JPS60101545A - 電子写真感光体及びその製造方法 - Google Patents
電子写真感光体及びその製造方法Info
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- JPS60101545A JPS60101545A JP20911383A JP20911383A JPS60101545A JP S60101545 A JPS60101545 A JP S60101545A JP 20911383 A JP20911383 A JP 20911383A JP 20911383 A JP20911383 A JP 20911383A JP S60101545 A JPS60101545 A JP S60101545A
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- Japan
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- layer
- electrophotographic photoreceptor
- photoconductive layer
- conductive support
- microgrooves
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、電子写真感光体及びその製造法に関する。
従来、電子写真感光体として、導電性支持体、光導電層
及び透明絶縁層とで構成したものがあり、かかる感光体
を用いてコピーを作成する際に適用される作像プロセス
としては、−次帯電、ＡＣ又は−次帯電とは逆極性の帯
電による二次イ１；・電、この二次帯電と同時の光像露
光、全面露光の各プロセスで絶縁層に静電ａ像を形成す
る方式が知られている。
及び透明絶縁層とで構成したものがあり、かかる感光体
を用いてコピーを作成する際に適用される作像プロセス
としては、−次帯電、ＡＣ又は−次帯電とは逆極性の帯
電による二次イ１；・電、この二次帯電と同時の光像露
光、全面露光の各プロセスで絶縁層に静電ａ像を形成す
る方式が知られている。
かかる作像プロセスで、高い静電コントラストを得るた
めには、−次帯電後に正、負の電荷が絶縁層の上下にお
いてのみ電荷対を形成するのが理想的な状態であるが、
この際、導電性支持体から光導電層への電荷の注入性が
悪化すると、最終的に形成される静電ａ（象のコントラ
スト電位が極めて小さくなり、これを用いて複写を行な
った場合は、画像濃度は薄く、階調度のない画像しか得
られなくなる。
めには、−次帯電後に正、負の電荷が絶縁層の上下にお
いてのみ電荷対を形成するのが理想的な状態であるが、
この際、導電性支持体から光導電層への電荷の注入性が
悪化すると、最終的に形成される静電ａ（象のコントラ
スト電位が極めて小さくなり、これを用いて複写を行な
った場合は、画像濃度は薄く、階調度のない画像しか得
られなくなる。
したがって、上記のような作像プロセスを採用する場合
は、感光体の導電性支持体および光導電層の性能として
は、−次帯電時に導電性支持体から光導電層への電１：
１ｒの注入性のよいことが要求さＪし る 。
は、感光体の導電性支持体および光導電層の性能として
は、−次帯電時に導電性支持体から光導電層への電１：
１ｒの注入性のよいことが要求さＪし る 。
一般に、導電性支持体としてアルミニウムを使用し、光
導電層として非晶質セレンを主成分とし／こ物質で形成
した場合は、電荷注入性が悪く、そのため高静電コント
ラストが得られない。
導電層として非晶質セレンを主成分とし／こ物質で形成
した場合は、電荷注入性が悪く、そのため高静電コント
ラストが得られない。
この点を改善するために、本発明者は、先に、鏡面加工
されたアルミニウム等の導電性支持体を、例えばサンド
ペーパで加工して、その表面を粗面に形成し、その導電
性支持体上に光導電層と透明絶Ｈ層とを順次積層して、
電子写真感光体を構成することを提案した（特願昭５７
−１８３８５２号）。
されたアルミニウム等の導電性支持体を、例えばサンド
ペーパで加工して、その表面を粗面に形成し、その導電
性支持体上に光導電層と透明絶Ｈ層とを順次積層して、
電子写真感光体を構成することを提案した（特願昭５７
−１８３８５２号）。
ところが、かかるサンドペーパによる粗面加工したもの
においてｖ、Ｌ、高コントラスト電位は得られるが、こ
の加工法では、導電性支持体表面に均一な粗面の形成は
困難であシ、感光体の極部的な劣化が生じやすく、安定
性が乏しいという欠点かや処理液などの不純物が混入す
るおそれがあるなど欠点があった。
においてｖ、Ｌ、高コントラスト電位は得られるが、こ
の加工法では、導電性支持体表面に均一な粗面の形成は
