JPS5992164A

JPS5992164A - はんだづけ装置

Info

Publication number: JPS5992164A
Application number: JP58190597A
Authority: JP
Inventors: ダグラス・ジエイ・ペツク; ドナルド・ジエイ・スピガレリ
Original assignee: EICHI TEI SHII CORP ZA
Current assignee: EICHI TEI SHII CORP ZA
Priority date: 1982-10-12
Filing date: 1983-10-12
Publication date: 1984-05-28
Also published as: EP0106295B1; EP0182035A1; US4558524A; EP0182036A1; CA1220382A; EP0106295A1; DE3365693D1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】米国特許第４，０７７．４６７号に述べられているよう
に、通常のはんだづけ、ろうづけ、溶着方法は、数多く
の−「稈をスピーディに処理する大量処理には適してい
ない。例えば、プリント回路板のはんだづけにおいては
、通常のはんだつけ方法では、時間かかかり、素早くは
んだづけしなければならない、この神のはんだづけには
不適である。このため、高温の飽和ベーパ（蒸気）を月
ｊいる方法が提案されている。このような方法によれば
、１１１ｊ記のベーパかはんだづけなどすべき物品また
は部利に接触すると、はんだ、または、ろうづげヰ４を
溶かす。このような方法の一例は、米国特許第：＋、ｓ
ｅ６．：ｔｏ７′；３に開示してあり、ベーパは被処理
物品１−で凝縮し、該物品をはんだづけ、ろうづけ等に
必要な温）ｋに加熱する。このような方法を実施する装
置においては、はんだづけ等される物品は適当なエンク
ローノユアに一個または複数個一群の状態で挿入され、
高温の飽和ベーパにより加熱される。熱交換の液体は、
例えば、フルオロカーボン系の液体から選ばれる。

現在用いられている方法においては、−＋ベーパのみの
方法と、−次ベーパの損失を防ぐ二次ベーパを用いる方
法とがある。米国特許第３．９（１４，１０２号および
前記米国特許第３，８６６．３０７号によれば、−次、
二次ベーパは、同ヒ貯溜槽内の一次、二次液体の混介液
から供給される。二次ベーパは、より高温で沸脱し、下
部に充満する。しが腰このような一次、二次ベーパをｍ
いる方法における問題点は、米国特許第４，０７７．４
６７号に述べであるとおり、複次ベーパ・システムの保
守かきｂめて難がしく、その操作らシングルベーパ・シ
ステムよりもはるかに難かしい。

また、［費用されるベーパのコストもきわめて高く、こ
の費用か高いベーパの回収もきわめて重要なことである
。

ベーパにＪ：るはんだ、ろうづけ方法゛に関する米国特
許としては、第２．５＋５．４８９号、第３，８Ｇ６，
３０７号、３゜９４７．２４０号、４，０２２．３７１
号、４，０３２，０３３号、４，０５５，２１７号、４
＋０７７＋４６７号、　／Ｉ　、　０９０　、８４３号
、４，１１５，６０１号、４，１９４゜２９７号などで
あり、ベーパ回収システムを備えたものは、２，５８２
，７８９号、３，０７８，７０１号、４，０１．２．８
４７号、４，０２９．５１７号などがある。

特に、米国特許第４．２６４，２９９号にＩ５いては、
シングル・ベーパシステムにおいて、−１１部域と下部
域とに分け、ベーパ処理を行う１ζ部域において、制波
を行い、ついで−上部域に物品を移し気化液体の発散と
除去を行うようになっている。

この米■１特許およびＶクロース）・・シンクル・ベー
パ・フンテ゛ンセーションｌＥ’ｌ戒１こ大・１４−る
テ゛す゛イン考察１と題する著述（Ｅ、、１．ｔ４ａｒ
ｃｈと、ｌ、Ｉｌ、Ｎａｎｎ１ｓ共者）（＋９８１−（
ｌ°２月発行）によれば、ベーパ処理域にもける刊ｉｆ
ｋは必要であり、物品の潜熱によす１２部域における発
散か効果的に行われると述べられている。１ト液かベー
パ処理域で行われるｍ−）の埋１１１は、物品か−１一
部域へ移されたとき、該物品の熱か該物品にイ・１着し
た凝縮液を発散させるには不足し、物品の凝縮液層が発
散、回収の妨げとなると考えられることによる。また、
制波が−１一部域においで生ずべきであると考えら／ｌ
ているのみならず、１部域のベーパ・ガスは一１〕部域
へ再循環される前に加熱され、発散を促進すべきである
とら考えられている。米国特許第４，２６４．２９９″
−ｊ等によれば、下Ｒ１（域の高さを十分に高くするこ
とにより、上部域における再発散に先立ち、排液を完全
に行えるとしている。

