JPS5994221A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS5994221A JPS5994221A JP20288482A JP20288482A JPS5994221A JP S5994221 A JPS5994221 A JP S5994221A JP 20288482 A JP20288482 A JP 20288482A JP 20288482 A JP20288482 A JP 20288482A JP S5994221 A JPS5994221 A JP S5994221A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- layer
- recording medium
- substrate
- flux density
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3143—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding
- G11B5/3146—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding magnetic layers
- G11B5/3153—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding magnetic layers including at least one magnetic thin film coupled by interfacing to the basic magnetic thin film structure
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は磁気記録装置などに用いる薄膜磁気ヘッドに関
する。
する。
（従来例の構成とその問題点）
第１図に従来の巻線型薄膜磁気ヘッドの断面の一例を示
す。このような磁気ヘッドでは非磁性体を充填した溝１
を有する強磁性体基板２上に導電性のよい金属を蒸着、
電着、スパッター等の方法を用いて付着はせて導電層を
形成し、フォトエツチング技術を用いてエツチングする
ことにより必要なパターンを形成し、導体層３，４を作
る。また絶縁体層５を介して導体層３，４の一部を覆う
ようにパーマロイ等の上部磁性層６を蒸着、電着、スパ
ッター等の方法及びフォトエツチング技術を用いて形成
する。その後保護層７がつづく。
す。このような磁気ヘッドでは非磁性体を充填した溝１
を有する強磁性体基板２上に導電性のよい金属を蒸着、
電着、スパッター等の方法を用いて付着はせて導電層を
形成し、フォトエツチング技術を用いてエツチングする
ことにより必要なパターンを形成し、導体層３，４を作
る。また絶縁体層５を介して導体層３，４の一部を覆う
ようにパーマロイ等の上部磁性層６を蒸着、電着、スパ
ッター等の方法及びフォトエツチング技術を用いて形成
する。その後保護層７がつづく。
第１図のような構造において、フェライトを中心とする
磁性基板ではその磁束密度Ｂが３５００ないし４０００
ガウスであり、８ｏｏＯガウス以上であるパーマロイ等
の上部磁性層６に比べて大きな差がある。従ってギャッ
プ付近でフェライトの磁束が飽和したのち、ポールピー
ス部先端に生じる反磁界のため第２図のように、このポ
ールピース部先端付近の磁界強度に限界が生じ、この部
分に当接する磁気記録媒体（例えばＨｅ ｚ ６５００
ｅ ）を十分磁化させるためには不都合となり、特に、
抗磁力の大きな磁気記録媒体（例えばＨｅ ｚ １００
００ｅ ）に対しては実際上、記録磁化させることがで
きなくなるという問題点があった。
磁性基板ではその磁束密度Ｂが３５００ないし４０００
ガウスであり、８ｏｏＯガウス以上であるパーマロイ等
の上部磁性層６に比べて大きな差がある。従ってギャッ
プ付近でフェライトの磁束が飽和したのち、ポールピー
ス部先端に生じる反磁界のため第２図のように、このポ
ールピース部先端付近の磁界強度に限界が生じ、この部
分に当接する磁気記録媒体（例えばＨｅ ｚ ６５００
ｅ ）を十分磁化させるためには不都合となり、特に、
抗磁力の大きな磁気記録媒体（例えばＨｅ ｚ １００
００ｅ ）に対しては実際上、記録磁化させることがで
きなくなるという問題点があった。
（発明の目的）
本発明は、磁気記録ヘッドとしての記録効率がよく低電
力で良好な記録特性を得ることができるだけでなく、媒
体と接するポールピース部先端に高磁束材料を用いるこ
とによって、ギャップ近傍に生じる磁界強度を大きくす
ることができ、より大きな抗磁力をもつ記録媒体をも記
録磁化させることを可能とし、また適当な高磁束材料を
選ぶことによって記録媒体との接触摺動による摩耗及び
チッピング等が少ない薄膜磁気ヘッドを提供することを
目的とする。
力で良好な記録特性を得ることができるだけでなく、媒
体と接するポールピース部先端に高磁束材料を用いるこ
とによって、ギャップ近傍に生じる磁界強度を大きくす
ることができ、より大きな抗磁力をもつ記録媒体をも記
録磁化させることを可能とし、また適当な高磁束材料を
選ぶことによって記録媒体との接触摺動による摩耗及び
チッピング等が少ない薄膜磁気ヘッドを提供することを
目的とする。
（発明の構成）
本発明の薄膜磁気ヘッドは、溝内に非磁性体が充填され
ている磁性基板上にギャップ長となる厚みをもつ第一の
非磁性絶縁層、巻線部と々る導体層、第二の非磁性絶縁
層、上部磁性層を順次形成して々す、かつ、前記磁性基
