JPS5992945A - ガラス製品の磨き上げ方法 - Google Patents
ガラス製品の磨き上げ方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
本発明は、硫酸とフッ化水素酸とを含む磨き上げ浴(p
olishing bath )においてガラス製品を
磨き上げ、最終的に磨き上げられた該製品を硫酸および
/または水で洗浄する方法に関するものである0 ガラス製品(押形ガラスおよびすりガラス製品l)を、
硫酸とフッ化水素酸とを含む磨き上げ浴を用l/)で化
学的方法により磨き上げることは既に知られている。こ
の方法では、酸による磨き上げ中
olishing bath )においてガラス製品を
磨き上げ、最終的に磨き上げられた該製品を硫酸および
/または水で洗浄する方法に関するものである0 ガラス製品(押形ガラスおよびすりガラス製品l)を、
硫酸とフッ化水素酸とを含む磨き上げ浴を用l/)で化
学的方法により磨き上げることは既に知られている。こ
の方法では、酸による磨き上げ中
【こ起こる該製品表面
のガラス成分との反応のため、力)かる表面上に反応生
成物の堅固な固着層が形成さ、れる。一般に、この反応
生成物はガラス中に含まれる陽イオンとの硫酸塩、フッ
化物およびフルオロケイ酸塩である。この反応生成物の
層により、磨き上げ処理、即ちガラス表面上における磨
き上げ用の酸の作用が反応が完全に停止するまで阻止さ
れる。従来、磨き上げ処理の反応生成物により形成され
た層を、磨き上げ処理が継続され得るように除去するこ
とが常に要求された。このため、磨き上げ処理を中断し
反応生成物による被膜を洗い流し、かかる操作を所望磨
き上げ度が達成されるまで何回も繰り返し行なった。更
に以前においては、水を用いて磨き上げによる付着層を
洗い流したが、この方法は磨き上げ処理と洗浄とを交互
に行うため多世の水が磨き上げ浴に導入され希釈される
故に大きな欠点を有した。また一方では酸性洗液を生じ
、該酸性洗液により不当に酸が消費されるだけでなく、
かかる洗液を川に排出する前に綿密な方法で中和しなけ
ればならないため、重大なる問題が生じた。 西独国特許第2949383号明細書には、溶、存ナト
リウムイオンおよび/またはカルシウムイオンが連続的
にまたは回分式にあるいは不連続的に磨き上げ用の酸か
ら除去され、これにより一回の浸漬による磨き上げ時間
が著しく延長され、換言すれば磨き上げ浴と洗浄浴との
処理を交互に行なう処理(以下交互処理という)が数回
に抑えられ、あるいは1回の磨き上げおよび洗浄工程に
おいて所望仕上げが達成される旨記載されている。 この従来技m&こおいて、ナトリウムイオンおよび/ま
たはカルシウムイオンを磨き上げ浴から取り除くには、
フルオロケイ酸を添加して対応下るフルオロケイ酸塩を
沈殿させ、ついでかかるフルオロケイ酸塩を例えば−適
法または遠心法により磨き上げ浴から取り除くことが行
なわれた。フルオロケイ酸の他に、リン酸および/また
は酢酸並びに随意にマロン酸、シュウ酸または酒石酸が
磨き上げ浴に導入され、沈殿が促進された。従来技術に
おいて、アルカリイオンを磨き上げ浴から除去する他の
可能性として水銀式電解槽または陽イオン半透膜を有す
る電解槽による電解法がある。こ、の方法ではアルカリ
イオンが磨き上げ浴から抽出される。また、アルカリイ
オンを磨き上げ浴から取り除く可能性として陽イオン交
換剤の使用もある。 更に以前の西独国公開特許第3128908号明細書に
記載の方法においては、極めて低濃度のフッ化水素酸、
即ちく]%HF 、特に0.5〜0.8%のIFを硫酸
とは別に磨き上げ浴に添加してフッ化水素酸の解離度を
可能な限り高く維持させた。 フッ化水素酸、硫酸(30%濃度)、水および未知濃度
の小量の発煙硫酸とから調整された磨き上げ浴に約0.
7り/lのP2O5を「制御剤」として添加することは
1980年来、米国特許第177732]号明細書にて
知られていることである。 また、西独国特許第1189681号明細書には、55
〜67%濃度の硫酸および5〜7%濃度のフッ化水素酸
を有する磨き上げ浴が55〜70°Cの温度で使用され
、また該浴に重金属塩または強酸化力を有する過マンカ
ン酸カリウムまたは酸化クロムを投入してガラス表面上
に形成される地付着層の状態に影響を及ばしめることが
記載されている。 磨き上げすべきガラス製品に、磨き上げ浴と洗浄浴との
交互処理を施すことが数回要求されること以外に、フッ
化水素酸および硫酸の消費量もガラス製品の経済的磨き
上げ法に対し極めて重要なことである。酸の消費量、特
にフッ化水素酸の消費量は磨き上げ浴の組成に左右され
、か力)る消費量はガラス製品の】バッチ当りの磨き上
げ時間Gこ影響を及ぼし、あるいは磨き上げ浴を新しく
するかまたは再生することがない場合Gこは磨き上番プ
すべきバッチの数に影響を及ぼす。ガラス表面上に高濃
縮度で析出する塩の密度により、磨き上番ず処理に欠く
ことのできない暦き上げ浴の磨き上しず73’<度は該
浴中の硫酸イオンおよびフッ化物イオンの濃度と逆比例
の関係となる。 本発明の目的は硫屯とフッ化水素酸とを含む磨き上げ浴
において高層き上げ速度で、即ち比較的短い磨き上げ時
間でガラス製置を磨き上番ず、最終的に磨き上げられた
該製品を硫酸および/また〔ま、水を用いて洗浄し、一
方では磨き上げ浴の使用能力を延長する方法を提供する
ことにある。本発明の他の目的は、この磨き上げ浴を特
別なる洗浄手設を用いることなくあるい゛は8時間交換
法Gこおいてその間少なくとも一部分を新しいものとす
ることなく使用することができ、同時に該層き上げ浴の
効率および磨き上げ量がすべての必要条件に合致するよ
うにかかる磨き上げ浴を改善することにある。 本発明において上記第]の目的は、強い酸化力を有しな
いがフッ化水素酸よりも強くまた硫酸の第2解離段階よ
りも随意に強い酸の]椋またはそれ以上を磨き上げ浴に
添加することによりフッ化水素酸および硫酸の解離を抑
