JPS60122357A - 分光分析装置 - Google Patents
分光分析装置Info
- Publication number
- JPS60122357A JPS60122357A JP23197183A JP23197183A JPS60122357A JP S60122357 A JPS60122357 A JP S60122357A JP 23197183 A JP23197183 A JP 23197183A JP 23197183 A JP23197183 A JP 23197183A JP S60122357 A JPS60122357 A JP S60122357A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wavelength
- value
- signal
- difference
- section
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 title abstract description 11
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 claims 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006199 nebulizer Substances 0.000 description 1
- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/71—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
- G01N21/73—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited using plasma burners or torches
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/06—Scanning arrangements arrangements for order-selection
- G01J2003/066—Microprocessor control of functions, e.g. slit, scan, bandwidth during scan
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は分光分析装置に係り、特に連続光の妨害を自動
的に速やかに補正するのに好適な手段を備えた原子の発
光あるいは吸収を利用して定蓋するいは定性分析を行う
分光分析装置に関するものである。
的に速やかに補正するのに好適な手段を備えた原子の発
光あるいは吸収を利用して定蓋するいは定性分析を行う
分光分析装置に関するものである。
例えば、近年開発された誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発
光分析法においては、７０００〜８０００玉の高温のア
ルゴンプラズマに霧化した液体試料を導入して発光させ
、各元素個有の発光スペクトルを観測して分析を行うよ
うにしている。
光分析法においては、７０００〜８０００玉の高温のア
ルゴンプラズマに霧化した液体試料を導入して発光させ
、各元素個有の発光スペクトルを観測して分析を行うよ
うにしている。
しかし、この場合、高温のアルゴンプラズマから放射さ
れる強い連続スペクトル光が、元素個有の輝線スペクト
ルに重なシ、正確な分析を妨げる場合がある。そのため
、一般には、マトリクスマツチングと呼ばれる手法を用
いてこの妨害を補正する。マトリクスマツチングとは、
検量線を作成する標準濃度溶液の化学的組成を試料の化
学的組成にできるだけ合わせる手法である。化学的な組
成が類似していれば、これらをプラズマに導入した場合
、類似した強度の連続光を発生する。したがって、連続
光による信号分をキャンセルすることが可能となる。し
かし、実際には、試料の化学的組成がわからない場合が
多く、応用できるケースは少ない。
れる強い連続スペクトル光が、元素個有の輝線スペクト
ルに重なシ、正確な分析を妨げる場合がある。そのため
、一般には、マトリクスマツチングと呼ばれる手法を用
いてこの妨害を補正する。マトリクスマツチングとは、
検量線を作成する標準濃度溶液の化学的組成を試料の化
学的組成にできるだけ合わせる手法である。化学的な組
成が類似していれば、これらをプラズマに導入した場合
、類似した強度の連続光を発生する。したがって、連続
光による信号分をキャンセルすることが可能となる。し
