JPS60122782A - 施釉セメント製品 - Google Patents
施釉セメント製品Info
- Publication number
- JPS60122782A JPS60122782A JP23112983A JP23112983A JPS60122782A JP S60122782 A JPS60122782 A JP S60122782A JP 23112983 A JP23112983 A JP 23112983A JP 23112983 A JP23112983 A JP 23112983A JP S60122782 A JPS60122782 A JP S60122782A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glaze
- glazed
- particles
- cement
- silica sand
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、セメント瓦やセメント鋪石板等のセメント質
成形体に施釉し焼成後養生してなる施釉セメント製品に
圓するものである。
成形体に施釉し焼成後養生してなる施釉セメント製品に
圓するものである。
一般にセメント質成形体は約９００’Ｃを越えると焼結
が進み、焼成後に再養生を行なってもセメント水和反応
を起こさない。従って施釉セメント瓦等の施釉セメント
製品に用いられる釉薬は、セメント質成形体の素地が焼
成後回養生で水和反応を起こさせるため低融点（約６０
０〜９５０’Ｃ）の釉薬を用いる必要があった。そのた
めアルカリ、アルカリ土類成分の含有ｍがｉくなり、釉
薬の熱膨張係数は線膨張で約１０ｘ１０−Ｇと大きかっ
た。
が進み、焼成後に再養生を行なってもセメント水和反応
を起こさない。従って施釉セメント瓦等の施釉セメント
製品に用いられる釉薬は、セメント質成形体の素地が焼
成後回養生で水和反応を起こさせるため低融点（約６０
０〜９５０’Ｃ）の釉薬を用いる必要があった。そのた
めアルカリ、アルカリ土類成分の含有ｍがｉくなり、釉
薬の熱膨張係数は線膨張で約１０ｘ１０−Ｇと大きかっ
た。
これに対しセメント瓦等のセメント質成形体の熱膨張係
数は、骨材の種類、骨材／セメント比等により多少異な
るが約７ Ｘ １０ ’−（＝ある。斯様に釉薬の熱膨
張係数がセメント質成形体の熱膨張係数よりも高いため
、施釉セメント製品の釉面に貫入、亀裂などを生じるこ
とが多く釉面の美観を損な・）ことが多かった。
数は、骨材の種類、骨材／セメント比等により多少異な
るが約７ Ｘ １０ ’−（＝ある。斯様に釉薬の熱膨
張係数がセメント質成形体の熱膨張係数よりも高いため
、施釉セメント製品の釉面に貫入、亀裂などを生じるこ
とが多く釉面の美観を損な・）ことが多かった。
この欠点を解消するために熱膨張係数の低い釉薬を使用
すればよいが、熱膨張係数を下げるにはアルカリ、アル
カリ土類成分を減らす、ことになる。
すればよいが、熱膨張係数を下げるにはアルカリ、アル
カリ土類成分を減らす、ことになる。
しかしこれらの成分を減らすと溶＠！温瓜が、Ｆがり、
溶融温度が上がるとセメント質成形体は強痕劣化を起こ
す。そのため熱膨張係数を低くしつつ溶融温度を低くす
るために、ｈζつ酸あるいは鉛を添加することになるが
該成分を添加すると耐薬品性が悪くなるし釉薬の価格が
高くなり、施釉セメン１〜製品は高価なものになる。ま
た冷却過程での熱膨張係数の差による貫入は起こらない
【ノれども、焼成後の再養生で強廉の増加を５するが、
その時セメント質成形体は水和膨張を起こす。しかし表
面の施釉面はそれに追随できないため、貫入を生じると
いう欠点があった。
溶融温度が上がるとセメント質成形体は強痕劣化を起こ
す。そのため熱膨張係数を低くしつつ溶融温度を低くす
るために、ｈζつ酸あるいは鉛を添加することになるが
該成分を添加すると耐薬品性が悪くなるし釉薬の価格が
高くなり、施釉セメン１〜製品は高価なものになる。ま
た冷却過程での熱膨張係数の差による貫入は起こらない
【ノれども、焼成後の再養生で強廉の増加を５するが、
その時セメント質成形体は水和膨張を起こす。しかし表
面の施釉面はそれに追随できないため、貫入を生じると
いう欠点があった。
本発明は上記の欠点を解消して、安価で貫入の起こらな
い美観を呈するまたノンスリップ効果もあるし耐薬品性
もあ、る施釉セメント製品を提供することにあり、その
構成は表面が釉薬の固形分重量に対して５〜５０％の珪
砂、アルミナ等の粒子を含んだ釉薬混合物からなるセメ