制し、これにより磨き上げ洛中のフッ化物イオンおよび
随意に硫酸イオンの濃度が低く維持されることによって
達成される。特に、荒切りガラス製品を磨き上げる場合
にはフッ化物イオンの濃度を可能な限り低く維持するこ
とが不可欠である。この柚のガラス製品を1回の浸漬で
所望磨き上げ度まで磨き上げるためにはフッ化物イオン
の濃度を特に低く維持して、磨き上げ反応中に形成され
る付着層が堅固に付着されないように該付着層なガラス
製品の表面上において微細形態で且つ付着能力が小さい
状態で発生させるようにしなければならない。 本発明におけるかかる酸の添加に用いる酸はフッ化水素
酸よりも強く、好ましくは硫酸の第2解離段階よりも高
い解離定数をも有し、このような酸の添加は西独国特許
第2949383号明細書におけるフルオロケイ酸ナト
リウムおよび、/またはフロオロケイ酸カルシウムの沈
殿のためのフルオロケイ酸の添加とは厳蜜に言えば異な
るものである。かかる西独−特許のねらいは酸の添加に
より磨き上げ浴からアルカリイオンを除去することにあ
るが、本発明においては磨き上げ浴に含まれるフッ化水
素酸および硫酸の解離°を、低いso4”−濃度、特に
F−濃度故に必然的に高層さ上げ速度相応じて短い磨き
上げ時間、または最低限の磨き上げ浴と洗浄浴との交互
処理の回数となる稈度まで抑制するごとにある。 添加する酸が上記条件、即ちフッ化水素酸よりも強い酸
であるという条件を満足している上で、本発明の目的達
成に適する酸には、リン酸、モノカルボン酸、例えば酢
酸、ジカルボン酸、例えばシュウ酸、マロン酸またはフ
タル酸、オキシカルボン酸、例えば酒石酸またはクエン
酸がある。フッ化水素酸はこの場合適さない。この理由
は、浴において連続的に新しい生成物が生じ浴から(S
iF4として)温度依存の形態で蒸発するため、一般的
な処理条件下ではフッ化水素酸の濃度を調節することが
できないからである。強い酸化力を有する酸、例えばク
ロム酸はこの強い酸化作用のため適当ではない。 今までフッ化水素の解離、従って磨き上げ浴中のフッ化
物イオンの濃度は、硫酸の濃度および浴の温度によって
のみ調節することができた。かかる方法の欠点は、申し
分のない磨き上げの結果を得ようとする場合には硫酸イ
オンの濃度がフン化物イオンの濃度と一定の比例関係に
なけねばならないことである。従って、従来ダイヤモン
ド研胛用ソーダガラスを研磨する場合には8来る限り高
い濃度の硫酸で研磨することが必要とされたので、かか
る荒切りガラスを多くのバッチ交互処理を伴う一様のプ
ログラムで磨き上げようとする場合に限りフッ化水素酸
の解離、即ち磨き上げ浴中の17フ化物の濃度が低下し
た。 フッ化水素酸よりも強い酸を磨き上げ浴に添加すること
を包含する本発明の方法において初めて、硫@濃度とは
無関係にフッ化物イオン濃度を、磨き上げ反応中に生ず
る塩が以下に示す如き組成状態およびガラス製品の表面
への付着能力を有するようになるような値まで低下させ
ることができた。 かかる塩の組成、状態およびガラス製品の表面への付着
能力とは、磨き上げ処理を長時間に亘り阻止されること
なく行なうことができ、特に所望磨き上げ度がガラス製
品を本発明に係る磨き上げ浴へ1回浸漬することによっ
て達成されるような組成、状態およびガラス製品の表面
への付着能力をいう。 本発明の方法の他の利点は、概して磨き上げ法がガラス
の陽イオン成分(アルカリ全屈、アルカリ土類金属)に
無関係となることである。この理由は、かかる陽イオン
成分がフッ化水素酸の解離、従って磨き上げ浴中のフッ
化物イオンの濃度に影響を及ぼし、硫酸の濃度とは勲関
係であることによる。処理すべきガラスがカルシウムを
含む場合には、シュウ酸を磨き上げ浴に添加することは
ない。この理由はシュウ酸カルシウムが不溶性であり沈
殿するからである。しかし、種々の他の有用なる酸を上
記の如く本発明の方法に使用することができる。シュウ
酸と同様に、酒石酸はガラスがカリウムを含む場合に難
溶性酒石酸カリウムを生成、し得るため避けるべきであ
る。 上述の如く、本発明の方法における酸の適用の前提条件
はかかる酸がフッ化水素酸よりも強く、即ちフッ化水素
酸よりも高い解離定数を有することである。また、かか
る酸は少なくとも硫酸の第1および第2解離段階の間に
ある解離定数を有するのが好都合である。尚、このこと
は上記酸の殆どにあてはまる。しかしシュウ酸は硫酸の
第2段階の解離定数よりも遥かに高い解離定数を有する
ので、シュウ酸により磨き上げ洛中の硫酸イオンの濃度
も低下させることができる。他の酸、即ち硫酸の第]お
よび第2解離段階の間にある解離定数を有する酸を用い
た場合、硫酸イオンの濃度は硫酸の濃度および磨き上げ
浴の温度によってのみ影響され得る。磨き上げ浴の温度
を高くするにつれ硫酸の解離は大きくなる。従って高過
ぎる浴温は回避すべきである。本方法は室温でも用いる
ことができるが、一層長い磨き上げ時間を要する。 硫酸とフッ化水素酸とを含む磨き上げ浴への酸の添加量
は、ある程度まで硫酸およびフッ化水素酸の各濃度に左
右される。1〜209/lの酸の添加は40〜65重量
%のH,So、と]、5〜】2重量%のHFとを含む磨
き上げ浴に一般に適している。45〜60重N%のH2
SO,と1.5〜61目のHFとを含む磨き上げ浴にお
いては1〜]]り/lの酸を添加すべきである。 既に述べてきた利点に加え、本発明の方法は、著しく何
回もの交互処理を要する既知方法と比ベフツ化水素酸の
消費量および排出空気への四フッ化ケイ素の損失量を減
することができ;この結果排出空気のガス洗浄に伴う環
境または装置への有害作用があまり大きくないという利
点も有する。 要求される磨き上げ時間が短く且つ最も適当なるフッ化
物イオン濃度に調節されるため、フッ化水素酸および硫
酸の消費量も既知方法に比べ著しく滅せられる。また、
所望磨き上げ度は最少鎗のガラスが除去された援直接達
戊することができるので、磨き上げ浴中のスラッジの形