かし、実際には、試料の化学的組成がわからない場合が
多く、応用できるケースは少ない。
本発明は上記に鑑みてなされたもので、その目的とする
ところは、分析値を狂わせる連続光の妨害を自動的に速
やかに補正することができる分光分析装置を提供するこ
とにある。
ところは、分析値を狂わせる連続光の妨害を自動的に速
やかに補正することができる分光分析装置を提供するこ
とにある。
〔発明の概要〕
本発明の第１の特徴は、目的の元素の分析線波長の近傍
を波長走査して上記分析線波長を含む指定の波長区間に
おける信号の最大値と上記指定の波長区間より短波長側
の指定の波長区間と長波長側の指定の波長区間における
信号の最小値とを検出する手段と、上記最大値と上記最
小値との差を演算してその結果から連続光成分の影響を
受けない上記元素の真の輝線スペクトル強度に対応する
値をめる手段とを具備した構成とした点にある。
を波長走査して上記分析線波長を含む指定の波長区間に
おける信号の最大値と上記指定の波長区間より短波長側
の指定の波長区間と長波長側の指定の波長区間における
信号の最小値とを検出する手段と、上記最大値と上記最
小値との差を演算してその結果から連続光成分の影響を
受けない上記元素の真の輝線スペクトル強度に対応する
値をめる手段とを具備した構成とした点にある。
第２の特徴は、上記指定の波長区間における信号の最大
値と上記指定の波長区間とさらに短波長の区間とさらに
長波長の区間からなる第２の指定の波長区間における信
号の最小値とを検出する手段と、上記最大値と上記最小
値との差を演算してその結果から連続光成分の影響を受
けない上記元素の真の輝線スペクトル強度に対応する値
をめる手段とを具備した構成とした点にある。
値と上記指定の波長区間とさらに短波長の区間とさらに
長波長の区間からなる第２の指定の波長区間における信
号の最小値とを検出する手段と、上記最大値と上記最小
値との差を演算してその結果から連続光成分の影響を受
けない上記元素の真の輝線スペクトル強度に対応する値
をめる手段とを具備した構成とした点にある。
以下本発明を第１図、第２図に示した実施例および第３
図〜第７図を用いて詳細に説明する。
図〜第７図を用いて詳細に説明する。
第１図は本発明の分光分析装置の一実施例を示すブロッ
ク図で、ＩＣＰ発光分光分析装置の場合を例示しである
。第７図において、１は高周波電源（周波数２７．１２
ＭＨｚ 、最大出力２．５ＫＷ）、２は自動インピーダ
ンス整合器、３はＩＣＰ光源で、ＩＣＰ光源３は、周波
数２７．１２ Ｍ Ｈｚ 、最大出力２．５ＫＷＯ高周
波電力で点灯される。４は溶液試料で、ネプライザで霧
化した後、プラズマの中心部に導入される。プラズマ中
心部の温度は約７０００’にであシ、導入された試料４
は完全に分解されて、原子あるいはイオンの光スペクト
ルを放出する。プラズマからの光は、分光器５で分光さ
れ、検知器であるホトマル６で電流に変換され、プリア
ンプ７で増幅された後、マルチプレクサ８を通り、高速
Ａ−Ｄコンバータ９でディジタル値に変換される。その
後、ｃＰＵバス１ｏを経てＣＰＵＩＩに入力される。一
方、分光器５において、分散素子はステッピングモータ
１２によって制御され、波長を走査する。ステッピング
モータ１２は、ＣＰＵ１１によりステッピングモータ駆
動回路１３を介して制御される。１４はＰＩＡでアル。
ク図で、ＩＣＰ発光分光分析装置の場合を例示しである
。第７図において、１は高周波電源（周波数２７．１２
ＭＨｚ 、最大出力２．５ＫＷ）、２は自動インピーダ
ンス整合器、３はＩＣＰ光源で、ＩＣＰ光源３は、周波
数２７．１２ Ｍ Ｈｚ 、最大出力２．５ＫＷＯ高周
波電力で点灯される。４は溶液試料で、ネプライザで霧
化した後、プラズマの中心部に導入される。プラズマ中
心部の温度は約７０００’にであシ、導入された試料４
は完全に分解されて、原子あるいはイオンの光スペクト
ルを放出する。プラズマからの光は、分光器５で分光さ
れ、検知器であるホトマル６で電流に変換され、プリア
ンプ７で増幅された後、マルチプレクサ８を通り、高速
Ａ−Ｄコンバータ９でディジタル値に変換される。その
後、ｃＰＵバス１ｏを経てＣＰＵＩＩに入力される。一
方、分光器５において、分散素子はステッピングモータ
１２によって制御され、波長を走査する。ステッピング
モータ１２は、ＣＰＵ１１によりステッピングモータ駆
動回路１３を介して制御される。１４はＰＩＡでアル。
ＣＰＵ１１は、外部のデータステーション１６とＣＰＵ
８１５で接続されており、オペレータは、データステー
ション１６によりシステムを制御する。１７はグラフィ
クプリンタ、１８はプロッタである。
８１５で接続されており、オペレータは、データステー