困難であシ、感光体の極部的な劣化が生じやすく、安定
性が乏しいという欠点かや処理液などの不純物が混入す
るおそれがあるなど欠点があった。
また、かかる粗面加工を有力った導電性支持体に光導電
層を蒸着により形成すると、支持体表面の微小鋭角部分
が、光導電層の蒸着形成の際に、核のように作用し、最
終的に得られる蒸着光導電層の表面に針状の突起が形成
され、これを処理せずに感光体を構成した場合には、斑
点等の画像の乱れが生ずるという欠点があった。
層を蒸着により形成すると、支持体表面の微小鋭角部分
が、光導電層の蒸着形成の際に、核のように作用し、最
終的に得られる蒸着光導電層の表面に針状の突起が形成
され、これを処理せずに感光体を構成した場合には、斑
点等の画像の乱れが生ずるという欠点があった。
本発明は、従来の電子写真感光体、並びに先に提案した
電子写真感光体の欠点を解消すべくなされたもので、部
分的な劣化や、像形成時の極部的な画像の乱れが生ぜず
、且つ高コントラスト電位が得られる電子写真感光体お
よびその製造法を提供することを目的とするものである
。
電子写真感光体の欠点を解消すべくなされたもので、部
分的な劣化や、像形成時の極部的な画像の乱れが生ぜず
、且つ高コントラスト電位が得られる電子写真感光体お
よびその製造法を提供することを目的とするものである
。
・本発明は、導電性支持体上に光導電層と、透明絶縁層
とを順次積層してなる電子写真感光体におい−Ｃ，導電
性支」、５体の表面に規則的な微小溝を形成し一〇その
上に光；ｊｉ−電層を形成し、高コントラスト電位を得
ると共に、感光体の部分的な劣化を防止するものである
。
とを順次積層してなる電子写真感光体におい−Ｃ，導電
性支」、５体の表面に規則的な微小溝を形成し一〇その
上に光；ｊｉ−電層を形成し、高コントラスト電位を得
ると共に、感光体の部分的な劣化を防止するものである
。
可だ、本発明は、導電性支持体表面上に切削加工により
規則的な微小溝を形成したのち、蒸着により光導電層を
形成し、次いで表面平滑化手段によりｔｊｉＪ記光導電
光導電層を平滑化し、しかるのち透明絶縁層を形成し、
像形成時における極部的な画像乱れを発生しないように
した感光体が得られるようにするものである。
規則的な微小溝を形成したのち、蒸着により光導電層を
形成し、次いで表面平滑化手段によりｔｊｉＪ記光導電
光導電層を平滑化し、しかるのち透明絶縁層を形成し、
像形成時における極部的な画像乱れを発生しないように
した感光体が得られるようにするものである。
以下本発明の実施例について説明する。第１図は、本発
明に係る電子写真感光体の一実施例を模式的に示した断
面図である。まず、所定の径に鏡面加工されたアルミニ
ウムドラム１を用意し、この表面に、第２図に示すよう
に、ダイヤモンド切削加工によシ、３μｍピッチで３μ
ｍ深さのスノぐイラル状の規則的な微小溝２を形成する
。次いで、この微小溝２からなる凹凸面を形成したドラ
ム１上に、真空蒸着により、５０μｍのＳｃ層を形成し
、更にそのＳｅ層上に、同じく蒸着により０．５μｍの
Ｓｅ・Ｔｅ合金層を形成して光導電層３とした。なお、
上記光導電層中、Ｓｅ層は電荷輸送層、Ｓｃ＊Ｔｅ合金
層は電荷発生層としてそれぞれ機能さぜるものである。
明に係る電子写真感光体の一実施例を模式的に示した断
面図である。まず、所定の径に鏡面加工されたアルミニ
ウムドラム１を用意し、この表面に、第２図に示すよう
に、ダイヤモンド切削加工によシ、３μｍピッチで３μ
ｍ深さのスノぐイラル状の規則的な微小溝２を形成する
。次いで、この微小溝２からなる凹凸面を形成したドラ
ム１上に、真空蒸着により、５０μｍのＳｃ層を形成し
、更にそのＳｅ層上に、同じく蒸着により０．５μｍの
Ｓｅ・Ｔｅ合金層を形成して光導電層３とした。なお、
上記光導電層中、Ｓｅ層は電荷輸送層、Ｓｃ＊Ｔｅ合金
層は電荷発生層としてそれぞれ機能さぜるものである。
このようにして形成した光導電層３の表面には、第３図
に示すように、針状の多数の突起３′が形成されている
のが認められた。そこで、本発明においては、第４図に
示すように、回転ファーブラシ６により、光導電層３の
表面の平滑化処理を行ない、その後、光導電層３上に２
５μｍのポリエチレンテレフタレートなどから透明絶縁
層４を形成して、電子写真感光体を得た。
に示すように、針状の多数の突起３′が形成されている
のが認められた。そこで、本発明においては、第４図に
示すように、回転ファーブラシ６により、光導電層３の
表面の平滑化処理を行ない、その後、光導電層３上に２
５μｍのポリエチレンテレフタレートなどから透明絶縁
層４を形成して、電子写真感光体を得た。
このようにして得られた電子写真感光体に、−次帯電、
二次帯電同時光像露光、全面光照射からなる作像プロセ