成は相応して少なくなる。 本発明に係る上記磨き上げ浴では、高磨き上げ速度、即
ち比較的短い磨き上げ時間が達成さね、同時に磨き上げ
浴の使用能力が延長される。磨き上げ浴中の硫酸の濃度
は磨き上げすべきガラスの組成によって、即ちアルカリ
土類金属イオン、特にカルシウムを含有するガラスの特
に正確な状態によって決定される。本発明に係る上記磨
き上げ浴においては、硫酸濃度は35%〜65%であり
、実際にガラスがアルカリ土類金がを含有する場合、に
は60%〜65%だけとすべきである。硫酸濃度が高い
場合には磨き上げ傷が生ずる。アルカリ土類金属を含有
するガラスに対する磨き上げ浴中の硫酸濃度のかかる狭
い範囲は、大規模処理の場合に欠点となる。また、通常
の8時間交換法においてその間に洗浄または部分的に新
しくすることなく操作することはできない。磨き上げ浴
の冷却中はアルカリ土類金属イオンの沈殿が不十分とな
り得るので、磨き上げに対する硫酸の消費量を比較的高
くすることができる。 上記本発明の第2の目的、即ち特別なる洗浄手段を用い
ることなくあるいは少なくとも一部分を新しいものとす
ることなく8時間交換法においてその間使用することが
でき、また同時に磨き上げ浴の効率および磨き上げ品質
がすべての必要条件を満足する該磨き上げ浴は、8時間
交換法においてその間本発明に係る上記磨き上げ浴に]
l当り0.1〜5りの塩化ナトリウムおよび/または塩
化カリウムを、一定の浴使用時間においてその間に磨き
上げ効率の低下が見られたらかかる一定使用時間経過後
に一度にすべてまたは間をおいて少しずつのいずれかの
方法で添加することにより満足なものとなる。塩化ナト
リウムおよび塩化カリウムを使用した場合に、全添加量
は一方だけの塩を添加した場合よりも一般に幾分少なく
特に約10%未満である。磨き上げ浴の効率の低下によ
り、浴自体にバッチの全磨き上げ時間の綬徐な延長が見
られるか、または磨き上げ浴と洗浄浴との交互処理を数
回性なう必要が出てくる。あるいはまたかかる磨き上げ
浴をしばらくの間使用した後に局部的な磨き上げ傷が生
ずる場合には、かかる傷は例えばガラス製品表面の青色
の雲となる。 当該バッチに対して所望磨き上げ度を達成するために必
要な全磨き上げ時間がある割合だけ、例えば25〜50
%だけ延びた場合に、または磨き上げによる傷、例えば
青味を呈した染みまたはエツチングの最初の徴候が見ら
れた場合に、塩化ナトリウムおよび/または塩化カリウ
ムを本発明に係る磨き上げ浴に添加すると、殆どの場合
かかる処理したバッチにおける磨き上げ傷は再び直ちに
、消失する。また、短時間経過後、当該バッチの所望磨
き上げ度に必要な全磨き上げ時間も再び正常に戻る。こ
こでかかる短時間とは約10〜20分間とすることがで
きる。ついで、本発明において改善せられた浴により、
傷のない磨き上げ品質、経済的操作および低い酸消費が
、磨き上げ浴の効率がもう一度低下し塩を再度添加しな
ければならなくなるまで可能となる。しかし、磨き上げ
浴全付加的洗浄手段を用いることなくあるいは8時間交
換法においてその間浴を新しくすることなく使用し得る
ためには、かかる8時間のうちほぼ中間時に塩を1度添
加すれば通常十分である。8時間交換法の最終時に塩の
添加を新たに行なった場合、然る後に磨き上げ浴は再生
しまたは再び新しくなることができ、あるいは該磨き上
げ浴は再度最適効率となる。 本発明に係る塩の添加により達成される効果は、塩化水
素酸だけを磨き上げ浴に添加した場合には達成、されな
いことは注目・すべきことである。 硫酸およびフッ化水素酸の他に、強くて非酸化性の酸を
包含する磨き上げ浴への塩の添加は、溶液中のカルシウ
ムイオン、また他の二価および三価のイオン、例えば亜
鉛およびホウ素の保持に関する磨き上げ浴の能力が異常
な程度まで高められ得たという驚くべき効果を奏した。 本発明に係る塩を含む浴においては、磨き上げ浴と洗浄
浴との間の交互処理の回数が従来技術のものと比較して
更に減少される。更に、交互処理を用いることなく所謂
−個の浴による処理においてガラスを傷つけることなく
磨き上げることもできる。尚、かがる処理においては、
ガラス製品を備かに延長された時間一度だけMき上げ浴
に浸漬するだけでよく、然る後に磨き上げの所望程度に
直接達成された製品を洗浄することができる。 しかし、磨き上げ浴を最初のバッチに対して加熱した場
合沈殿した塩の再溶解が起こらないので、交換処理の最
終時にまたは毎日塩析を行なうことにより磨き上げ浴を
再生することは、本発明において使用する磨き上げ浴の
当面の必要条件ではない。 既に記載した如き他の著しい利点は、本発明に係る塩を
含む磨き上げ浴において硫酸濃度に関する限り狭い限定
条件を付することなく、また特にバッチの全磨き上げ時
間の観点から・CaO含有ガラスに対して好ましい一層
高い硫酸湯度での操作を可能にすることである。塩含有
法に関する硫酸濃度の使用可能範囲は、塩の添加を行な
わない場合の65%上限に対し35〜75重世%のH2
SO4であり、また本発明に係る塩を含む磨き上げ浴は
酸化カルシウム含有ガラスの場合に上述の如き60〜1
65重量%の硫酸濃度に対し60〜75重旭%のかかる
濃度を可能とする。 塩を含む暦き上げ浴の他の利点は、磨き上げ処理中磨き
上げ浴の温度を著しく低く維持することができることで
ある。一般に従来は磨き上げ浴の温度を約50〜65°
Cに維持することが必要であった。従って本発明におい
ては、一層高い硫酸濃度を用いることができ、またこれ
に関連した利点としてガラス製品の表面の1焼け」の危
険がなくなるばかりでなく、更には著しく低い温度で行
なうことか可能となる。尚、かかる著しく低い温度とは
、従来において一般的でありあるいはガラス製品の酸に
よる磨き上げに用いることができると考えられた温度で
ある。これにより、本発明の方法は20°C−40°C
の温度の浴で申し分な〈実施することができる。 本発明の方法の特に適した用途は、ダイヤモンド研磨砥