溌処す約この発明によれば、ＪＩＪｒ液は初成および乾燥域から
なる」一部チャンバでのみ行われ、ベーパ処理は初成す
；よび乾燥域の１α下にあるベーパ処理域であるチャン
バで行われる。物品１よ、支持体に載せられてリフト磯
描により１））ｊ記両域内を移動する。前記画成は、排
液およびりと部域の上部および下部を月１１−する可動
プレートを備えたシール機構により互いにＲ５４離され
る。詠シーリング機構は、前記画成に出入する支乃木を
備えたリフト機構により作動する。このシール作用を行
うため、ブレニド状のＭ板が支持体の１一部に位置する
。はんだづけ等が行ノっれる物品は、排液および乾燥域
の」１方において支持体に装置され、ついで支持体は下
降され、この時、６板は排液および乾燥域の」二部に残
されて、支持体がその底部に達すると、排液および乾燥
域の−［―ｒｆｌ−を月１１．する。ついで支持体は、
引続き下降させられ、ベーパ処理域に達し、そこではん
だづけ等が行われるト排液および乾燥域の底部に当接する可動の底板がベーパ
処理域へ下降する支持体の底部に押されてベーパ処理域
へ下降する。可動の底板は、プーリＩ３よび重錘、後間
スプリング手段または、適宜の′ト段により４１Ｉ液Ｉ
５よび＋′ｒ、燥域の底部をシールする位置へ（１１勢
され、これにより慈底部を１」１１ル、前記画成を隔離
する。

ベーパ処理域にもけるベーパ処理後、支持１４（は、リ
フト（佐構によりに方へ引」−けられ、支持体上の物品
は、排液す５よび乾燥域・＼連やかに移され、ＪｉＪＩ
液および乾燥か行われる。支持体が′物品と共に排液お
よび※ａ燥域へ移動するにつれ、底板は支持１４りと共
に上昇し、支持体が上１１１１１の排液および※と部域
へ完全に移ると、底板は、この４１１液および乾燥域の
底面を封止する。

この発明によれば、仙液および乾燥域において物品から
除去された液体は、底板の周縁に設けであるチャンネル
に流入し、底板による月１１一部を１１ｊシールする液
体シールとして作用する。このような液体シールを完成
させるため、排液および乾燥域の側壁は下方へ延びて前
記チャンネル内に達している。そして、前記チャンネル
の側縁は、上方へ突出しベーパ処理域を構成するチャン
バの上部に固定したがスケントに当接し、機械的シール
を＋ｉｖｊ成する。

ベーパ回収システムが七［液す３よび乾燥域に用いられ
ており、初成および乾燥域がら空買／ベーパ・エアロゾ
ール混合体が回収ボックスへ圧送され、回収ボックスが
ら乾燥空買がυ１液および乾燥域へ再循環される。回収
ボックスは、底部に液体が貯められたチャンバを備え、
該チャンバの−に部に入［］が設けてあり、内部には液
面に達する邪魔板が垂直方向に」一部から垂設されてい
る。貯溜された液体は、＝記システムに用いられたベー
パが液体になったもので、冷却コイルが回収ボックスの
外側に設けてあり、これにより液体中のベーパ／エアロ
ゾールの凝縮を促進するようになっている。回収ボ／ク
ス内に設けた垂直方向の邪魔板から水平方向に邪魔板が
設けてあり、迷路か構成されている。

前記水平の邪魔板の上方に当る回収ボックスの１−壁に
は、出口が設けてあり、回収した液体を溜めに戻すため
のオーバーフロー口が回収ボックスに設けである。

ベーパ・エアロゾールは、例えば、１０（１’　Ｆから
１４０°１：の温度で回収ボックスへ入り、（・と燥空
気け７０’　Ｆから９０°Ｆの温度で回収ボックスから
出る。したかって、４１１液および乾燥域において蒸発
が行われるため、回収システムにおいて別個に加熱する
必要がない。また、回１１Ｖボンクスには、補助チャン
バを一木に設け１、二のチャンバの底部に酸吸収触媒を
置き、これにより回収した液体の酸中和を行うようにな
っている。このチャンバは、人１１と出１１を仕切る垂
直の邪魔板が前記触媒の液面に達し回収液体をベーパ処
理域の溜りへ戻す。