スで静電ａ（’Ｊを形成し、コントラスト電位を測定し
たところ、先に提案したサンドペーパにより粗面を形成
したものと同等の高コントラスト電位が得られた。更に
、局部的な画像や乱れが生ぜず餌明な画像が得られた。
二次帯電同時光像露光、全面光照射からなる作像プロセ
スで静電ａ（’Ｊを形成し、コントラスト電位を測定し
たところ、先に提案したサンドペーパにより粗面を形成
したものと同等の高コントラスト電位が得られた。更に
、局部的な画像や乱れが生ぜず餌明な画像が得られた。
上記実施例では、光電層３はＳｅ層と５ｅ−Ｔｅ合金層
とで構成した２層構造のものを示したが、本発明はこれ
に限らず、Ｓｅを主成分とする単層構造で光導電層を形
成することもてき、その場合も同等の効果が得られた。
とで構成した２層構造のものを示したが、本発明はこれ
に限らず、Ｓｅを主成分とする単層構造で光導電層を形
成することもてき、その場合も同等の効果が得られた。
また、上記実施例では、導電性支持体としてドラム状の
ものを用いたものを示したが、これに限らず、本発明は
平板状の支持体に対しても適用できる。
ものを用いたものを示したが、これに限らず、本発明は
平板状の支持体に対しても適用できる。
なお、上記実施例のように、ドラム状の導電性支持体を
用いる場合は、光導電層を被着形成する前に、通常前処
理として、ドラムのうねり等を除いたり、所定の径に加
工するために、旋盤などの工作機械を用いて、ダイヤモ
ンド切削加工を施すが、本発明のように、規則的な微小
溝を形成する場合、同じ旋盤を用いて、ダイヤモンド切
削加工によシ微小溝を形成することができ、したがって
、他の加工装置を用いることなく、連続して微小溝形成
加工ができるので、極めて能率的に加工作業を行なうこ
とができる。
用いる場合は、光導電層を被着形成する前に、通常前処
理として、ドラムのうねり等を除いたり、所定の径に加
工するために、旋盤などの工作機械を用いて、ダイヤモ
ンド切削加工を施すが、本発明のように、規則的な微小
溝を形成する場合、同じ旋盤を用いて、ダイヤモンド切
削加工によシ微小溝を形成することができ、したがって
、他の加工装置を用いることなく、連続して微小溝形成
加工ができるので、極めて能率的に加工作業を行なうこ
とができる。
また、上記実施例では、導電性支持体上に形成した光導
電層の表面の針状突起を、回転ファーブラシを用いて除
去し、平滑化するものを示したが、他の平滑化手段とし
ては、第５図に示すように、圧縮気体又は液体をノズル
７から光導電層３を被着したドラム部材５表面に噴射さ
せることにより、針状突起を除去し平滑させる手段や、
１だ、第６図に示すように、ブレード８をドラム部拐５
の表面に圧接して、針状突起を除去するようにした手段
を用いることができる。
電層の表面の針状突起を、回転ファーブラシを用いて除
去し、平滑化するものを示したが、他の平滑化手段とし
ては、第５図に示すように、圧縮気体又は液体をノズル
７から光導電層３を被着したドラム部材５表面に噴射さ
せることにより、針状突起を除去し平滑させる手段や、
１だ、第６図に示すように、ブレード８をドラム部拐５
の表面に圧接して、針状突起を除去するようにした手段
を用いることができる。
更に、他の平滑化手段としては、プラズマ放電を利用し
たものを用いることができる。これは、第７図に示すよ
うに、真空容器９中に、光導電層３を被着したドラム部
材５を回転するように設置し、このドラム部材５０表面
に対向して放電電極１０を配置して、この放電電極１０
とドラム部拐５間に高周波電源１１を接続し、ガスボン
ベ１２よりカスを導入して、放電電極１０とドラム部材
５間に放電によるプラズマを発生させ、針状突起を除去
し平滑化するものである。すなわち、ドラム部材５の針
状突起部分に電界が集中し、選択的にプラズマイオン等
によるスパッタリングが行われるため、光導’１ｆ、１
表面のｆｆ１ｌ状突起部分が除去されるものである。
たものを用いることができる。これは、第７図に示すよ
うに、真空容器９中に、光導電層３を被着したドラム部
材５を回転するように設置し、このドラム部材５０表面
に対向して放電電極１０を配置して、この放電電極１０
とドラム部拐５間に高周波電源１１を接続し、ガスボン
ベ１２よりカスを導入して、放電電極１０とドラム部材
５間に放電によるプラズマを発生させ、針状突起を除去
し平滑化するものである。すなわち、ドラム部材５の針
状突起部分に電界が集中し、選択的にプラズマイオン等
によるスパッタリングが行われるため、光導’１ｆ、１
表面のｆｆ１ｌ状突起部分が除去されるものである。
本発明のように、光導電層上に透明絶縁層を設けるよう
な場合−乙その厚さを１０μｍ以上とするときには、合
成樹脂等の有機材料を用いることが多いが、このような