石で研磨されついでサンドブラストを掛けられたスクリ
ーン管、テレビ管等に対してである。本発明の方法
のガラス成分との反応のため、力)かる表面上に反応生
成物の堅固な固着層が形成さ、れる。一般に、この反応
生成物はガラス中に含まれる陽イオンとの硫酸塩、フッ
化物およびフルオロケイ酸塩である。この反応生成物の
層により、磨き上げ処理、即ちガラス表面上における磨
き上げ用の酸の作用が反応が完全に停止するまで阻止さ
れる。従来、磨き上げ処理の反応生成物により形成され
た層を、磨き上げ処理が継続され得るように除去するこ
とが常に要求された。このため、磨き上げ処理を中断し
反応生成物による被膜を洗い流し、かかる操作を所望磨
き上げ度が達成されるまで何回も繰り返し行なった。更
に以前においては、水を用いて磨き上げによる付着層を
洗い流したが、この方法は磨き上げ処理と洗浄とを交互
に行うため多世の水が磨き上げ浴に導入され希釈される
故に大きな欠点を有した。また一方では酸性洗液を生じ
、該酸性洗液により不当に酸が消費されるだけでなく、
かかる洗液を川に排出する前に綿密な方法で中和しなけ
ればならないため、重大なる問題が生じた。 西独国特許第2949383号明細書には、溶、存ナト
リウムイオンおよび/またはカルシウムイオンが連続的
にまたは回分式にあるいは不連続的に磨き上げ用の酸か
ら除去され、これにより一回の浸漬による磨き上げ時間
が著しく延長され、換言すれば磨き上げ浴と洗浄浴との
処理を交互に行なう処理(以下交互処理という)が数回
に抑えられ、あるいは1回の磨き上げおよび洗浄工程に
おいて所望仕上げが達成される旨記載されている。 この従来技m&こおいて、ナトリウムイオンおよび/ま
たはカルシウムイオンを磨き上げ浴から取り除くには、
フルオロケイ酸を添加して対応下るフルオロケイ酸塩を
沈殿させ、ついでかかるフルオロケイ酸塩を例えば−適
法または遠心法により磨き上げ浴から取り除くことが行
なわれた。フルオロケイ酸の他に、リン酸および/また
は酢酸並びに随意にマロン酸、シュウ酸または酒石酸が
磨き上げ浴に導入され、沈殿が促進された。従来技術に
おいて、アルカリイオンを磨き上げ浴から除去する他の
可能性として水銀式電解槽または陽イオン半透膜を有す
る電解槽による電解法がある。こ、の方法ではアルカリ
イオンが磨き上げ浴から抽出される。また、アルカリイ
オンを磨き上げ浴から取り除く可能性として陽イオン交
換剤の使用もある。 更に以前の西独国公開特許第3128908号明細書に
記載の方法においては、極めて低濃度のフッ化水素酸、
即ちく]%HF 、特に0.5〜0.8%のIFを硫酸
とは別に磨き上げ浴に添加してフッ化水素酸の解離度を
可能な限り高く維持させた。 フッ化水素酸、硫酸(30%濃度)、水および未知濃度
の小量の発煙硫酸とから調整された磨き上げ浴に約0.
7り/lのP2O5を「制御剤」として添加することは
1980年来、米国特許第177732]号明細書にて
知られていることである。 また、西独国特許第1189681号明細書には、55
〜67%濃度の硫酸および5〜7%濃度のフッ化水素酸
を有する磨き上げ浴が55〜70°Cの温度で使用され
、また該浴に重金属塩または強酸化力を有する過マンカ
ン酸カリウムまたは酸化クロムを投入してガラス表面上
に形成される地付着層の状態に影響を及ばしめることが
記載されている。 磨き上げすべきガラス製品に、磨き上げ浴と洗浄浴との
交互処理を施すことが数回要求されること以外に、フッ
化水素酸および硫酸の消費量もガラス製品の経済的磨き
上げ法に対し極めて重要なことである。酸の消費量、特
にフッ化水素酸の消費量は磨き上げ浴の組成に左右され
、か力)る消費量はガラス製品の】バッチ当りの磨き上
げ時間Gこ影響を及ぼし、あるいは磨き上げ浴を新しく
するかまたは再生することがない場合Gこは磨き上番プ
すべきバッチの数に影響を及ぼす。ガラス表面上に高濃
縮度で析出する塩の密度により、磨き上番ず処理に欠く
ことのできない暦き上げ浴の磨き上しず73’<度は該
浴中の硫酸イオンおよびフッ化物イオンの濃度と逆比例
の関係となる。 本発明の目的は硫屯とフッ化水素酸とを含む磨き上げ浴
において高層き上げ速度で、即ち比較的短い磨き上げ時
間でガラス製置を磨き上番ず、最終的に磨き上げられた
該製品を硫酸および/また〔ま、水を用いて洗浄し、一
方では磨き上げ浴の使用能力を延長する方法を提供する
ことにある。本発明の他の目的は、この磨き上げ浴を特
別なる洗浄手設を用いることなくあるい゛は8時間交換
法Gこおいてその間少なくとも一部分を新しいものとす
ることなく使用することができ、同時に該層き上げ浴の
効率および磨き上げ量がすべての必要条件に合致するよ
うにかかる磨き上げ浴を改善することにある。 本発明において上記第]の目的は、強い酸化力を有しな
いがフッ化水素酸よりも強くまた硫酸の第2解離段階よ
りも随意に強い酸の]椋またはそれ以上を磨き上げ浴に
添加することによりフッ化水素酸および硫酸の解離を抑
制し、これにより磨き上げ洛中のフッ化物イオンおよび
随意に硫酸イオンの濃度が低く維持されることによって
達成される。特に、荒切りガラス製品を磨き上げる場合
にはフッ化物イオンの濃度を可能な限り低く維持するこ
とが不可欠である。この柚のガラス製品を1回の浸漬で
所望磨き上げ度まで磨き上げるためにはフッ化物イオン
の濃度を特に低く維持して、磨き上げ反応中に形成され
る付着層が堅固に付着されないように該付着層なガラス
製品の表面上において微細形態で且つ付着能力が小さい
状態で発生させるようにしなければならない。 本発明におけるかかる酸の添加に用いる酸はフッ化水素
酸よりも強く、好ましくは硫酸の第2解離段階よりも高
い解離定数をも有し、このような酸の添加は西独国特許
第2949383号明細書におけるフルオロケイ酸ナト
リウムおよび、/またはフロオロケイ酸カルシウムの沈
殿のためのフルオロケイ酸の添加とは厳蜜に言えば異な