ント質成形体を約６００〜９５０℃で焼成し、養生して
なる施釉セメント製品である。
い美観を呈するまたノンスリップ効果もあるし耐薬品性
もあ、る施釉セメント製品を提供することにあり、その
構成は表面が釉薬の固形分重量に対して５〜５０％の珪
砂、アルミナ等の粒子を含んだ釉薬混合物からなるセメ
ント質成形体を約６００〜９５０℃で焼成し、養生して
なる施釉セメント製品である。
粒子は釉薬に添加混合してセメント質成形体に施釉して
よいのはもちろんであるが、セメント質成形体に粒子を
振りかけてから釉薬を施してもよいし、施釉し−た釉面
上に粒子番振りかけその後また施釉してもよい。
よいのはもちろんであるが、セメント質成形体に粒子を
振りかけてから釉薬を施してもよいし、施釉し−た釉面
上に粒子番振りかけその後また施釉してもよい。
以下、実施例に従って詳説する。
実施例１
釉薬の固形分重量に対し１０％の珪砂を添加混合し、セ
メント質成形体に施釉した場合である。
メント質成形体に施釉した場合である。
ポルトランドセメント１（数字は重量割合を示し以下同
シ）、火山岩砕石（２、５１ｌＩＩｕｎｄｅｒ） ２よ
りなるセメント瓦素地に対して、ガラスカレント６０、
無鉛、ホウ酸系フリッ］−４０、水６０、ＣＭＣＯ，４
、珪砂（６号：＃Ｉ径約０．１〜０゜５１Ｈ１）１０の
釉薬を施釉し、８５０℃・３０分の条件で電気炉にて焼
成し冷却後５分間水中浸漬し、その後６０℃で４日間蒸
気養生した。
シ）、火山岩砕石（２、５１ｌＩＩｕｎｄｅｒ） ２よ
りなるセメント瓦素地に対して、ガラスカレント６０、
無鉛、ホウ酸系フリッ］−４０、水６０、ＣＭＣＯ，４
、珪砂（６号：＃Ｉ径約０．１〜０゜５１Ｈ１）１０の
釉薬を施釉し、８５０℃・３０分の条件で電気炉にて焼
成し冷却後５分間水中浸漬し、その後６０℃で４日間蒸
気養生した。
その結果、施釉セメント瓦の釉面の貫入幅は、珪砂無添
加物と比較すると小さく、目視では観察できなかった。
加物と比較すると小さく、目視では観察できなかった。
また釉面は良好なノンスリップ性を示した。
実施例２
セメント質成形体に釉薬を下塗りしてから該釉薬の固形
分重量に対し２０％の珪砂を振りまきその後釉薬を上塗
りした場合である。
分重量に対し２０％の珪砂を振りまきその後釉薬を上塗
りした場合である。
ポルトランドセメント１、火山岩砕ｆｉ＜２．ｂｏｌｌ
ｌｌ ｕｎｄｅｒ） １よりなるセメント舗０根に対し
て、ガラスカレッｌ−６０、無鉛、ホウ酸系フリッ（〜
４０、水６０．ＣＭＣＯ，４の釉薬（下塗り用）を施釉
し、その表面に釉薬（下塗り及び上塗り用）の固形分重
量に対して２０％の珪砂（５号二粒径約０．２〜１．０
１１１）を振りまき、その後前記と同じ調合の釉薬（上
塗り用）を施釉し８５０℃・３０分の焼成条件で、シー
ツトル窯にて焼成し冷却後１０分間水中浸漬し、その後
７０℃で３日間蒸気養生をした。その結果、施釉セメン
ト鋪石板の釉面の貫入は、実施例１と同様に目視では観
察できなかった。また釉面は非常に良好なノンスリップ
性を示した。
ｌｌ ｕｎｄｅｒ） １よりなるセメント舗０根に対し
て、ガラスカレッｌ−６０、無鉛、ホウ酸系フリッ（〜
４０、水６０．ＣＭＣＯ，４の釉薬（下塗り用）を施釉
し、その表面に釉薬（下塗り及び上塗り用）の固形分重
量に対して２０％の珪砂（５号二粒径約０．２〜１．０
１１１）を振りまき、その後前記と同じ調合の釉薬（上
塗り用）を施釉し８５０℃・３０分の焼成条件で、シー
ツトル窯にて焼成し冷却後１０分間水中浸漬し、その後
７０℃で３日間蒸気養生をした。その結果、施釉セメン
ト鋪石板の釉面の貫入は、実施例１と同様に目視では観
察できなかった。また釉面は非常に良好なノンスリップ
性を示した。
なお厄に施釉されたセメント鋪石板に対して上記の珪砂
を振りまき、その後上記調合の釉薬を施して焼成後同様
に養生しても同様に貫入は観察できずまた良好なノンス
リップ性を示した。
を振りまき、その後上記調合の釉薬を施して焼成後同様
に養生しても同様に貫入は観察できずまた良好なノンス
リップ性を示した。
１１１支
釉薬の固形分重量に対し、１０％のアルミナと１０％の
石英ガラス粒子を添加混合した場合である。
石英ガラス粒子を添加混合した場合である。
ポルトランドセメント１、珪砂（６号：粒径的０、１ｍ
ｍ 〜０．５ｍ＋＋ａ） １ 、石綿０．０５、ＭＣ０
３０２よりなるセメント押出し成形板に対して、ガラス
カレント５０．鉛系フリット５０、水６０、ＣＭＣ０，
４、アルミナ（粒径的０．２〜０゜６１１１１１）１０
、石英ガラス粒子（粒径的０．１〜０゜５＋ｎｏ＋）１
０の釉薬を施釉し、９００℃・４０分の条件でローラー