排液および乾燥域に対して、ベント・システムが設けて
あり、内部を外気と連通させて支持体の上下４降に対す
る空気抵抗の影響をなくシ、前記蓋板と底板とによる開
放、封止作用時の圧力差のＨ３ｔＢをなく針。このよう
なベント作用を行わずに、物品を載置した支持体を下降
させるときの圧力抵抗は、１５インチ１１２０オーダー
となる。同様に、物品を１ｉ１２ｉｔＹした支持体に対
する圧力抵抗は、５インチ１（２０オーダーとなる。

このような圧力抵抗およびオーバープレ・２シヤを減少
さぜるため、４１１液および乾燥域は外気とベント・チ
ャンバまたはベントボックスを介して連通しており、こ
のベントボックス内には、邪魔板により迷路が構成され
、この間にプラスウールなどの熱ｆ云導祠が−〕ぬられ
、さらに冷却フィルが縦方向に設けてあり、ベーパ含有
の空気を凝縮し、水滴化し、液化して回収する。

要するに、排液および乾燥域に対しでは、加熱を要しな
い一次ベーパ回収システムと、ベントおよび二次回収シ
ステムとを糺合わせたシステムとが配設されている。

支持体のリフト１幾構としては、吊支バンドなどにより
支持体を吊下げ、吊支バンドを蓋板に固定のシリンダに
挿通したもので、挿通部分には、下面が面取りされた挿
通溝孔をもったディスクがはめこまれ、これら挿通溝孔
により吊支バンドに１１着したベーパを拭去ると共に、
ベーパの−１一部域への逸散を阻止し、ベーパ源として
のけ市なフルオロカーボン液の損失を防ぐようになって
いる。

支持体へ物品を載置しまた、支持体から物品を移す手段
として、ベルｉ−機構が七１液Ｊ９よび乾燥域の上方に
設けてあり、ベルｌ［横により物品の載置、移ΦＩＪが
自動的に行われるようになっている。

ベルト機構は、無端ベルトにより形成され、支持体が物
品の載置および移し変えか行われる位置にあるときのみ
作動し、支持１本か下降する時は、作動が停止卜するよ
うな連動関係を有している。そして、処理済みの物品を
載せた支持体が−ＩＪしてきて、前記の位置に達すると
、ベル日ｊ！描は作動して、処理済みの物品を支持体か
ら移送ベルトへ自動的に移し変える。このようなベルト
機構により、物品は支持体へ自動的に載置され、支持体
の下降によりベーパ処理域へ達し、そこでベーパ処理に
、する溶着等が行われた後、再びＪ−ｕｉ　Ｌで支持体
から移送ベルトへ自動的に送り出されて、はんだづけ、
ろうづけ等の−・サイクルが完了する。

実施例！！２説！すＪ！ｌｌ’ｓＩΔ図から第１Ｅ図に示すように、ベーパ処
理ユニッ１１０は、処理すべき物品の導入域１４、排液
／乾燥域１６および１ｉｉｊ記したベーパ処理域に相当
する溶融／再流動域１８を備えたハウノング１２から構
成されている。処理すべき物品は、ハウン′ング１２の
開口部２２から導入域１４へ導入され、該導入域には、
ベントボー１・２４がル丈（すてあり、５二のボートか
ら残留ベーパが大気中へ放出されるようになっている。

リフト３０か導入域１４、排水／乾燥域１６、溶融／再
流下域１８をガ、降するように設置しである。このリフ
トは、物品２０を載ぜる支持体３２に連結Ｃたケーブル
、チェーンなどの吊支材３４かプーリ３Ｇを介して駆動
機構３８へ連結し、制御機構４０により４降か制御され
るようになっている。

俳ｊ夜／′乾燥域と溶融／再流下域は、周縁にシール４
４を備えた蓋板４２により月１１ニされるようになって
いる。この蓋板４２は、吊支材３４に取（；Ｉけである
もので、支持艮４Ｇに支えられて、支持体３２の」−力
に位置し、支持体３２とは、所定のτｊ法をもって離れ
ている。蓋板４２の機能は、支持体３２が下降したとき
、排液、乾燥域１６を封１１する。１．″尊こある。

前記したように、蓋板４２は可動のらので゛、す７）・
３０の支持体３２か排水／乾燥域の底部方向へ下降する
と、蓋板・１２は導入域＋４ヲｌ−’降Ｌ　、　初ｌＩ
ｒＬｉ”　乾（！￥４域の」二部へ達する。

可動の底板５０が排液／′乾燥域１６の底部５２に設け
てあり、環状のシール５４により底板５０かυ１液／゛
乾燥域１６の底面（溶融／再流下域の」−面）を封１１
シている。

底板５０は、重り５８とブーｌ几０とを組合ｔλせた（
浅１１η５６により上下方向へ動くようになっており、
底板５０の最下位置は、底部又ペーサ６２により規制さ
れる構造になっている。