るものである。かかる西独−特許のねらいは酸の添加に
より磨き上げ浴からアルカリイオンを除去することにあ
るが、本発明においては磨き上げ浴に含まれるフッ化水
素酸および硫酸の解離°を、低いso4”−濃度、特に
F−濃度故に必然的に高層さ上げ速度相応じて短い磨き
上げ時間、または最低限の磨き上げ浴と洗浄浴との交互
処理の回数となる稈度まで抑制するごとにある。 添加する酸が上記条件、即ちフッ化水素酸よりも強い酸
であるという条件を満足している上で、本発明の目的達
成に適する酸には、リン酸、モノカルボン酸、例えば酢
酸、ジカルボン酸、例えばシュウ酸、マロン酸またはフ
タル酸、オキシカルボン酸、例えば酒石酸またはクエン
酸がある。フッ化水素酸はこの場合適さない。この理由
は、浴において連続的に新しい生成物が生じ浴から(S
iF4として)温度依存の形態で蒸発するため、一般的
な処理条件下ではフッ化水素酸の濃度を調節することが
できないからである。強い酸化力を有する酸、例えばク
ロム酸はこの強い酸化作用のため適当ではない。 今までフッ化水素の解離、従って磨き上げ浴中のフッ化
物イオンの濃度は、硫酸の濃度および浴の温度によって
のみ調節することができた。かかる方法の欠点は、申し
分のない磨き上げの結果を得ようとする場合には硫酸イ
オンの濃度がフン化物イオンの濃度と一定の比例関係に
なけねばならないことである。従って、従来ダイヤモン
ド研胛用ソーダガラスを研磨する場合には8来る限り高
い濃度の硫酸で研磨することが必要とされたので、かか
る荒切りガラスを多くのバッチ交互処理を伴う一様のプ
ログラムで磨き上げようとする場合に限りフッ化水素酸
の解離、即ち磨き上げ浴中の17フ化物の濃度が低下し
た。 フッ化水素酸よりも強い酸を磨き上げ浴に添加すること
を包含する本発明の方法において初めて、硫@濃度とは
無関係にフッ化物イオン濃度を、磨き上げ反応中に生ず
る塩が以下に示す如き組成状態およびガラス製品の表面
への付着能力を有するようになるような値まで低下させ
ることができた。 かかる塩の組成、状態およびガラス製品の表面への付着
能力とは、磨き上げ処理を長時間に亘り阻止されること
なく行なうことができ、特に所望磨き上げ度がガラス製
品を本発明に係る磨き上げ浴へ1回浸漬することによっ
て達成されるような組成、状態およびガラス製品の表面
への付着能力をいう。 本発明の方法の他の利点は、概して磨き上げ法がガラス
の陽イオン成分(アルカリ全屈、アルカリ土類金属)に
無関係となることである。この理由は、かかる陽イオン
成分がフッ化水素酸の解離、従って磨き上げ浴中のフッ
化物イオンの濃度に影響を及ぼし、硫酸の濃度とは勲関
係であることによる。処理すべきガラスがカルシウムを
含む場合には、シュウ酸を磨き上げ浴に添加することは
ない。この理由はシュウ酸カルシウムが不溶性であり沈
殿するからである。しかし、種々の他の有用なる酸を上
記の如く本発明の方法に使用することができる。シュウ
酸と同様に、酒石酸はガラスがカリウムを含む場合に難
溶性酒石酸カリウムを生成、し得るため避けるべきであ
る。 上述の如く、本発明の方法における酸の適用の前提条件
はかかる酸がフッ化水素酸よりも強く、即ちフッ化水素
酸よりも高い解離定数を有することである。また、かか
る酸は少なくとも硫酸の第1および第2解離段階の間に
ある解離定数を有するのが好都合である。尚、このこと
は上記酸の殆どにあてはまる。しかしシュウ酸は硫酸の
第2段階の解離定数よりも遥かに高い解離定数を有する
ので、シュウ酸により磨き上げ洛中の硫酸イオンの濃度
も低下させることができる。他の酸、即ち硫酸の第]お
よび第2解離段階の間にある解離定数を有する酸を用い
た場合、硫酸イオンの濃度は硫酸の濃度および磨き上げ
浴の温度によってのみ影響され得る。磨き上げ浴の温度
を高くするにつれ硫酸の解離は大きくなる。従って高過
ぎる浴温は回避すべきである。本方法は室温でも用いる
ことができるが、一層長い磨き上げ時間を要する。 硫酸とフッ化水素酸とを含む磨き上げ浴への酸の添加量
は、ある程度まで硫酸およびフッ化水素酸の各濃度に左
右される。1〜209/lの酸の添加は40〜65重量
%のH,So、と]、5〜】2重量%のHFとを含む磨
き上げ浴に一般に適している。45〜60重N%のH2
SO,と1.5〜61目のHFとを含む磨き上げ浴にお
いては1〜]]り/lの酸を添加すべきである。 既に述べてきた利点に加え、本発明の方法は、著しく何
回もの交互処理を要する既知方法と比ベフツ化水素酸の
消費量および排出空気への四フッ化ケイ素の損失量を減
することができ;この結果排出空気のガス洗浄に伴う環
境または装置への有害作用があまり大きくないという利
点も有する。 要求される磨き上げ時間が短く且つ最も適当なるフッ化
物イオン濃度に調節されるため、フッ化水素酸および硫
酸の消費量も既知方法に比べ著しく滅せられる。また、
所望磨き上げ度は最少鎗のガラスが除去された援直接達
戊することができるので、磨き上げ浴中のスラッジの形
成は相応して少なくなる。 本発明に係る上記磨き上げ浴では、高磨き上げ速度、即
ち比較的短い磨き上げ時間が達成さね、同時に磨き上げ
浴の使用能力が延長される。磨き上げ浴中の硫酸の濃度
は磨き上げすべきガラスの組成によって、即ちアルカリ
土類金属イオン、特にカルシウムを含有するガラスの特
に正確な状態によって決定される。本発明に係る上記磨
き上げ浴においては、硫酸濃度は35%〜65%であり
、実際にガラスがアルカリ土類金がを含有する場合、に
は60%〜65%だけとすべきである。硫酸濃度が高い
場合には磨き上げ傷が生ずる。アルカリ土類金属を含有
するガラスに対する磨き上げ浴中の硫酸濃度のかかる狭
い範囲は、大規模処理の場合に欠点となる。また、通常
の8時間交換法においてその間に洗浄または部分的に新
しくすることなく操作することはできない。磨き上げ浴
の冷却中はアルカリ土類金属イオンの沈殿が不十分とな