ション１６によりシステムを制御する。１７はグラフィ
クプリンタ、１８はプロッタである。
分光器５の短波長端は１９Ｑｎｍであシ、長波長端は５
４０ｎｍである。１９０〜５４０ｎｍの波長範囲に７２
元素の分析線が存在する。例えば、マグネシウム（Ｍｇ
）は２４８ｎｍに最も感度が高い分析線がある。この分
析線を分析する場合、波長走査は次のようにして行う。
４０ｎｍである。１９０〜５４０ｎｍの波長範囲に７２
元素の分析線が存在する。例えば、マグネシウム（Ｍｇ
）は２４８ｎｍに最も感度が高い分析線がある。この分
析線を分析する場合、波長走査は次のようにして行う。
まず、１９０ ｎｍから高速（１８ｎ ｍ ／ ｓ ）
の波長走査を開始し、目的波長のすぐ手前で急速に走査
速度を落とし、目的分析線（Ｍｇの場合２４８ ｎ ｍ
）の近傍子Ｑ、２ｎｍ程度を低速で走査する。この低
速走査時に、（ベクトルデータを取シ込む。第２図を用
いて説明すると、波長区間（Ａ’ −Ｅ’ １が低速走
査領域で、この区間内でデータが取シ込まれ、例えば、
第２図に示すスペクトル信号１９が記録される。
の波長走査を開始し、目的波長のすぐ手前で急速に走査
速度を落とし、目的分析線（Ｍｇの場合２４８ ｎ ｍ
）の近傍子Ｑ、２ｎｍ程度を低速で走査する。この低
速走査時に、（ベクトルデータを取シ込む。第２図を用
いて説明すると、波長区間（Ａ’ −Ｅ’ １が低速走
査領域で、この区間内でデータが取シ込まれ、例えば、
第２図に示すスペクトル信号１９が記録される。
ところで、本発明においては、低速走査領域の中心波長
Ｃ（２０）の近傍の区間ＣＢ−Ｄ〕における信号の最大
値を取り込み、同時に、区間〔Ｂ〜Ｄ〕のさらに外側の
区間〔Ａ〜Ｂ〕および〔Ｄ〜Ｅ〕において信号の最小値
を取９込み、これらの最大値と最小値との差を演算する
ようにしである。
Ｃ（２０）の近傍の区間ＣＢ−Ｄ〕における信号の最大
値を取り込み、同時に、区間〔Ｂ〜Ｄ〕のさらに外側の
区間〔Ａ〜Ｂ〕および〔Ｄ〜Ｅ〕において信号の最小値
を取９込み、これらの最大値と最小値との差を演算する
ようにしである。
この差は、輝線スペクトルに基づく信号２１に相当する
。また、区間［Ａ−Ｂ〕およびＣＤ−Ｅ）における信号
の最小値は、プラズマからの連続光に基づく信号２２に
相当する。なお、第１図には、低速走査領域の中心波長
Ｃが分析線の中心波長Ｃｏと一致して４る場合を示しで
あるが、実際には分光器５の波長誤差、再現誤差などに
より、第３図、第４図に示すようになる場合が多い。す
なわち、波長Ｃとｃｏとが一致しない。しかし、これら
の場合でも、区間〔Ｂ〜Ｄ〕における信号の最大値およ
び区間（Ａ−Ｂ ：） 、 ＣＤ−Ｅ ）における信号
の最小値を取り込むことによシ、第１図の場合と同じ結
果を得ることができる。そして、もし、区間内の最大値
でなく、単に見かけ上の分析線波長Ｃｏにおける信号を
ピークとみなすと正しい値は得られない。また、区間内
の最小値をとらずに、最小値をとる波長をあらかじめ指
定してしまうと、やはり分光器５の波長設定誤差の影響
をもろに受けてしまう。
。また、区間［Ａ−Ｂ〕およびＣＤ−Ｅ）における信号
の最小値は、プラズマからの連続光に基づく信号２２に
相当する。なお、第１図には、低速走査領域の中心波長
Ｃが分析線の中心波長Ｃｏと一致して４る場合を示しで
あるが、実際には分光器５の波長誤差、再現誤差などに
より、第３図、第４図に示すようになる場合が多い。す
なわち、波長Ｃとｃｏとが一致しない。しかし、これら
の場合でも、区間〔Ｂ〜Ｄ〕における信号の最大値およ
び区間（Ａ−Ｂ ：） 、 ＣＤ−Ｅ ）における信号
の最小値を取り込むことによシ、第１図の場合と同じ結
果を得ることができる。そして、もし、区間内の最大値
でなく、単に見かけ上の分析線波長Ｃｏにおける信号を
ピークとみなすと正しい値は得られない。また、区間内
の最小値をとらずに、最小値をとる波長をあらかじめ指
定してしまうと、やはり分光器５の波長設定誤差の影響
をもろに受けてしまう。
第５図は分光線の近傍に妨害線がある場合の低速走査で
得られるスペクトル信号波形図である。
得られるスペクトル信号波形図である。
このような場合でも、上記したように、区間〔Ｂ〜Ｄ〕
における信号の最大値を読み込み、区間（Ａ−Ｂ〕、
［：Ｄ−Ｆ］における信号の最小値を読み込み、その差
を演算すれば、輝線スペクトルに基づく信号２１を得る
ことができる。
における信号の最大値を読み込み、区間（Ａ−Ｂ〕、
［：Ｄ−Ｆ］における信号の最小値を読み込み、その差
を演算すれば、輝線スペクトルに基づく信号２１を得る
ことができる。
第６図は低濃度試料の場合の低速走査で得られるスペク
トル信号波形図である。
トル信号波形図である。