場合には、光導電層蒸着面の表面改質や、接着力増加の
ために、プラズマを生成するだめの導入カスとしては、
ＡｒやＮ２でも十分であるが、Ｃｌ−１４、Ｃ２Ｉ−１
ａのような炭化水素系のカスが好適である。
な場合−乙その厚さを１０μｍ以上とするときには、合
成樹脂等の有機材料を用いることが多いが、このような
場合には、光導電層蒸着面の表面改質や、接着力増加の
ために、プラズマを生成するだめの導入カスとしては、
ＡｒやＮ２でも十分であるが、Ｃｌ−１４、Ｃ２Ｉ−１
ａのような炭化水素系のカスが好適である。
本発明は、導電性支持体の表面に規則的な微小溝を形成
して、その上に光導電層と透明絶縁層を順次積層して電
子写真感光体を構成したので、導電性支持体からの電荷
注入性が優れ、高コントラスト電位が得られるばかりで
なく、微小溝が導電性支持体表面に均一に形成され、部
分的な劣化が生ぜず特性の安定した電子写真感光体が得
られる。
して、その上に光導電層と透明絶縁層を順次積層して電
子写真感光体を構成したので、導電性支持体からの電荷
注入性が優れ、高コントラスト電位が得られるばかりで
なく、微小溝が導電性支持体表面に均一に形成され、部
分的な劣化が生ぜず特性の安定した電子写真感光体が得
られる。
また、規則的な微小溝で表面凹凸が形成されるものであ
るから、表面の加工度を容易に設定することができ、最
適な凹凸を表面に形成することができる。
るから、表面の加工度を容易に設定することができ、最
適な凹凸を表面に形成することができる。
捷だ、光導電層上に平滑化処理が併用されると、斑点等
、極部的な画像の乱れが生ずることが在くなり、鮮明な
複写画像が得られる。
、極部的な画像の乱れが生ずることが在くなり、鮮明な
複写画像が得られる。
第１図は、本発明に係る電子写真感光体の一実施例を模
式的に示した断面図、第２図は、導電性支持体にスパイ
ラル状微小溝を形成する態様を示す図、第３図は、規則
的な微小溝を形成した導電性支持体に光導電層を蒸着し
た態様を示す断面図、第４図〜第７図は、光導電層表面
を平滑化する態様を示す概略図である。 図において、１は導電性支持体、２は微小溝、３は光導
電層、３′は針状突起、４は透明絶縁層、６はファーブ
ラシ、７はノズル、８はブレード、１０は放電電極、１
１は高周波電源、１２はカスボンベを示す。 特許出願人 オリンパス光学工業株式会社第１図 第５冒 第６閏 第２１￥Ｉ 第４Ｊ 第７図 ■ −
式的に示した断面図、第２図は、導電性支持体にスパイ
ラル状微小溝を形成する態様を示す図、第３図は、規則
的な微小溝を形成した導電性支持体に光導電層を蒸着し
た態様を示す断面図、第４図〜第７図は、光導電層表面
を平滑化する態様を示す概略図である。 図において、１は導電性支持体、２は微小溝、３は光導
電層、３′は針状突起、４は透明絶縁層、６はファーブ
ラシ、７はノズル、８はブレード、１０は放電電極、１
１は高周波電源、１２はカスボンベを示す。 特許出願人 オリンパス光学工業株式会社第１図 第５冒 第６閏 第２１￥Ｉ 第４Ｊ 第７図 ■ −
Claims (9)
- （１）導電性支持体上に光導電層と、透明絶縁層とを順
次積層してなる電子写真感光体において、前記導電性支
持体の表面に規則的な微小溝を形成し、その上に光導電
層を積層したことを特徴とする電子写真感光体。 - （２）前記規則的な微小溝は、スパイラル状の微小溝で
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の電子
写真感光体。 - （３） 導電性支持体表面上に切削加工により規則的な
微小溝を形成したのち、蒸着により光導電層を形成し、
次いで透明絶縁層を形成することを特徴とする電子写真
感光体の製造法。 - （４）導電性支持体表面上に切削加工により規則的な微
小溝を形成したのち、蒸着により光導′成層を形成し、
次いで表面平滑化手段により前記光導電層の表面を平滑
化し、しかるのち透明絶縁層を形成することを特徴とす
る電子写真感光体の製造法。 - （５）前記規則的微小７１１４は、ダイヤモンド切削加
工により形成することを特徴とする特許請求の範囲第３
項又は第４項記載の電子写真感光体の製造法。 - （６） 前記表面平滑化手段は、圧縮気体又は液体噴射
手段であることを特徴とする特許請求の範囲第１１項記
載の電子写真感光体の製造法。 - （７）前記平面平滑化手段は、回転ファーブラシである
ことを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の電子写真
感光体の製造法。 - （８）前記表面平滑化手段は、抑圧ブレードであること
を特徴とする特許 電子写真感光体の製造法。 - （９）前記表面平滑化手段は、プラズマ放電による平滑