り得るので、磨き上げに対する硫酸の消費量を比較的高
くすることができる。 上記本発明の第2の目的、即ち特別なる洗浄手段を用い
ることなくあるいは少なくとも一部分を新しいものとす
ることなく8時間交換法においてその間使用することが
でき、また同時に磨き上げ浴の効率および磨き上げ品質
がすべての必要条件を満足する該磨き上げ浴は、8時間
交換法においてその間本発明に係る上記磨き上げ浴に]
l当り0.1〜5りの塩化ナトリウムおよび/または塩
化カリウムを、一定の浴使用時間においてその間に磨き
上げ効率の低下が見られたらかかる一定使用時間経過後
に一度にすべてまたは間をおいて少しずつのいずれかの
方法で添加することにより満足なものとなる。塩化ナト
リウムおよび塩化カリウムを使用した場合に、全添加量
は一方だけの塩を添加した場合よりも一般に幾分少なく
特に約10%未満である。磨き上げ浴の効率の低下によ
り、浴自体にバッチの全磨き上げ時間の綬徐な延長が見
られるか、または磨き上げ浴と洗浄浴との交互処理を数
回性なう必要が出てくる。あるいはまたかかる磨き上げ
浴をしばらくの間使用した後に局部的な磨き上げ傷が生
ずる場合には、かかる傷は例えばガラス製品表面の青色
の雲となる。 当該バッチに対して所望磨き上げ度を達成するために必
要な全磨き上げ時間がある割合だけ、例えば25〜50
%だけ延びた場合に、または磨き上げによる傷、例えば
青味を呈した染みまたはエツチングの最初の徴候が見ら
れた場合に、塩化ナトリウムおよび/または塩化カリウ
ムを本発明に係る磨き上げ浴に添加すると、殆どの場合
かかる処理したバッチにおける磨き上げ傷は再び直ちに
、消失する。また、短時間経過後、当該バッチの所望磨
き上げ度に必要な全磨き上げ時間も再び正常に戻る。こ
こでかかる短時間とは約10〜20分間とすることがで
きる。ついで、本発明において改善せられた浴により、
傷のない磨き上げ品質、経済的操作および低い酸消費が
、磨き上げ浴の効率がもう一度低下し塩を再度添加しな
ければならなくなるまで可能となる。しかし、磨き上げ
浴全付加的洗浄手段を用いることなくあるいは8時間交
換法においてその間浴を新しくすることなく使用し得る
ためには、かかる8時間のうちほぼ中間時に塩を1度添
加すれば通常十分である。8時間交換法の最終時に塩の
添加を新たに行なった場合、然る後に磨き上げ浴は再生
しまたは再び新しくなることができ、あるいは該磨き上
げ浴は再度最適効率となる。 本発明に係る塩の添加により達成される効果は、塩化水
素酸だけを磨き上げ浴に添加した場合には達成、されな
いことは注目・すべきことである。 硫酸およびフッ化水素酸の他に、強くて非酸化性の酸を
包含する磨き上げ浴への塩の添加は、溶液中のカルシウ
ムイオン、また他の二価および三価のイオン、例えば亜
鉛およびホウ素の保持に関する磨き上げ浴の能力が異常
な程度まで高められ得たという驚くべき効果を奏した。 本発明に係る塩を含む浴においては、磨き上げ浴と洗浄
浴との間の交互処理の回数が従来技術のものと比較して
更に減少される。更に、交互処理を用いることなく所謂
−個の浴による処理においてガラスを傷つけることなく
磨き上げることもできる。尚、かがる処理においては、
ガラス製品を備かに延長された時間一度だけMき上げ浴
に浸漬するだけでよく、然る後に磨き上げの所望程度に
直接達成された製品を洗浄することができる。 しかし、磨き上げ浴を最初のバッチに対して加熱した場
合沈殿した塩の再溶解が起こらないので、交換処理の最
終時にまたは毎日塩析を行なうことにより磨き上げ浴を
再生することは、本発明において使用する磨き上げ浴の
当面の必要条件ではない。 既に記載した如き他の著しい利点は、本発明に係る塩を
含む磨き上げ浴において硫酸濃度に関する限り狭い限定
条件を付することなく、また特にバッチの全磨き上げ時
間の観点から・CaO含有ガラスに対して好ましい一層
高い硫酸湯度での操作を可能にすることである。塩含有
法に関する硫酸濃度の使用可能範囲は、塩の添加を行な
わない場合の65%上限に対し35〜75重世%のH2
SO4であり、また本発明に係る塩を含む磨き上げ浴は
酸化カルシウム含有ガラスの場合に上述の如き60〜1
65重量%の硫酸濃度に対し60〜75重旭%のかかる
濃度を可能とする。 塩を含む暦き上げ浴の他の利点は、磨き上げ処理中磨き
上げ浴の温度を著しく低く維持することができることで
ある。一般に従来は磨き上げ浴の温度を約50〜65°
Cに維持することが必要であった。従って本発明におい
ては、一層高い硫酸濃度を用いることができ、またこれ
に関連した利点としてガラス製品の表面の1焼け」の危
険がなくなるばかりでなく、更には著しく低い温度で行
なうことか可能となる。尚、かかる著しく低い温度とは
、従来において一般的でありあるいはガラス製品の酸に
よる磨き上げに用いることができると考えられた温度で
ある。これにより、本発明の方法は20°C−40°C
の温度の浴で申し分な〈実施することができる。 本発明の方法の特に適した用途は、ダイヤモンド研磨砥
石で研磨されついでサンドブラストを掛けられたスクリ
ーン管、テレビ管等に対してである。本発明の方法
【こ
より、この種の製品に対して従来達成することのできな
かった磨き上げ度が最短浸漬時間、例えば約20秒、即
ち2×10秒で達成される。 次に本発明を実施例につき説明する。 実施例】 コランダム研磨されたPbO約30%の鉛クリスタルガ
ラス製品を磨き上げ処理に供した。肝き上げ浴は、20
°Cで1.58g/cm8の密度を有し50重量%のH
2SO4,3重量%のHFおよび3り/lのシュウ酸+
0.15重量%のシュウ酸濃度)を含む溶液とし、こ
れを50°Cの温度で使用した。所望磨き上げ度は12
分の磨き上げ時間Gこおし)で交互処理することなく達
成された。 実施例2 ダイヤモンド研磨されたpbo s o%の鉛りIJス
タルガラスを磨き上げ処理Gこ供した。磨き出番ず浴は
、45重量%のH2SO4,4重量%のIFおよび0.