ハースキルンに（焼成し５）分間水中浸漬後７０℃で３
日間蒸気養生しｌこ。
ｍ 〜０．５ｍ＋＋ａ） １ 、石綿０．０５、ＭＣ０
３０２よりなるセメント押出し成形板に対して、ガラス
カレント５０．鉛系フリット５０、水６０、ＣＭＣ０，
４、アルミナ（粒径的０．２〜０゜６１１１１１）１０
、石英ガラス粒子（粒径的０．１〜０゜５＋ｎｏ＋）１
０の釉薬を施釉し、９００℃・４０分の条件でローラー
ハースキルンに（焼成し５）分間水中浸漬後７０℃で３
日間蒸気養生しｌこ。
−その結果、施釉セメント押出し成形板の釉面の貫入幅
は、珪砂無添加物と比較すると小さく、目視では観察で
きなかった。また釉面は非常に良９１′なノンスリップ
性を示した。
は、珪砂無添加物と比較すると小さく、目視では観察で
きなかった。また釉面は非常に良９１′なノンスリップ
性を示した。
実施例では使用する粒子として珪砂、アルミノ−１石英
ガラスを使用したが、粒子の種類は、焼成１１．１に軸
中に完全に溶１プ込まず、釉と熱膨張の差のあるもので
あれば何でもよく、Ｓ； Ｃ，ａ石等でしよい。もちろ
ん１種類に限る必要もない。
ガラスを使用したが、粒子の種類は、焼成１１．１に軸
中に完全に溶１プ込まず、釉と熱膨張の差のあるもので
あれば何でもよく、Ｓ； Ｃ，ａ石等でしよい。もちろ
ん１種類に限る必要もない。
釉薬の固形分重量に対する粒子の添加割合は、粒子の種
類、粒（￥、釉薬の種類等で変わるが、少ないとクラン
クが発生したり、ノンスリツーｌ効果が生じない。反対
に多すぎると釉薬の溶融性が悪くなり溶けにくくなる。
類、粒（￥、釉薬の種類等で変わるが、少ないとクラン
クが発生したり、ノンスリツーｌ効果が生じない。反対
に多すぎると釉薬の溶融性が悪くなり溶けにくくなる。
一般には５〜５０％が適当である。また粒子の粒度はど
のような範囲のものを使用してもよいが珪砂を使用づる
場合、実施例に示ずように粒径が約Ｑ、１ｎ＋ｍ〜１．
ＯＬ１ｍの範囲のものが最適である。これより粒度が細
かい場合は焼成時に軸中へ溶解する量が多くなり、貫入
の発生を防止する効果がなくなるとともに、ノンスリッ
プ効果がなくなる。また粗い場合には釉泥漿中での珪砂
の沈降が激しく、施釉が困難となるだ（）でなく釉面か
ら粒子が取れやすい。
のような範囲のものを使用してもよいが珪砂を使用づる
場合、実施例に示ずように粒径が約Ｑ、１ｎ＋ｍ〜１．
ＯＬ１ｍの範囲のものが最適である。これより粒度が細
かい場合は焼成時に軸中へ溶解する量が多くなり、貫入
の発生を防止する効果がなくなるとともに、ノンスリッ
プ効果がなくなる。また粗い場合には釉泥漿中での珪砂
の沈降が激しく、施釉が困難となるだ（）でなく釉面か
ら粒子が取れやすい。
斯様に本発明の施釉セメント製品は、熱膨張係数がセメ
ント質成形体の熱膨張係数よりも異なるため釉面の貴人
発生が免がれない釉薬中に粒子を添加混入きしめたので
、該粒子が貫入の進行を阻止し目視観察で認められるク
ラックの発生はなく釉面は美観を呈する。釉薬は高価格
の成分は含まないので価格も安く耐薬品性もある。さら
には釉面に粒子が存在するため釉面はノンスリップ効果
をも生じる。又強電増加のためにｐ成後養生するがその
時セメント質成形体は水和膨張するが、本発明の施釉セ
メント製品は釉薬中に粒子が存在するために、この粒子
に応力が集中し釉薬にかかる応力が分散されるため養生
時に貴人は入らず施釉面は美観を呈する。
ント質成形体の熱膨張係数よりも異なるため釉面の貴人
発生が免がれない釉薬中に粒子を添加混入きしめたので
、該粒子が貫入の進行を阻止し目視観察で認められるク
ラックの発生はなく釉面は美観を呈する。釉薬は高価格
の成分は含まないので価格も安く耐薬品性もある。さら
には釉面に粒子が存在するため釉面はノンスリップ効果
をも生じる。又強電増加のためにｐ成後養生するがその
時セメント質成形体は水和膨張するが、本発明の施釉セ
メント製品は釉薬中に粒子が存在するために、この粒子
に応力が集中し釉薬にかかる応力が分散されるため養生
時に貴人は入らず施釉面は美観を呈する。
使用する粒子として珪砂を考えると、冷却過程で結晶転
移による急激な体積変化が起こりその時生じる珪砂粒子
周囲の多大なるマイクロクランクによって、冷却過程で
釉面に生じる応力の集中を緩和することで、目視で観察
されやすい、幅の広い長大なる貫入の発生を防止する。
移による急激な体積変化が起こりその時生じる珪砂粒子
周囲の多大なるマイクロクランクによって、冷却過程で
釉面に生じる応力の集中を緩和することで、目視で観察
されやすい、幅の広い長大なる貫入の発生を防止する。