化手段であることを特徴とする特許請求の範囲第４項記
載の電子写真感光体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20911383A JPS60101545A (ja) | 1983-11-09 | 1983-11-09 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20911383A JPS60101545A (ja) | 1983-11-09 | 1983-11-09 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60101545A true JPS60101545A (ja) | 1985-06-05 |
Family
ID=16567498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20911383A Pending JPS60101545A (ja) | 1983-11-09 | 1983-11-09 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60101545A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60225854A (ja) * | 1984-04-24 | 1985-11-11 | Canon Inc | 光受容部材用の支持体及び光受容部材 |
| JPS63101947U (ja) * | 1986-12-22 | 1988-07-02 | ||
| JPH01260456A (ja) * | 1988-04-12 | 1989-10-17 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| WO2004079455A1 (ja) * | 2003-03-04 | 2004-09-16 | Mitsubishi Chemical Corporation | 電子写真感光体用基体、該基体の製造方法および該基体を用いた電子写真感光体 |
-
1983
- 1983-11-09 JP JP20911383A patent/JPS60101545A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60225854A (ja) * | 1984-04-24 | 1985-11-11 | Canon Inc | 光受容部材用の支持体及び光受容部材 |
| JPH0364062B2 (ja) * | 1984-04-24 | 1991-10-03 | Canon Kk | |
| JPS63101947U (ja) * | 1986-12-22 | 1988-07-02 | ||
| JPH01260456A (ja) * | 1988-04-12 | 1989-10-17 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| WO2004079455A1 (ja) * | 2003-03-04 | 2004-09-16 | Mitsubishi Chemical Corporation | 電子写真感光体用基体、該基体の製造方法および該基体を用いた電子写真感光体 |
| US7358018B2 (en) | 2003-03-04 | 2008-04-15 | Mitsubishi Chemical Corporation | Substrate for electrophotographic photoreceptor, process for producing the substrate, and electrophotographic photoreceptor employing the substrate |
| CN100442146C (zh) * | 2003-03-04 | 2008-12-10 | 三菱化学株式会社 | 用于电子照相光感受器的基底、其生产方法及使用其的电子照相光感受器 |
| US7601476B2 (en) | 2003-03-04 | 2009-10-13 | Mitsubishi Chemical Corporation | Substrate for electrophotographic photoreceptor, process for producing the substrate, and electrophotographic photoreceptor employing the substrate |
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