溶融／′再ｌ！ｊ動域１８には、加熱機構に４が設けて
あり、この加熱機構の加熱により溜め６６の液体を気化
させる。冷却フィル６８溶融／再流動域１８の−１一部
に設けてあり、これによりハウノング１２の側面のベー
パを凝縮し溜す６６へ戻す作用をなす。排液／乾燥域１
６にも冷却コイル７０が設けてあり、これによって気化
した液体を凝縮し、シール５４へ流して、液体シールと
して作用させるようになっている。

第１Ｅ図に示すように、排液／乾燥域１６には、回収機
構７４が設けてあり、これは、プロ７７６、回収ボック
ス７８および再循環路８０から構成され、冷却された乾
燥空気を初成７パ轄燥域１６へ戻す。

実際の操作においては、排液／乾燥域から空気／ベーパ
エフ０ゾール混合体が回収ボックスへ送られ、エアロゾ
ール、／ベーパが除かれ、溶着用のＭＩＧ管路８４から
溜す６６へ送られる。前記画成１６．１８にＩ；ける凝
縮とは別に、これが液体再ｆ史用のための回収システｌ
、であり、この点については、第７．８図との関連で後
述する。

１１八図に示すように、排液／乾燥域１６には、排液（
＋Ｓ、横９０が設けてあり、この機構は管路９２を介し
排気、′乾燥域１６と連通し、二次回収室と排気ボック
ス９４を１ｌｉｉｉえている。このボックスについては
、第６図に関連して後述する。この機構の目的は、排液
／′乾燥域等かリフトの４降により封１にまたは開放さ
れたときの圧力変化を緩和する点にある。初気ボックス
は、大気と連通していると共に管路９６を介して溜り６
６・＼連通し、回収した液体を溜りへ戻す。

液体の回収においては、−次回１１Ｍ　を茂構７４およ
び二次回収機構９０のいずれも補助加熱手段を備えてお
らず、このように補助加熱なしに４，１ｌｌｌｋ　、”
　乾燥域１６の蒸発お上び乾燥を促進させることか本発
明の利点で゛ある。

さらに、排液／′乾燥域において排液および乾燥か行わ
れるから、底板５０の周縁に液体か゛たまり、これかき
わめて効果的な底部側のシールとなる。

実際の操作ににいて、第１１（図に示［ように、物品２
０がバスケン１などの支持体３２に載ぜられ、制御機構
４０により駆動機構：（８を駆動して支持ｊ４Ｑ　３２
を排液、′乾燥域１６ヘド降させると、第１Ｃ図に示す
ように、支持体：（２は底板５０の上に載ると同時に、
基板４２か排液／′乾燥域１６を仕切る一Ｌ壁９８に当
接する。蓋板４２と支持体４２との間の間隔は、支持１
本：（２の底が底板５０に接したとき、蓋板４２が上Ｊ
１１て９８に接して、七１液小と１ヘトｊ成１６の人１
］を封止するに足る寸法である。

第１Ｄ図に示すように、基板４２により前記入口を２４
　＋にした状態で支持体３２は溶融／′再流動域１８方
向へ下降させられる。

底板５０は、支持体３２の底面か゛当接し、物品２０の
荷車と支持体３２との自重が重り５８による引張力より
もまさることにより、下降し、スペーサ６２かスト。

パ１８２に当り、そこで体重する（第５Ｃ図）。

第１Ｄ図に示すように、溶着処理の間、溶融または再流
動は完了し、溶融／′再流動域は互いに連通し、差板４
２か゛両者の１′”ｌ　ｄ−（１として作用する。

第１１］図に示す蒸着処理後、制御数構４０により駆動
機構；）８を作動して’）　７　ト３０の支持体３２を
排液／乾燥域１６へ引上げ、底板５０が核酸１６の底面
を封止する位置で９７）：１（ｌか停止にする。

底板５０は、支持体３２と共に上昇し、これにより七［
液、′乾（ヤ挿釧６のド面の封止か底板５０まわりの液
体シール１２８となって効果的に行える。この点につい
ては、第２図との関連で後述する。液体または月１１・
のための液体は、物品２０か排液／乾燥域１６に位置す
るとぎ、物品２０から七１水された液体である。この１
−１的のため、壁１０４に凝縮した液体は、底板５０に
滴下し周縁に向い流れて封１１−作用をなす。