アルミナ、５ｉＣ１長石、使用する釉薬の融点より高い
融点を持ち熱膨張係数が異なるガラス粒子等も同様で、
釉薬との熱膨張係数との差により粒子周囲にマイクロク
ランクは発生し、冷却過程で釉面に生じる応力集中は防
止され、目視で観察され４ＦＩ Ｚ＞ １４人は発生し
ない。
融点を持ち熱膨張係数が異なるガラス粒子等も同様で、
釉薬との熱膨張係数との差により粒子周囲にマイクロク
ランクは発生し、冷却過程で釉面に生じる応力集中は防
止され、目視で観察され４ＦＩ Ｚ＞ １４人は発生し
ない。
以上のように本発明による施釉レメント製品は、比較的
安価で耐薬品性があり目視観察では長大のない美陀な釉
面を呈Ｊ−ると几にノンスリップ効果もある実用的価値
大なるものである。
安価で耐薬品性があり目視観察では長大のない美陀な釉
面を呈Ｊ−ると几にノンスリップ効果もある実用的価値
大なるものである。
Claims (1)
- 表面が釉薬の固形分！Ｉ！量に対して５〜５０％の珪砂
、アルミナ等の粒子を含んだ釉薬混合物からなるセメン
ト質成形体を約６００〜９５０’Ｃで焼成し、養生して
なる施釉セメント製品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23112983A JPS60122782A (ja) | 1983-12-07 | 1983-12-07 | 施釉セメント製品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23112983A JPS60122782A (ja) | 1983-12-07 | 1983-12-07 | 施釉セメント製品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60122782A true JPS60122782A (ja) | 1985-07-01 |
| JPS6230154B2 JPS6230154B2 (ja) | 1987-06-30 |
Family
ID=16918734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23112983A Granted JPS60122782A (ja) | 1983-12-07 | 1983-12-07 | 施釉セメント製品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60122782A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6337933A (ja) * | 1986-07-31 | 1988-02-18 | 積水化学工業株式会社 | セラミツク発泡体の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS495120A (ja) * | 1972-05-02 | 1974-01-17 | ||
| JPS57100993A (en) * | 1980-12-11 | 1982-06-23 | Kubota Ltd | Manufacture of enameled cement products |
-
1983
- 1983-12-07 JP JP23112983A patent/JPS60122782A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS495120A (ja) * | 1972-05-02 | 1974-01-17 | ||
| JPS57100993A (en) * | 1980-12-11 | 1982-06-23 | Kubota Ltd | Manufacture of enameled cement products |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6337933A (ja) * | 1986-07-31 | 1988-02-18 | 積水化学工業株式会社 | セラミツク発泡体の製造方法 |
| JPH0456796B2 (ja) * | 1986-07-31 | 1992-09-09 | Sekisui Chemical Co Ltd |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6230154B2 (ja) | 1987-06-30 |
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