35重量%の濃度に相当する765り/lのシュウ酸を
含む溶液とし、該浴を55°Cの温度で使用した。磨き
上げ浴に1.5分間4回浸漬しつし)で硫酸洗浄液に移
した後、所望磨き上げ度が】0分の全磨き上げ時間にお
いて達成された。 実施例3 実施例2の変更例として、1.5fft1%のH2SO
,,6重量%のHFおよび0.7重量%の濃度に対応す
る】】り/lのシュウ酸を含む溶液を使用した。 この磨き上げ浴全使用すると、交互処理が必要とされず
、また20分の磨き上げ時間経過後Gこ所望磨き上げ度
が達成された。フッ化水素酸の消費量は実施例2の場合
よりも30%高かった。 、実施例4 24%のPbOを含有する手吹きガラスを45重量%の
H2SO4,2゜5重量%のHFおよび0゜3重量%に
相当する39/lの酒石酸を含む溶液で、浴を50°C
に維持し乍ら磨き上げ処理した。交換処理することなく
20分の磨き上げ時間経過後、所望磨き上げ度が達成さ
れた。 実施例5 24重量%のPbOを有する押形ガラスを、60重量%
のH2SO,,5重量%のHFおよび]、1容社%(8
5重量%)のリン酸を含む溶液を用いて50°Cの温度
で磨き上げ処理した。交互処理することなく]5分の磨
き上げ時間経過後に所望磨き上げ度が達成された。 実施例6 24%のPbOおよび4%のCaOを含有するガラス製
品を、70%の硫酸、4.5%のフッ化水素酸および2
.5シ/lの酒石酸を含む磨き上げ浴において50°C
の温度で磨き上げ処理した。全磨き上げ処理は、製品の
研磨タイプGこもよるが4〜5回の交互処理の形態で行
なわれた。尚、かかる交互処理は磨き上げ浴への浸漬、
それに続く硫酸洗浄浴への浸漬を意味する。全磨き上げ
時間、即ちガラス製品が騒き上げ浴中に存在する間の時
間は最初12分であり、4時間に亘る使用時間のうちに
20分まで延びた。 ついで磨き上げ浴]lに対し0.3りのknotを磨き
上げ浴に添加した。約15分経過後、ガラス製品の新バ
ッチを15分以内に歴き上げ処理することができた。 4時間の使用期間の終了時に近づき、またツク・ンチの
全磨き上げ時間が20分まで延びてくると、ガラス製品
上に薄青色の曇りが見えたが、かかる曇りは塩溶液添加
後直ちに消失した。 実施例7 実施例6に対応して、5%のPbOおよび5%のCaO
を含むガラス製品を75%の硫酸、]、5%のフッ化水
素酸および]0CTn8のリン酸(75重量%)を含む
磨き上げ浴において40°Cで、4回の交互処理および
全磨き上げ時間15分にて磨き上げ処理した。4時間の
使用時間内で、磨き上げ時間は約20分まで延びた。0
.1り/lのNa、01および0.19 / /のKC
/を添加すると、その後、バッチに対する磨さ上げ時間
は再び15分となった。 4時間の使用時間の終了時に近づくにつれて現われた局
部的な青色への変色は、塩添加後にはもはやなかった。 実施例8 上述の実施例に対応して、28%PbOを含有する方ラ
ス製品は、65%の硅酸、8%のフン化水素酸および6
77/lのシュウ酸を含む磨き上げ浴において39°C
の温度で、交互処理を要することなく、即ちただ1つの
浴の処理により所望磨き上げ度まで3.5分以内で磨き
上げられた。約4時間の浴の使用時間経過後、ガラス製
品上に青色の斑点が現われ、また磨き上げ時間が緩徐に
5分まで延びた。0.57/lのNap/を添加し15
分経過した後、かかる磨き上げ時間は再度3.5分まで
最高で4分まで抑えられた。
より、この種の製品に対して従来達成することのできな
かった磨き上げ度が最短浸漬時間、例えば約20秒、即
ち2×10秒で達成される。 次に本発明を実施例につき説明する。 実施例】 コランダム研磨されたPbO約30%の鉛クリスタルガ
ラス製品を磨き上げ処理に供した。肝き上げ浴は、20
°Cで1.58g/cm8の密度を有し50重量%のH
2SO4,3重量%のHFおよび3り/lのシュウ酸+
0.15重量%のシュウ酸濃度)を含む溶液とし、こ
れを50°Cの温度で使用した。所望磨き上げ度は12
分の磨き上げ時間Gこおし)で交互処理することなく達
成された。 実施例2 ダイヤモンド研磨されたpbo s o%の鉛りIJス
タルガラスを磨き上げ処理Gこ供した。磨き出番ず浴は
、45重量%のH2SO4,4重量%のIFおよび0.