なお、上記した説明では、最小値は、常に区間（Ａ−Ｂ
）６るいは［４）−Ｅ）のものを読み出すようにしてい
るが、区間［：Ｂ−Ｄ）を含む区間〔Ａ〜Ｅ〕のものを
読み出すようにしてもよいことはいうまでもない。
）６るいは［４）−Ｅ）のものを読み出すようにしてい
るが、区間［：Ｂ−Ｄ）を含む区間〔Ａ〜Ｅ〕のものを
読み出すようにしてもよいことはいうまでもない。
第７図は第１図の分光分析装置を用いた測定の場合の第
１図のＣＰＵＩＩにおける処理の一実施例を示すフロー
チャートである。
１図のＣＰＵＩＩにおける処理の一実施例を示すフロー
チャートである。
第２図〜第４図において、目的とする輝線（分析線）ス
ペクトル強度に対応するものは、上記の最大値と最小値
の差であシ、最小値は、プラズマから放射される連続ス
ペクトルの強度に対応している。そして、試料の種類、
あるいは共存物によりプラズマの温度が変わシ、プラズ
マ温度が変わると、連続スペクトル強度が変わって誤差
を生ずることになるが、本発明の実施例においては、上
記したように、信号の最大値と最小値との差をとるよう
にしているので、連続光の妨害が自動的に速やかに補正
され、誤差が生じない。特に重要なのは、低濃度試料を
分析する場合である。低濃度試料の場合には、第６図に
示すように、分析線の小さな信号２３が相当的に大きい
連続光に基づく信号２４の上に乗るような形となる。こ
のとき、連続光の強度がわずか変動しても、分析線の信
号からすると大きな変動となるが、本発明によればこの
変動による影響を常に取り除くことができる。
ペクトル強度に対応するものは、上記の最大値と最小値
の差であシ、最小値は、プラズマから放射される連続ス
ペクトルの強度に対応している。そして、試料の種類、
あるいは共存物によりプラズマの温度が変わシ、プラズ
マ温度が変わると、連続スペクトル強度が変わって誤差
を生ずることになるが、本発明の実施例においては、上
記したように、信号の最大値と最小値との差をとるよう
にしているので、連続光の妨害が自動的に速やかに補正
され、誤差が生じない。特に重要なのは、低濃度試料を
分析する場合である。低濃度試料の場合には、第６図に
示すように、分析線の小さな信号２３が相当的に大きい
連続光に基づく信号２４の上に乗るような形となる。こ
のとき、連続光の強度がわずか変動しても、分析線の信
号からすると大きな変動となるが、本発明によればこの
変動による影響を常に取り除くことができる。
これは、精度の向上のみでなく、検出限界の向上をも意
味する。また、複雑な波長あるいはシーク（９） ンスの設定なしに連続光による妨害を補正することがで
きる。また、単にスペクトルを測定するだけで、その後
は演算処理を行うだけであるから分析スピードを速める
ことができ、連続光補正を行っても、行わない場合に比
較して測定所用時間に差を生じない。
味する。また、複雑な波長あるいはシーク（９） ンスの設定なしに連続光による妨害を補正することがで
きる。また、単にスペクトルを測定するだけで、その後
は演算処理を行うだけであるから分析スピードを速める
ことができ、連続光補正を行っても、行わない場合に比
較して測定所用時間に差を生じない。
なお、以上の説明は、ＩＣＰ発光分光分析装置について
であるが、本発明は、高分解能分光器を用いた連続光原
子吸光分光分析装置にも適用可能であシ、この場合は、
分子吸収、光散乱などに基づく誤差を補正することがで
きる。
であるが、本発明は、高分解能分光器を用いた連続光原
子吸光分光分析装置にも適用可能であシ、この場合は、
分子吸収、光散乱などに基づく誤差を補正することがで
きる。
以上説明したように、本発明によれば、分析値を狂わせ
る連続光の妨害を自動的に速やかに補正することができ
、精度の向上および検出限界の向上をはかることができ
るという効果がある。
る連続光の妨害を自動的に速やかに補正することができ
、精度の向上および検出限界の向上をはかることができ
るという効果がある。
第１図は本発明の分光分析装置の一実施例を示すブロッ
ク図、第２図〜第６図は低速スキャンで得られたスペク
トル信号線図で、第２図は低速ス（１０） キャンの波長領域の中心が輝線波長と一致している場合
、第３図は低速スキャンの波長領域の中心が輝線波長よ
シ長波長側へずれた場合、第４図は低速スキャンの波長
領域の中心が輝線波長よシ短波長側へずれた場合、第５
図は目的の輝線の近傍に妨害線がある場合、第６図は低
濃度試料の場合の図、第７図は第１図のＣＰＵＩ １に
おける処理の一実施例を示すフローチャートである。 ３・・・ＩＣＰ光源、４・・・溶液試料、５・・・分光
器、６・・・ホトマル、８・・・マルチプレクサ、９・
・・高速Ａ−Ｄコンバータ、１１・・・ＣＰＵ、１２・