１１１ｊ記のような液体シールに上り制波、・＋に・ｊ
・〜１こ域１６と溶融／再流動域１８とは、完全に１１
．悄１１さ〕１、高熱ベーパは排水、冷却物から商用１
さＪしる。さらに、液体の回収も前記のとｊＪり動域１
６．１８間がｌ：？、悄１［されているので、トＪっめ
で効果１１月こ行われる。１１１ｆ記の封止は、溶融７
）再流動域１８内にベーパを留めておく点できわめて重
要なことであり、各板４２か開放されると、制波／′乾
燥域１６は外部と連通状態となる。

処理すべき物品か４１１１液／′乾燥域１ににＩＩ冒〆
ｔしている時は、　乾１！１１：空気の再循環ｊ：　Ｊ
：　Ｕ　ｌニー１ｌＬＩＶ！４Ｑｌ＋？７７４力作動し
空気／ベーパエアロゾール混合体か回収ボックス７８へ
吸引され、そこでＲｈｆ＃、合体から況気分とエアロゾ
ールとか除去される。その結果、残りは、轄・操空気と
なり、り（液／※２燥域１６へ戻され、そ、二でベーパ
除去作用を行う。通常の場合、空気、ｌベーパエアロゾ
ールは、回収ボックスへ１００°１：から１４０゜「の
？晶／Ｑで入る。そして、フルオロカーホ゛ン・ベーパ
に月して１１１団Ｖボツクスから乾燥空気が出る温度は
、７０°１：がら９０°Ｆの間の温度であり、排液／′
乾燥域にＩ；けるφと１−■作用を損しない。前記のと
おり、ｖｌ液／÷と部域にＩ；ける気化作用のため、回
収（幾構には、補助加熱機構を設けていない。このよう
に４１１液／′乾燥工程において加熱する必要がないこ
とに加え、−１一部域ににいての排液により、装置の全
高を吐くする利点がある。このように、従来装置では、
６ｉ７記した一乙一）の領域の高さ寸法がきわめて高く
なるのに対し、図示実施例の場合は、溶融／再流動域の
底から初成／轄燥域の１一部までの高さ寸法は、３フイ
ンチ台（オーダー）て゛ある。さらに、従来装置におい
ては、ｖｉ液はベーパ処理Ｊ成のみにおいて専ら生ずる
ようになっていおり、物品はべ°−パ処理後、上刃へｖ
９つくり動くように要求されており、工程が長びくか、
この発明によれば、排液と乾燥処理は、第二領域にｔ９
いて行われるので、シングルバッチ処理は、４分台であ
る。

第２図１．ｔ、前記した液体シール機構の詳細を示すも
ので、底板５０の周側縁には、図示されているように突
縁１１２で囲んだ溝１１０か設げである１１図示の例で
は、バスケット状の支持体３２が底板５０に接面し、底
板５０は受台１１４に支えられ、受台１１４は案内レー
ル＋１６により案内される。受台１１４とスペーサーカ
ラー１１８は矢ｒ旧２０方向・＼前記した千９例ｆｉｖ
７により動き、１１η記した突縁１１２カリ；；状のシ
ール木１２０（０リングなと）に当接する。このシール
１本は、溶融、１すｌＩコ動域１８を構成するチャンバ
の−１”、ｔ＋２２に設けられている。図示のように、
第１図の冷却コイル７０は−１−壁１２２側にまで延長
されている。

実際の操作においては、ベーパの凝縮による水滴１２４
か物品２０と側壁１０４の両者から矢印１２６方向へ滴
Ｆ　Ｌ　７１ｆＪＩ　ＩＯに溜まり、貯溜液１２８とな
る。図示のように、側壁１０４の下端１３０は、溝１１
０内に達し、液体シール磯？ｌηを構成する。このよう
な構造にＪ、って、貯ｌ留液１２８から熱を′僚い、貯
溜液の両賞化を・防ぐ。支持体：（２は網状またはグリ
ル状のものとすることができ、このよらな構造によって
液体を溝１１０へ排液する。

第：３図は、第１図の装置の具体構造例を示すらので、
同一部分には、同一符号が付しである。第３図に示すよ
うに、支持体３２はラック状、格子状、網状などになっ
ており、四点支持の吊下バンド３４により吊支され、該
バンドはハウジング１２の−に板１４０、点線て゛示１
若板４２に通されている。

苓板４２には、シリンダまたは角形のチャンネルト１４
の上端が固定され、それらの下端は支持１本３２に固定
されて、両者の開が所定の寸法分あけられている。この
＼Ｊ法は、支持１４ご（２が排液／乾燥域１６の底に達
すると、蓋板４２か゛その上部に位置する寸法関係にな
っている。

