JPS60110301A - ガス循環式噴霧乾燥装置における循環ガスの制御方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はガス循環式噴霧乾燥装置における循環ガスの圧
力および０２ａ度の制御方法に関する。

一般にガス循環式噴霧乾燥装置においては次のような運
転条件が望ましい。

■　乾燥室内の圧力ニ 循環ガスの圧力は一２００〜＋５０顛Ｈ２０でなければ
ならないが特に−５０〜−５ｍ１＋Ｈ２０であることが
望ましい。

■　０２濃度 ０２濃度は６％〜０％を必要とされるが、特に３〜２％
であることが望まれる。

ところでガス循環式噴霧乾燥装置の上記ガス圧力、０２
濃度の変動の原因は次のようなものが考えられる。

■　噴霧される原液中の溶剤の蒸気が発生し、系内の圧
力が増加する。

◎　シール、パージ用のＮ２ガスが導入され、系内の圧
力桑辱等得の吐専および０２の濃度が変化する。すなわ
ちアトマイザ−、ブロワ−、グンパ一部においてＮ２ガ
スが導入されている。

Ｏ配管のフランジなどから循環ガスの漏れ出し、漏れ込
みがあり、０２１１１４度、圧力が変化する。

■　温度条件の変化でガス圧力の変化が生ずる。

の　凝縮器より溶剤が凝縮して圧力が変化する。

ところが、従来のガス循環式噴霧乾燥装置では上記■■
の条件を手動で制御しており、種々のトラはルの原因と
なっていた。本発明はこのような従来のこの種装置の問
題点を解決することを目的とする。

すなわち、本発明の目的は次の通りである。

■　Ｎ２使用量の低減： ０２濃度を調整しないと、無駄なＮ２を多量に使用する
こさになる。したがってＮ２ガスが高価なため、運転コ
ストの上昇を示す。

＠　系内圧力の適正化： 系内圧力を適正化することにより、アトマイザ−の噴霧
状態を一定にすることができ、製品の品質を安定できる
。

Ｏ運転条件の一定化： 運転条件が一定となり、再現性のある、円滑な運転が可
能となる。

Ｏ爆発抑止の自動化： 特に可撓性の溶剤を用いた液を噴霧乾燥するとき、０２
の濃度がある値に達すると、爆発の恐れがある。したが
って０２ａ度の制菌が必要である。

本発明は上記目的を達成するために以下述べるような構
成を有するものである。

（実施例の説明） 第１図において、１は乾燥タンク、２はスプレート９ラ
イヤーＳＤへのＮ２ガス送入用のパルプ、３は圧力計、
４は０２濃度計、ＳＤはスプレードライヤー、Ｃｙはサ
イクロン、Ｆはフィルター、Ｃはコンデンサー、Ｂはブ
ロワ−１ｐは原液圧送ポンプ、ＣＶｌは系内にＮ２ガス
を供給するときのパルプで、制御スイッチＣＶ、Ｓによ
りＮ２ガスの供給を制御する。ｃｖ２は排気バルブで、
制御スイッチｃ　ｖ２　ｓにより、制御される。たたし
、この制御は絞り弁によりなされてもよい。Ｓは圧力計
３と０２ａ度計４の間に挿入された、抵抗をつけるため
のバルブ、ＣＵは０２濃度計４と圧力計３とを連動せし
めて制御する制御ユニットである。制御ユニツ）ＣＵは
次のように０２１ｊＡ度計４古圧力計３とからの出力を
入力積算してたとえばＮ２供給バルブｃｖｉ　と排気バ
ルブＣ■２を次のように制御する。

実際には制御ユニットＣＵは圧力計３、ｏ２濃度計４　
からの出力を入力積算してＮ２供給バルブＣｖ１、排気
バルブｃｖ２を制御するので、必ずしも上記のようにバ
ルブｃｖ１．ｃｖ２が開閉することにはならない。