板上に少なくとも磁気記録媒体との当接面からギャップ
深さに相当する部分にその磁性基板より高磁束密度であ
るアモルファス材料からなる磁性層を設けたことを特徴
としている。
ている磁性基板上にギャップ長となる厚みをもつ第一の
非磁性絶縁層、巻線部と々る導体層、第二の非磁性絶縁
層、上部磁性層を順次形成して々す、かつ、前記磁性基
板上に少なくとも磁気記録媒体との当接面からギャップ
深さに相当する部分にその磁性基板より高磁束密度であ
るアモルファス材料からなる磁性層を設けたことを特徴
としている。
（実施例の説明）
本発明による薄膜磁気ヘッドの実施例の断面構造を第３
図に示す。
図に示す。
非磁性体を充填した溝８を有するフェライトを中心とす
る磁性基板９上に少なくとも磁気記録媒体と当接するポ
ールピース部先端からギャップ深さに相当する部分に基
板のフェライト材料よりも高磁束密度をもつアモルファ
ス材料からなる磁性層１０を設け、第１図と同様に導電
層１１，１２、非磁性絶縁層１３、上部磁性層１４を積
層した膜構造をもつ。なお１５は保護膜である。
る磁性基板９上に少なくとも磁気記録媒体と当接するポ
ールピース部先端からギャップ深さに相当する部分に基
板のフェライト材料よりも高磁束密度をもつアモルファ
ス材料からなる磁性層１０を設け、第１図と同様に導電
層１１，１２、非磁性絶縁層１３、上部磁性層１４を積
層した膜構造をもつ。なお１５は保護膜である。
磁性層１０に、高磁束密度のアモルファス磁性膜を用い
ることによって、上述したようにポールピース先端部付
近の磁界強度がより犬きくとることができるように改善
きれ、この部分に当接する磁気記録媒体の抗磁力がより
大きなものであっても十分磁化することができるように
なる。
ることによって、上述したようにポールピース先端部付
近の磁界強度がより犬きくとることができるように改善
きれ、この部分に当接する磁気記録媒体の抗磁力がより
大きなものであっても十分磁化することができるように
なる。
しかも、この部分に耐摩耗性のよいアモルファス膜を用
いることによって、磁気記録媒体との摺動による摩耗及
びチッピングをも防ぐことができる。
いることによって、磁気記録媒体との摺動による摩耗及
びチッピングをも防ぐことができる。
さらに一般的にアモルファス磁性膜は耐蝕性に優れたも
のが多いため、媒体と当接するギャップに露出している
該磁性層の腐蝕によるヘッドの特性劣化に対しても好ま
しい。アモルファス膜としては、例えばＣｏ−Ｆｅ−Ｎ
１）膜を用いることができる。
のが多いため、媒体と当接するギャップに露出している
該磁性層の腐蝕によるヘッドの特性劣化に対しても好ま
しい。アモルファス膜としては、例えばＣｏ−Ｆｅ−Ｎ
１）膜を用いることができる。
このように新だな磁性層１０を新設することによって、
ギャップ付近における磁束の飽和が改善され、ポールピ
ース部先端付近の磁界強度をより大きくとるととｆ／ｉ
でき、この部分に当接する磁気記録媒体の記録磁化が容
易になった。
ギャップ付近における磁束の飽和が改善され、ポールピ
ース部先端付近の磁界強度をより大きくとるととｆ／ｉ
でき、この部分に当接する磁気記録媒体の記録磁化が容
易になった。
このよう表アモルファス材料は、上部磁性層１４を構成
しても構わないが、形成法としてはリフトオフ法などに
よる加工法が適している。特に磁性層１０を形成する場
合、膜形成後、ケミカルエツチングなどでパターニング
する方法では、溝８に充填されたガラス等の非磁性体を
蝕刻させたり、５− 表面に損傷を与え凹凸を生ぜしめたりなどの不都合が生
じやすく、エツチング液の選択にがなりの制限が生じる
。一方、リフトオフ法は、膜形成時、基板冷却をしてお
いた方が、レジストが傷まず、そのレジスト上の膜が除
去され、レジストがない部分のパターンとして膜形成が
可能となる。このことは同時にアモルファス膜の形成に
とって必要な条件と同一であり（即ち、基板冷却が不充
分だとアモルファス化しない。）、極めて好ましい。
しても構わないが、形成法としてはリフトオフ法などに
よる加工法が適している。特に磁性層１０を形成する場
合、膜形成後、ケミカルエツチングなどでパターニング
する方法では、溝８に充填されたガラス等の非磁性体を
蝕刻させたり、５− 表面に損傷を与え凹凸を生ぜしめたりなどの不都合が生
じやすく、エツチング液の選択にがなりの制限が生じる
。一方、リフトオフ法は、膜形成時、基板冷却をしてお
いた方が、レジストが傷まず、そのレジスト上の膜が除
去され、レジストがない部分のパターンとして膜形成が
可能となる。このことは同時にアモルファス膜の形成に
とって必要な条件と同一であり（即ち、基板冷却が不充
分だとアモルファス化しない。）、極めて好ましい。
従って、磁性層１０、あるいは１４として他の材料、例
えば１．Ｎｉ−Ｆｅ合金、センダスト合金々ども考えら
れ々いことはないが、これらは結晶質であり良・ 好な
磁気特性を得るには、成膜時などに、ある程度高温であ
ることが必要で、上述した加工法をして好ましいリフト
オフ法が使いにくい欠点がある。
えば１．Ｎｉ−Ｆｅ合金、センダスト合金々ども考えら
れ々いことはないが、これらは結晶質であり良・ 好な
磁気特性を得るには、成膜時などに、ある程度高温であ
ることが必要で、上述した加工法をして好ましいリフト
オフ法が使いにくい欠点がある。
これ等の結果、抗磁力の大きな記録媒体も記録磁化でき
ることが確められ、低電力で書込み可能な効率のよい記
録ヘッドが実現出来だ。
ることが確められ、低電力で書込み可能な効率のよい記
録ヘッドが実現出来だ。
（発明の効果）
