を電析せしめることを特徴とす
る塩化第二銅水溶液から金属銅及び塩素を製造する方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58235094A JPS60128271A (ja) | 1983-12-15 | 1983-12-15 | 金属銅及び塩素の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58235094A JPS60128271A (ja) | 1983-12-15 | 1983-12-15 | 金属銅及び塩素の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60128271A true JPS60128271A (ja) | 1985-07-09 |
| JPS6363637B2 JPS6363637B2 (ja) | 1988-12-08 |
Family
ID=16980972
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58235094A Granted JPS60128271A (ja) | 1983-12-15 | 1983-12-15 | 金属銅及び塩素の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60128271A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4767316A (en) * | 1986-01-29 | 1988-08-30 | Toyotomi Kogyo Co., Ltd. | Fuel supply system for oil burner |
| JPH06240475A (ja) * | 1993-02-16 | 1994-08-30 | Nittetsu Mining Co Ltd | ニッケルを含む塩化鉄系のエッチング液の処理方法 |
| SG104920A1 (en) * | 1999-04-07 | 2004-07-30 | Shipley Co Llc | Processes and apparatus for recovery and removal of copper from fluids |
| CN103422154A (zh) * | 2012-05-24 | 2013-12-04 | 叶福祥 | 电路板酸性废蚀刻液氯化亚铜(Cu+,CuCL)离子隔膜电积再生 |
| JP2014520956A (ja) * | 2011-07-08 | 2014-08-25 | インスティテュート・オブ・ケミカル・テクノロジー | 銅−塩素サイクルにおける電気化学セルの性能に対する運転パラメータの効果 |
-
1983
- 1983-12-15 JP JP58235094A patent/JPS60128271A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4767316A (en) * | 1986-01-29 | 1988-08-30 | Toyotomi Kogyo Co., Ltd. | Fuel supply system for oil burner |
| JPH06240475A (ja) * | 1993-02-16 | 1994-08-30 | Nittetsu Mining Co Ltd | ニッケルを含む塩化鉄系のエッチング液の処理方法 |
| SG104920A1 (en) * | 1999-04-07 | 2004-07-30 | Shipley Co Llc | Processes and apparatus for recovery and removal of copper from fluids |
| JP2014520956A (ja) * | 2011-07-08 | 2014-08-25 | インスティテュート・オブ・ケミカル・テクノロジー | 銅−塩素サイクルにおける電気化学セルの性能に対する運転パラメータの効果 |
| CN103422154A (zh) * | 2012-05-24 | 2013-12-04 | 叶福祥 | 电路板酸性废蚀刻液氯化亚铜(Cu+,CuCL)离子隔膜电积再生 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6363637B2 (ja) | 1988-12-08 |
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