吊支バンド３４はシリンダ１４４に挿通されて物品を１
・父性する支持体に連結しており、これらバンドがシリ
ンダ１４４に旧市状態に挿通されメ描造は、第４図に示
すように、ディスク１５０の挿通溝孔＋５２に通される
もので、これら挿通溝孔１５２の底部１５４は面取りさ
れている。これらディスク１５０は、複数枚が車なって
シリンダ１伺の一１〕端（蓋板４２と接する部分）に位
置し、一枚のディスク１５０゛がシリング１伺の底部側
にある。この底部に位置するディスク１５０゛とシリン
ダ１４４の底縁１５６とが、前記支持体と当接し、その
動きを阻１１．シている。かくして、リフト機構により
物品を載せる支持体か下降する間、シリンダの底部と支
持体の上面との捏擦係合により、特にディスク１５０゛
により前記バンドか購揺れしないようにされて、支持体
は所定のイ装置を保つ。第５Δ〜５１１図に示すように
、蓋板４２は物品導入域を（１−成するハウノング内に
水ｑＪに保たれ、その卜′側にシリンダ１４４と支持体
とが位置し、支持［４りが下降すると底板に当接する。

底板は案内レール１１６とカラー１１８とにより水１月
こ保たれている。

ディスク１５０の挿通溝孔１５２は、底部１５４が面取
りされてす；す、この部分で゛ｉｉｊ記ハンドに１・１
着した蒸着用のｔ良木を駆手刷幾構；）８により引１−
げ゛られる１１１ｊ記バンドから拭い収る。この作用は
、−１・側のディスク１５０゛の部分におけるものか最
も重要である。また、前記バンドは、挿通溝孔１５２に
ぴったり接しており、これにより排液／゛乾燥域からの
ベーパまたは液体の逃散を防ぐ。

第５Δ〜５０図に示す実施例においては、蓋板４２は、
リフト１幾も青により支持されているものであるが１、
ｉＹ　却１にいえば、支持体１６０に当接しているシリ
ンブト１４に支えられている。そして蓋板４２と支持体
１６０とは、シリング１伺の長さ分だけ離れている。こ
の実施例においては、剃ぐ５図の例と同じ構造部分には
、同一・彷号か１・１しである。

’５５　／を図に示すように、物品導入域１４のチャン
バの側壁１６４に各板４２の位置決めストッパ１６２か
設けてあり、蓋板４２の１−限位置が定められ、シリン
グ１伺は、各１一端１６６かＺｉ板４２に設けた取１１
１板１６８に溶接などの手段で固定されている。吊支バ
ンド３４は、ディスク１５０を介してシリンダ１４４内
に挿通され、該ディスクにより前記バンドの挿通部分に
隙間か生しないようになっている。吊支バンド３４の下
端１７０は、ディスク１５０゛に挿通され、支持体１６
０に連結されている。このような構造によって、支持体
３４は横揺れしないようになっている。

第５Δ図に示すように、重り５８か案内ボスト１７２に
、上下方向にスライド可能に装着されている。この重り
５８には、市りを−に下させるストランド１７４の一端
か結ひ゛つけてあり、その辿端はカラー１１８に連結し
ている。図示の実施例では、ストランド１７４の中間部
分は、半円形の受体１７６に支えられている。溶融／再
流動域１８には、冷却コイル１７７が内蔵され、ベーパ
の回収をＩｊｌ進するようになっている。

第５１（図に示すように、支持体１６０は、蓋板４２を
制波７）乾燥域１６のに部を１１１１ユする状態に残し
て溶融／パ１■ｆ流動域１８へ下降する。蓋板４２によ
る月１１は、第１図のシール伺に相当する０リングシー
ル１８０により行われる。下降した支持体１（）０は、
底板５０と受部１１４とを押圧し、支持体１６０は、底
板５０との当接により水平に保たれる。溶着用の液）４
；　Ｉ　８（＋内にヒータ６４か位置している。第５Ｃ
図に示ｔように、ストッパ１８２に支持体１６０のカラ
ー１１８か１系合腰支持木１６０の下限位置か定められ
、支持１本１００と液体１８０の液面との開に−・定の
スペースか確保される。

第５Ｄ図に示すように、−口２、溶融／′再）Ｉコ動域
１８へ下降した支持１４Ｃ＋　６０は、再びクト液／乾
燥↑・・題６へ１−？１し、底板５０か溶融／再流動域
ＩＳをＪ４’　＋Ｉ：　Ｌ、品＆４２が排液／乾燥域１
６の」二部を封止する。この状態ににいては、排液／乾
燥域１６は、溶融／再流動域１８および物品導入域１６
から完全に隔離される。

