JPS60121788A - 複合体 - Google Patents

複合体

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Publication number
JPS60121788A
JPS60121788A JP23008383A JP23008383A JPS60121788A JP S60121788 A JPS60121788 A JP S60121788A JP 23008383 A JP23008383 A JP 23008383A JP 23008383 A JP23008383 A JP 23008383A JP S60121788 A JPS60121788 A JP S60121788A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal oxide
support plate
composite
thin film
organic insulating
Prior art date
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Pending
Application number
JP23008383A
Other languages
English (en)
Inventor
山崎 充夫
佐藤 任延
大輔 牧野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP23008383A priority Critical patent/JPS60121788A/ja
Publication of JPS60121788A publication Critical patent/JPS60121788A/ja
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  • Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、複合体に関し、更に詳しくは絶縁性、耐食性
、耐熱性等に優れた複合体に関する。
従来、金属製支持板に有機絶縁膜を設けた複合体として
、例えばフレキシブル電子回路用基板として銅箔にポリ
イミドフィルムを接着剤を介してラミネートしたもの、
スピーカー用振動板としてアルミニウム箔とポリイミド
フィルムをラミネートしたもの等が知られている。しか
しながら、このようなラミネートにより製造された複合
体では、金属製支持板と有機絶縁膜との接着強度に劣る
欠点があった。
上記欠点を改善する方法としては、有機絶縁膜の原料溶
液、例えばポリイミドの前駆体であるボリアミンク酸溶
液等を金属製支持板上に塗布し、加熱乾燥、硬化させる
方法がある。しかしながら、この方法でも、確かに金属
製支持板と有機絶縁膜との接着強度は改善されるが、有
機絶縁膜の原料溶液中に含まれる溶剤の蒸発、硬化反応
時の脱水等により膜中にピンホールが生じやす(、有機
絶縁膜の絶縁性に劣り、また使用する金属製支持板の種
類により、ポリイミドの耐熱性が悪くなるという欠点が
あった。
本発明の目的は、上記従来技術の欠点を除去し、絶縁性
、耐食性、耐熱性に優れた複合体を提供することにある
本発明は、金属製支持板の少なくとも一面に、酸化ケイ
素を主成分とする絶縁性金属酸化物の薄膜を設け、更に
その上に有機絶縁膜を設けてなる複合体に関する。
本発明に使用される金属製支持板としては、特に制限は
ないが、例えば鉄、鋼、ステンレス鋼、銅、銅合金、ア
ルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ニッケル合
金、チタン、チタン合金等が挙げられる。これらの金属
製支持板は、その性質、例えば熱伝導性、電気伝導性、
熱膨張係数、引張り強度、曲げ強度、衝撃強度、加工性
、耐食性、価格等から、その使用目的に合わせて選定さ
れる。
金属製支持板の厚さは、機械的強度および加工性から0
.01〜l +uが好ましい。
本発明に使用される酸化ケイ素を主成分とする絶縁性金
属酸化物の薄膜は、例えばケイ酸エチル(Si (OE
t)4)を主成分とするアルコール溶液に、水を添加し
て加水分解させて得られる水酸化ケイ素(S i (O
H) 4 )または酸化ケイ素(SiO□)のオリゴマ
ーを生成分とするアルコール溶液を金属製支持板上に塗
布し、加熱乾燥することにより形成することができる。
このような金属酸化物の薄膜の形成により、金属製支持
板上に絶縁膜が付与されるとともに、支持板表面の酸化
が防止され、またその上に設けられる有機絶縁膜の接着
性等が改善される。
このような絶縁性金属酸化物の薄膜の膜厚は、o、oo
i〜1μmが好ましく、より好ましくは0゜03〜04
3μmである。膜厚が薄ずぎると絶縁性が損われ、また
厚すぎると、薄膜形成途中でクラックが入り易くなり、
外観上および絶縁性の点で劣る。
本発明で使用される有機絶縁膜としては、例えばポリイ
ミド、ポリアミック酸r′またはこれらの変性体等の膜
が挙げられる。これらのポリマーは、絶縁性、耐熱性、
耐薬品性に優れており、特に電子部品用として有用であ
る。
このような有機絶縁膜は、上記ポリマーの有機溶媒溶液
、または上記ポリマーの前駆体の有機溶媒溶液を、前記
の絶縁性金属酸化物の薄膜を形成した金属製支持板上に
、塗布し、加熱乾燥することにより形成される。
有機絶縁膜の膜厚は、一般に0.5〜50μmが好まし
く、より好ましくは1〜20μmである。
膜厚が薄すぎると、絶縁不良が発生し易く、また厚すぎ
ると、有機絶縁膜形成時の熱履歴によりはがれ、クラン
ク等を生じやすくなる。
絶縁性金属酸化物の薄膜の形成および有機絶縁膜の形成
に用いられる塗布法としては、通當の塗布法、例えばス