以下この制御方法を第２図、第３図について説明する。

第２図は０２濃度、系内圧力をきもに０Ｎ−ＯＦＦ制御
した場合の制御ユニットＣＵの作動回路の一例を示して
いる。

第２図においてＡＮＤはアント９スイツチ、ＮＯＴはＮ
ＯＴＯＲスイッチＲはＯＲスイッチ、ＴＭはクイマー、
ＤＳは圧力計３に連動する？Ｔｉ１１＃スイッチである
。第２図の制御ではたとえば０２濃度が高い場合はＮＮ
２供給パルプｃｖ１のみ開きなる。

また０２濃度、系内圧力がさもに高い場合はＮ２供給バ
ルブＣｖ１、排気バルブｃｖ２の両者が開となる。

また０２濃度が低く、系内圧力が高い場合は、Ｎ２供給
パルプｃｖ１は閉、排気バルブＣＶ２は開となる。

第３図は排気バルブｃｖ２を絞り（調節）弁とし、Ｎ２
供給バルブｃｖ１を０Ｎ−ＯＦＦ作動とした場合の一例
を示している。

この場合は次のように作動する。

■　０２ａ度、系内圧力がともに高い場合は、Ｎ２供給
バルブＣＶ、は開となり、排気バルブｃｖ２は系内圧力
が設定範囲内にあるように排気バルブｃｖ２の開度が調
節される。

■　０２濃度が高く、系内圧力の低い場合は、Ｎ２供給
バルブｃｖ１は開となり、排気バルブＣＶ２は全閉とな
るか、Ｎ２ガスの供給に応じて、排気するように最小限
の開度となる。

（本発明の作用効果） ■　０２濃度、系内ガス圧力が設定範囲内に同時に自動
的に保たれるので、乾燥製品の安定化がなされ、爆発の
危険性が無くなる。

■　０２砲度計３　と、循環ガス圧力計４と、排気バル
ブＣＶ、１１と、Ｎ２ガス供給弁ｃｖ１　とが、制御ユ
ニットＣＵたけの最小の制御機器で制御されているにも
か＼わらず、Ｎ２ガスの供給にともなってガス圧力が設
定値以外にはみ出すこともなく、逆にガス圧力の設定値
内においては、０２ｍ度が設定値外にはみ出すこともな
く、理想的な運転ができる。

【図面の簡単な説明】

第１Ｎ：本発明方法を実施する装置のフローシート図、 第２図：本発明方法に０Ｎ−ＯＦＦ制御を用いた場合の
回路図、 第３図二同じ（ＯＮ−ＯＦＦ制御と、調節弁を併用した
場合の回路図、 （第１図） Ｈ・・・・・ヒーター、ＳＤ・・・・・・スジレート９
ライヤー、Ｃｙ・・・・・・サイクロン、Ｆ・・・・・
・フィルター、Ｃ・・・・・・コンデンサー、Ｂ・・・
・・・プロワ−１ｐ・・・・・・原液ポンプ、Ｓ・・・
・・・抵抗用シャッター、１・・・・・・乾燥タンク、
２・・・・・Ｎ２ガス供給バルブ、３・・・・・・圧力
計、４　・・・・・・酸素濃度計、Ｃｖｌ・・・・・Ｎ
２ガス供給バルブ、ＣＵ２・・・・・排気バルブ、（第
２図）（第３図） ＰＳ・・・・・・圧力スイッチ、ＮＯＴ・・・・・Ｎ　
ＯＴスイッチ、ＡＮＤ・・・・・・ＡＮＤスイッチ、Ｔ
Ｍ・・・・・タイマー、０２・・・・・・酸素濃度計、
Ｈ・・・・・・高回路、Ｌ・・・・・・低回路、ＣＵ・
・・・・・制御ユニット、ＰＤ・・・・・・圧力感知器
、ＰＩＤ・・・・・・ＰＩＤ設定器、増幅器、圧力変換
器等のコントロール機器。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ガス循環式噴霧乾燥装置において、循環ガス圧力計３．
   ０２濃度計４からの出力を制御ユニットＣＵを入力積算
   して、Ｎ２ガス供給パルプＣｖ１、排気パルプＣＶ２に
   制御信号を送り、循環ガス圧力、０２ｇｋ度を同時に設
   定された設定値内にあるように制御する、 ことを特徴とする循環ガスの制御方法。