35重量%の濃度に相当する765り/lのシュウ酸を
含む溶液とし、該浴を55°Cの温度で使用した。磨き
上げ浴に1.5分間4回浸漬しつし)で硫酸洗浄液に移
した後、所望磨き上げ度が】0分の全磨き上げ時間にお
いて達成された。 実施例3 実施例2の変更例として、1.5fft1%のH2SO
,,6重量%のHFおよび0.7重量%の濃度に対応す
る】】り/lのシュウ酸を含む溶液を使用した。 この磨き上げ浴全使用すると、交互処理が必要とされず
、また20分の磨き上げ時間経過後Gこ所望磨き上げ度
が達成された。フッ化水素酸の消費量は実施例2の場合
よりも30%高かった。 、実施例4 24%のPbOを含有する手吹きガラスを45重量%の
H2SO4,2゜5重量%のHFおよび0゜3重量%に
相当する39/lの酒石酸を含む溶液で、浴を50°C
に維持し乍ら磨き上げ処理した。交換処理することなく
20分の磨き上げ時間経過後、所望磨き上げ度が達成さ
れた。 実施例5 24重量%のPbOを有する押形ガラスを、60重量%
のH2SO,,5重量%のHFおよび]、1容社%(8
5重量%)のリン酸を含む溶液を用いて50°Cの温度
で磨き上げ処理した。交互処理することなく]5分の磨
き上げ時間経過後に所望磨き上げ度が達成された。 実施例6 24%のPbOおよび4%のCaOを含有するガラス製
品を、70%の硫酸、4.5%のフッ化水素酸および2
.5シ/lの酒石酸を含む磨き上げ浴において50°C
の温度で磨き上げ処理した。全磨き上げ処理は、製品の
研磨タイプGこもよるが4〜5回の交互処理の形態で行
なわれた。尚、かかる交互処理は磨き上げ浴への浸漬、
それに続く硫酸洗浄浴への浸漬を意味する。全磨き上げ
時間、即ちガラス製品が騒き上げ浴中に存在する間の時
間は最初12分であり、4時間に亘る使用時間のうちに
20分まで延びた。 ついで磨き上げ浴]lに対し0.3りのknotを磨き
上げ浴に添加した。約15分経過後、ガラス製品の新バ
ッチを15分以内に歴き上げ処理することができた。 4時間の使用期間の終了時に近づき、またツク・ンチの
全磨き上げ時間が20分まで延びてくると、ガラス製品
上に薄青色の曇りが見えたが、かかる曇りは塩溶液添加
後直ちに消失した。 実施例7 実施例6に対応して、5%のPbOおよび5%のCaO
を含むガラス製品を75%の硫酸、]、5%のフッ化水
素酸および]0CTn8のリン酸(75重量%)を含む
磨き上げ浴において40°Cで、4回の交互処理および
全磨き上げ時間15分にて磨き上げ処理した。4時間の
使用時間内で、磨き上げ時間は約20分まで延びた。0
.1り/lのNa、01および0.19 / /のKC
/を添加すると、その後、バッチに対する磨さ上げ時間
は再び15分となった。 4時間の使用時間の終了時に近づくにつれて現われた局
部的な青色への変色は、塩添加後にはもはやなかった。 実施例8 上述の実施例に対応して、28%PbOを含有する方ラ
ス製品は、65%の硅酸、8%のフン化水素酸および6
77/lのシュウ酸を含む磨き上げ浴において39°C
の温度で、交互処理を要することなく、即ちただ1つの
浴の処理により所望磨き上げ度まで3.5分以内で磨き
上げられた。約4時間の浴の使用時間経過後、ガラス製
品上に青色の斑点が現われ、また磨き上げ時間が緩徐に
5分まで延びた。0.57/lのNap/を添加し15
分経過した後、かかる磨き上げ時間は再度3.5分まで
最高で4分まで抑えられた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 硫酸とフッ化水素酸とを含む磨き上げ浴においてガ
ラス製品を磨き上げ、最終的に磨き上げられた該製品を
硫酸および/または水で洗浄するにあたり、フッ化水素
酸よりも強い非酸化性の酸の1種またはそれ以上を該磨
き上げ浴に添加することを特徴とするガラス製品の磨き
上げ方法。 2 硫酸の第2解離段階よりも強い酸を添加する特許請
求の範囲第1項記載の磨き上げ方法。 & リン酸、モノカルボン酸、ジカルボン酸またはビト
ロキシ酸の1種またはそれ以上を添加する特許請求の範
囲第1または2項記載の磨き上げ方法っ 表 シュウ酸、マロン酸、酒石酸、クエン酸および/ま
たはリン酸を添加する特許請求の範囲第3項記載の磨き
上げ方法。、 5 ]〜3(1//の酸を磨き上げ浴に添加する特許請
求の範囲第1または2項記載の磨き上げ方法。 a ] 〜so9/lのrRを、40〜65重量%の
硫酸と1゜5〜12重量%のフッ化水素酸とを含む磨き
上げ浴に添加する特許請求の範囲第5項記載の磨き上げ
方法。 7、 磨き上げ浴の効率が低下しまた磨き上げによる傷
が現われたら、8時間交換法においてその間磨き上げ浴
]lに対し更に0.1〜5シの塩化ナトリウムおよび/
または塩化カリぢラムを磨き上げ浴に添加する特許請求
の範囲第1〜6項のいずれか一つの項記載の磨き上げ方
法。 8、 塩化ナトリウムおよび/または塩化カリ鴬つムを
約4時間の磨き上げ浴使用時間経過後分けて添加する特
許請求の範囲第7項記載の磨き上げ方法。 935〜75重量%の硫酸を含む磨き上げ浴を20°C
−40°Cの温度における磨き上げのために使用する特
許請求の範囲第7または8項記載の磨き上げ方法。 10. アルカリ土類金属を含有するガラス製品の磨
き上げにおいて、該ガラス製品を60〜75重量%の硫
酸を含む磨き上げ浴において磨き上げる特許請求の範囲
第7または8項記載の磨き上げ方法。 11 磨き上げ中の温度が20°C−40°Cである
特許請求の範囲第10項記載の磨き上げ方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3238011 | 1982-10-13 | ||
DE3238011.9 | 1982-10-13 | ||
DE3322875.2 | 1983-06-24 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5992945A true JPS5992945A (ja) | 1984-05-29 |
JPS6225619B2 JPS6225619B2 (ja) | 1987-06-04 |
Family
ID=6175654
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18999983A Granted JPS5992945A (ja) | 1982-10-13 | 1983-10-13 | ガラス製品の磨き上げ方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5992945A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62235236A (ja) * | 1986-04-04 | 1987-10-15 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス基板の洗浄方法 |
JPS6386524A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-16 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 薄膜部品形成法 |
JPWO2017111091A1 (ja) * | 2015-12-24 | 2018-03-29 | パナソニック株式会社 | ガラス用研磨液および研磨方法 |
-
1983
- 1983-10-13 JP JP18999983A patent/JPS5992945A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62235236A (ja) * | 1986-04-04 | 1987-10-15 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス基板の洗浄方法 |
JPS6386524A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-16 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 薄膜部品形成法 |
JPWO2017111091A1 (ja) * | 2015-12-24 | 2018-03-29 | パナソニック株式会社 | ガラス用研磨液および研磨方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6225619B2 (ja) | 1987-06-04 |
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