第５Ｅ図の実施例においては、第５八〜５Ｄ図の実施例
にす；ける重錘による底板の昇降機構に代って、スプリ
シダシフ降磯溝が採用されてり・る。この機構によれば
、４個のスプリングイ・１勢によるブー１月８４か排液
／＋′ｒ、燥域１６のチャンバの側壁に設けてあり、こ
れらのプーリ（１−Δ＋ｏｅＬｅｋ型８ＬＩ２に４２Ｊ
なとのらの）には、吊支ハ゛ンド１８６が巻きつけてあ
り、これらノくンドの下端１８８は底板５０に連結して
゛あり、常時、巻キー１−げ方向に付勢されている。こ
の構造であると、下側の域１８には、ｙｌ、降機能か設
けていないので、保守が簡単となる。

第６図に示すベント機構においては、ベントポ・ンクス
ハウンング２００に人口２０２、外気と連通する出１１
２０４および回収用１］２０７が図示のように設けであ
る。ハウジング２００内には、複数枚の邪魔板２０６を
縦ノＪ向に互い違いに設けてなる迷路が形成してあり、
この迷路および邪魔板と人ｒ１２０２との間に、プラス
ウールその池の熱伝導材２０８がつめこまれている。

入口２０２と図において左側の邪魔板との間にベーパを
凝縮して液化する冷却コイル２０９が縦方向に設けであ
る。溶融／゛再流動域１８が圧力を回復する間、空気流
２１０が外部へ流れ、液化した水滴２１２は回収用ｒ、
Ｉ２０７から溜りへ戻される。

１１ｊ記したベント機構は、外部と連通しているので゛
、オーバプレッシャは、すべて外部・＼放出される。

同様に、支持体す；よび関連部分の１−下動に月する空
気抵抗は、入口２０２へ空気か流れることにより緩和さ
れる。このようなベント機構により、ハウソングの構造
を強化して、封圧構造とする必要がなく、シール、ガス
ケット部分のノＪ命を艮くすることかでト、内圧の増大
に月処する手段を設けずにすむ。

第７図に示す実施例は、−次ベーパ回収（代描に関する
もので、第１図の回収ボックス７８の訂細を示ｔもので
゛ある。該ボックスのハウン゛ング２２０ｉこ（土、人
口２２２と出口２２４が１−壁に設けである。人１１２
２２の近くに、邪魔板２２６が設けてあり、その下端は
液面２２８下に達している。１Ｂ魔板２２６と側壁２３
２とから一外〕の邪魔板２：（０，２：（０かＩ７．い
違いの状態で水平に張り出しており、液面を一定にする
ため、オーバー７０（１２２６かハウソング２００の側
壁２３２に設けである。

入口２２２から＋００°Ｆから１４０°Ｆの温度で入り
こんだエアロゾール（ｕ４合体は矢印２３６の）ガこれ
となって液体２７（８へ；イこ入し、液体中に移された
ベーパ水滴を攪はんし、１１ｉ　Ｂ、乾燥空気は７０°
１：から９０°Ｆの温度で出口２２４から放出される。

このように乾燥空気は出１１２２４から放出され、ベー
パは液体２３８内に移される。

第８図は酸中和室２４０の構造を示すもので、回収ボッ
クス７８のオーバー７０−１丁１２２６の近く（ニ一体
に設けてあり、その内部は邪魔板２４２により区分され
、該邪魔板の下端は酸吸収触媒層２４６’ｊｍ達してい
る。冷却フィル２３２が外側に設けてあり、オーバーフ
ロート］２４４か溜りと連通している。蓋（＝１０部２
４８は、前記触媒の交換１−１である。このような酸中
和（幾構により、酸の増加と、これによる腐食を可及的
に防ぐ。

第９八・〜９Ｄ図は、支持体：（２へ物品２０を無端ベ
ルト２５０．２５２．２５４により自動的に移し乗せる
は横を示すもので、ベル）　２５０は、ハウソング１２
の開ｎ部２２に臨んでおり、物品２０をベルト２５２へ
移しかえる。ベル）２５０は適当な駆動手段で動き、物
品２０をベルＩ２５２側へ移動する。ベルト２５２はモ
ータ２５８などにより動く駆動ロール２５６によｉ）動
かされる５、物品２０かスイッチ２６０を押ｔと、駆動
（阻１■：（８か作動して支持体３２を物品の乗降位置
から１・降させる。１９ｃ図に示すように、ベルＩ２５
２か駆動ロール２５６から離れると第９Ｃ図）、その動
きは市より、前記した溶着工程が始まる。この］−稈時
における状態は、第９１１図に示すとおりである。］−
稈が完了すると、支持体：（２はリフト機構により引き
−１−げられ、ベルト２５２が駆動ロール２５６に接し
、再び回動して、溶着された物品２０をベルト２５４へ
移乗さぜる。ベルト２５イの駆動機構は、公知のものが
用いられる。ベルト２５０．２５４は連続的に動くよう
になっているものでもよい。また、ベルト２５０はスイ
ッチ２６０が接触したとき停止するようになっていても
よい。さらに、ベルト２５４は、支持体２５２が１−昇
したとき動くようになっていてらよい。