・・ステッピングモータ、１３・・・ステッピングモー
タ駆動回路、１６・・・データステーション、１７・・
・プリンタ、１８・・・プロッタ。 代理人 弁理士 長崎博男 （ほか１名） 屯１図 （１１） 千２図 佑３図 晒４図 Ａ ｂｃｏｃ し ヒ ボ＞９ｃ 皐５図 ＣＩ。 率６図 八 巳 し Ｌ） ヒ 禾Ｕ距
ク図、第２図〜第６図は低速スキャンで得られたスペク
トル信号線図で、第２図は低速ス（１０） キャンの波長領域の中心が輝線波長と一致している場合
、第３図は低速スキャンの波長領域の中心が輝線波長よ
シ長波長側へずれた場合、第４図は低速スキャンの波長
領域の中心が輝線波長よシ短波長側へずれた場合、第５
図は目的の輝線の近傍に妨害線がある場合、第６図は低
濃度試料の場合の図、第７図は第１図のＣＰＵＩ １に
おける処理の一実施例を示すフローチャートである。 ３・・・ＩＣＰ光源、４・・・溶液試料、５・・・分光
器、６・・・ホトマル、８・・・マルチプレクサ、９・
・・高速Ａ−Ｄコンバータ、１１・・・ＣＰＵ、１２・
・・ステッピングモータ、１３・・・ステッピングモー
タ駆動回路、１６・・・データステーション、１７・・
・プリンタ、１８・・・プロッタ。 代理人 弁理士 長崎博男 （ほか１名） 屯１図 （１１） 千２図 佑３図 晒４図 Ａ ｂｃｏｃ し ヒ ボ＞９ｃ 皐５図 ＣＩ。 率６図 八 巳 し Ｌ） ヒ 禾Ｕ距
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、原子の発光あるいは吸収を利用した分光分析装置に
おいて、目的の元素の分析線波長の近傍を波長走査して
前記分析線波長を含む指定の波長区間における信号の最
大値と前記指定の波長区間より短波長側の指定の波長区
間と長波長側の指定の波長区間における信号の最小値と
を検出する手段と、前記最大値と前記最小値との差を演
算してその結果から連続光成分の影響を受けない前記元
素の真の輝線スペクトル強度に対応する値をめる手段と
を具備することを特徴とする分光分析装置。 ２、原子の発光あるいは吸収を利用した分光分析装置に
おいて、目的の元素の分析線波長の近傍を波長走査して
前記分析線波長を含む指定の波長区間における信号の最
大値と前記指定の波長区間とさらに短波長の区間とさら
に長波長の区間からなる第２の指定の波長区間における
信号の最小値とを検出する手段と、前記最大値と前記最
小値との差を演算してその結果から連続光成分の影響を
受けない前記元素の真の輝線スペクトル強度に対応する
値をめる手段とを具備することを特徴とする分光分析装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23197183A JPS60122357A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 分光分析装置 |
| DE19843444304 DE3444304A1 (de) | 1983-12-06 | 1984-12-05 | Spektralanalysengeraet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23197183A JPS60122357A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 分光分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60122357A true JPS60122357A (ja) | 1985-06-29 |
Family
ID=16931916
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23197183A Pending JPS60122357A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 分光分析装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60122357A (ja) |