プレー塗布、浸漬引上げ法、回転塗布法、刷毛塗り法、
プレードコータまたはロールコータによる方法等を用い
ることができる。
本発明の複合体は、金属酸化物の薄膜により、絶縁性が
改善されるとともに、金属製支持板の酸化が抑えられる
ため、変色がなく、耐食性、耐熱性に優れたものとなる
本発明の複合体は、電子部品、プリント回路基板等とし
て用いられ、これらの基板の信頼性を著しく向上させる
ものである。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例 ケイ酸エチルSi (OEt)4100gおよびリン酸
シエヂル(E t O) 2PO(OH) 0.59g
をエチルアルコール864.85 gに混合、溶解し、
これに水34.5.6 gを加え、70°Cで4時間加
熱攪拌して酸化ケイ素のオリゴマー溶液を調製した。
十分洗浄したステンレス鋼板(SUS430、七 100x100x0.1 龍)を用い、これに上記の酸
化ケイ素のオリゴマー溶液を、浸漬塗布した。
浸漬塗布は、引上げ速度30■/ m i nで行い、
室温放置して溶媒を風乾したのち、400℃で1時間硬
化することにより、膜厚的0.07μmの酸化ケイ素を
主成分とする金属酸化物の薄膜を形成した。
このようにして得られた金属酸化物薄膜を設けたステン
レス鋼板に、以下のようにして調製したポリイミドの前
駆体であるポリアミック酸の溶液を回転塗布し、200
℃で30分間、350℃で1時間、加熱硬化させ“(、
本発明の複合体を得た。
ポリアミック酸溶液は、3.3’、4.4’−ベンゾフ
ェノンテトラカルポン酸二無水物61.674gおよび
4.4′−ジアミノジフェニルエーテル38.32 ’
6 gをN−メチルピロリドン400g中で、室温で3
時間攪拌させ、更に80℃で5時間攪拌して、粘度2,
000cpsの溶液として得た。またポリアミック酸の
回転塗布は、共栄セミコンダクター(株)社製I H−
3型回転器を用い、約5gのポリアミック酸溶液を回転
中心部に供給し、2,500rprn、30秒間回転す
ることにより行い、約4μmの表面平滑度、−接着性に
優れた有機絶縁膜を得た。
以上のようにして得られた本発明の複合体のボリイミl
” Iff面に、1clI+の島状にアルミニウムをマ
スク蒸着し、隣り合わせたアルミニウムの島同士および
アルミニウムの島と裏面(SiO□を主成分とする金属
酸化物膜面)との間の絶縁抵抗を測定したところ、DC
200Vでいずれも10 Ω以」二の抵抗を示した。ま
たこの複合体を、350℃、400℃という高温に放置
されても、ステンレス鋼板の表面の変色は認められなか
った。なお、金属酸化物の薄膜を設けていないステンレ
ス鋼板を同様な高温にさらしたところ、ややかっ色を呈
した。このため、本発明の複合体の場合は、金属酸化物
薄膜がステンレス鋼板表面の酸化を防止しているものと
考えられる。
また酸化ケイ素を主成分とする金属酸化物の薄膜を設け
たステンレス鋼板と、金属酸化物薄膜を設けていないス
テンレス鋼板を用いて製造した各複合体について、示差
熱天秤を用いてこれらの耐熱性を比較した。その結果、
全重量減少量の5%M量減少時の温度は、金属酸化物の
薄膜を設けたステンレス鋼板を用いた場合は560 ’
c、一方金属酸化物の薄膜を設けていないステンレス鋼
板を用いた場合は520 ℃であった。なお、示差熱天
秤は、α−A1203を標準試料として、試料重量1g
、昇温速度10 ’C/ m i n、空気中で測定を
行った。
本発明の複合体は、以上のように絶縁性に優れ、また金
属酸化物の薄膜により金属製支持板の酸化が抑えられる
ため、変色がなく、耐食性、耐熱性に優れたものである

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ■、金属製支持板の少なくとも一面に、酸化ケイ素を主
    成分とする絶縁性・金属酸化物の薄膜を設け、更にその
    上に有機絶縁膜を設けてなる複合体。
JP23008383A 1983-12-06 1983-12-06 複合体 Pending JPS60121788A (ja)

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JP23008383A JPS60121788A (ja) 1983-12-06 1983-12-06 複合体

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JP23008383A JPS60121788A (ja) 1983-12-06 1983-12-06 複合体

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JPS60121788A true JPS60121788A (ja) 1985-06-29

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ID=16902279

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JP23008383A Pending JPS60121788A (ja) 1983-12-06 1983-12-06 複合体

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0397639U (ja) * 1990-01-26 1991-10-08

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JPH0397639U (ja) * 1990-01-26 1991-10-08

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