以上の説明から明らかなように、磁性基板上に−・６−
少くとも磁気記録媒体との当接面からギャップ深さに相
当する部分に、その磁性基板より高磁束密度であるアモ
ルファス材料からなる磁性層を設けることによって、ギ
ャップ近傍に生じる磁界密度を大きくすることができ、
より大きな抗磁力をもつ記録媒体をも記録磁化きせるこ
とを可能とするとともに、記録媒体との接触摺動による
摩耗およびチッピング等が少なくなる。そして、本発明
は磁気記録ヘッドとしての記録効率がよく低電力で良好
な記録特性を得ることができる。
当する部分に、その磁性基板より高磁束密度であるアモ
ルファス材料からなる磁性層を設けることによって、ギ
ャップ近傍に生じる磁界密度を大きくすることができ、
より大きな抗磁力をもつ記録媒体をも記録磁化きせるこ
とを可能とするとともに、記録媒体との接触摺動による
摩耗およびチッピング等が少なくなる。そして、本発明
は磁気記録ヘッドとしての記録効率がよく低電力で良好
な記録特性を得ることができる。
第１図は、従来の巻線型記録ヘッドの膜構造を示す図、
第２図は、ポールピース部先端に発生する磁極と磁界へ
の影響を示す模式図、第３図は、本発明による記録ヘッ
ドの膜構造を示す図である。 ８ ・・・・・・・非磁性体を充填した溝、 ９ ・・
・・・・・・・磁性基板、１０・・・・・・・・・アモ
ルファスからなる磁性層、１１．１２・・・・・・・・
・導電層、 １３・・・・・・・・・非磁性絶縁層、１
４・・・・・・・・・上部磁性層、 １５・・・・・・
・・・保護膜。 ７− 第１図 第２図 第３図
第２図は、ポールピース部先端に発生する磁極と磁界へ
の影響を示す模式図、第３図は、本発明による記録ヘッ
ドの膜構造を示す図である。 ８ ・・・・・・・非磁性体を充填した溝、 ９ ・・
・・・・・・・磁性基板、１０・・・・・・・・・アモ
ルファスからなる磁性層、１１．１２・・・・・・・・
・導電層、 １３・・・・・・・・・非磁性絶縁層、１
４・・・・・・・・・上部磁性層、 １５・・・・・・
・・・保護膜。 ７− 第１図 第２図 第３図
Claims (1)
- 溝内に非磁性体が充填きれている磁性基板上にギャップ
長となる厚みをもつ第一の非磁性絶縁層、巻線部となる
導体層、第二の非磁性絶縁層、上部磁性層を順次形成し
てなる薄膜磁気ヘッドであって、該磁性基板上に少なく
とも磁気記録媒体との当接面からギャップ深さに相当す
る部分に該磁性基板より高磁束密度であるアモルファス
材料カラなる磁性層を設けたことを特徴とする薄膜磁気
ヘッド０
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20288482A JPS5994221A (ja) | 1982-11-20 | 1982-11-20 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20288482A JPS5994221A (ja) | 1982-11-20 | 1982-11-20 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5994221A true JPS5994221A (ja) | 1984-05-30 |
Family
ID=16464794
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20288482A Pending JPS5994221A (ja) | 1982-11-20 | 1982-11-20 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5994221A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07176014A (ja) * | 1991-05-02 | 1995-07-14 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 改良磁極端を有する磁気ヘッド及びその制作方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5593519A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
| JPS55150116A (en) * | 1979-05-14 | 1980-11-21 | Fujitsu Ltd | Magnetic head |
-
1982
- 1982-11-20 JP JP20288482A patent/JPS5994221A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5593519A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
| JPS55150116A (en) * | 1979-05-14 | 1980-11-21 | Fujitsu Ltd | Magnetic head |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07176014A (ja) * | 1991-05-02 | 1995-07-14 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 改良磁極端を有する磁気ヘッド及びその制作方法 |
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