| DE (1) | DE3444304A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0460442A (ja) * | 1990-06-28 | 1992-02-26 | Horiba Ltd | 分光分析における多成分分析方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3927768A1 (de) * | 1989-08-23 | 1991-02-28 | Perkin Elmer Corp | Verfahren zur konzentrationsbestimmung mittels atomemissions-spektroskopie |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5540956A (en) * | 1978-09-14 | 1980-03-22 | Nippon Jiyaareru H Kk | Photo modulation spectroscope |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL7712140A (nl) * | 1976-11-15 | 1978-05-17 | Hoffmann La Roche | Emissiespectrometerstelsel. |
-
1983
- 1983-12-06 JP JP23197183A patent/JPS60122357A/ja active Pending
-
1984
- 1984-12-05 DE DE19843444304 patent/DE3444304A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5540956A (en) * | 1978-09-14 | 1980-03-22 | Nippon Jiyaareru H Kk | Photo modulation spectroscope |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0460442A (ja) * | 1990-06-28 | 1992-02-26 | Horiba Ltd | 分光分析における多成分分析方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3444304A1 (de) | 1985-06-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4798463A (en) | Spectrofluorophotometer | |
| US5013920A (en) | Infrared analyzer with improved calibration | |
| JPH09113441A (ja) | 分光方法 | |
| JPS60122357A (ja) | 分光分析装置 | |
| JP3207882B2 (ja) | 分光蛍光光度計のスペクトル補正方法及びスペクトル補正機能付分光蛍光光度計 | |
| JPH01214723A (ja) | 分光蛍光光度計 | |
| JP4506524B2 (ja) | 発光分光分析装置 | |
| JPH04138343A (ja) | 分光螢光光度計 | |
| JP3223097B2 (ja) | 溶液中に含まれる複数成分の濃度分析方法 | |
| Crepeau et al. | UV laser scanning and fluorescence monitoring of analytical ultracentrifugation with an on-line computer system | |
| JP2001133419A (ja) | Ｘ線元素分析装置 | |
| JP4450750B2 (ja) | 蛍光分析装置 | |
| JPH03144347A (ja) | 蛍光分光光度法及びその装置 | |
| JP3197132B2 (ja) | レーザ光を用いた計測装置 | |
| JP3164720B2 (ja) | 汚染元素濃度分析装置および汚染元素濃度分析方法 | |
| JPH06102175A (ja) | 原子吸光光度計 | |
| JP2000065764A (ja) | 液体試料の螢光ｘ線分析方法 | |
| JPH09251004A (ja) | 光音響分析方法およびその装置 | |
| JPH0377030A (ja) | 反応気相モニター装置 | |
| JPH01302142A (ja) | 原子吸光光度計 | |
| JP2882701B2 (ja) | 固体試料直接分析方法 | |
| JP2000199749A (ja) | 蛍光ｘ線分析装置 | |
| USH922H (en) | Method for analyzing materials using x-ray fluorescence | |
| JPS63142238A (ja) | 発光分光分析方法および装置 | |
| JPH08227684A (ja) | 同軸形直衝突イオン散乱分光装置 |