前記実施例は、この発明を限定するものではなす１゜

【図面の簡単な説明】

第１八図から第１１）図は、それぞれこの発明に係る装
置の実施例の説明図、第２図は、液化シール部の構成を示す要部拡大断面図、１３図は、この発明の一実施例における装置のリフト機
構を示す説明図、第４図は、す７ト桟構にナタける要部拡大説明図、第５
八図から第５Ｄ図は、それぞれ第３図に示した装置の断
面構成の説明図、第５Ｅ図は、スプリングイ・１勢によるプーリを備えた
実施例の断面構成の説明図、第６図は、第１、：（，５図の装置に１−１設されるベ
ント機構の断面図、第７図は、第１図のベーパ回収ボックスの拡大断面図、第８図は、第７図のベーパ回収ボックスに酸中和（幾構
を配設したチャンバの断面図、第９八図から第９Ｄ図は、それぞれ物品の自動移送ベル
ト（幾構を示す説明図である。１０・・・ベーパ処理ユニット１２・・・ハウソング　１４・・・物品樽人域１６・・
・排液／乾燥域　１８・・・ベーパ処理域２０・・・処
理すべき物品　：（０・・・リフ）　Ｂｌ措３２・・・
蓋板　　　　５０・・・底板１Ｊｈ−１名Ｆｉｇ５ＡＲν５ＣＲｇ、５０Ｆ７ｇｚＳりθ Ｒｇ、　９４Ｆｉｇ、　９ＣＦｉｇ、　９８８ｇ　９０

Claims

【特許請求の範囲】

（１）少なくとも」１下方向に配置された二つのチャン
バと、はんだづけすべき物品を載置する支持体と、この
支持体をｌ１下に昇降するり７ト機構と、前記両チャン
バを１４市するシーリング手段とを備え、前記ラヤンバ
の−・方は、排液および乾燥域を構成し池フ゛、７ナヤ
ンバは、一方のチャンバの下位に位置してベーぺ処理域
を構成しており、前記リフト（幾構は、前記支持体を１
ｉｉｉ記一方のチャンバから前記池方のチャンバへ下降
させると共に、前記両チャンバから引十げる構成になっ
ており、前記シーリング機構は、可動の蓋板と底板とか
ら構成され、該蓋板と底板とは、少なくとも前記一方の
チャンバの上面と下面との間隔分に相当する寸法をもっ
てに下方向に対向しており、前記支持体が前記−・方の
チャンバ内に下降すると、前記蓋板が該チャンバの」二
面を旧市し、前記底板が該チャンバの下面を旧市する構
成になっていることを特徴とするはんだづけ装置。
（２）排液および乾燥域はベント機構により外気と連通
し凝縮ベーパ回収手段と連通している特許請求の範囲第
１項記載の装置。
（３）ベント（幾構は、凝縮ベーパ回ｊ１ｙ手段をＪｆ
Ｅ　ｉｗてに；　ｌ）　、内部に迷路を構成する邪魔板
を設けたチャンバを備え、このチャンバは水平に設置さ
れて、ベーパ含有空気の入口と、ベーパ回収後の乾燥空
気の出口とか前記チャンバに設置してあり、前記迷路に
は熱伝導材がつめこまれ、前記チャンバに冷却コイルが
設けである特許請求の範囲第２項記ｌ・ｋの装置。
（４）ベーパ含有空気を回収するため、前記第一のチャ
ンバに一次ベーパ回収手段が結合され、ベーパ含有空気
を回収する（幾構および乾燥し、再加熱されない空気を
前記第一のチャンバへ戻す手段を備えている特許請求の
範囲第１項記載の装置斤。
（５）ベーパ回収手段は、土壁に入口と出１］とが設け
であるチャンバを備え、該チャンバの底部には、液体か
貯めてあり、該チャンバの内部に迷路が形成しである１
、テ許請求の範囲第１項記載の装置。
（６）前記ベーパ回収手段に酸中和手段としての触媒が
納められた補助チャンバが結合している特許８！１１求
の範囲ｐｉＳＳ項記載の装置。
（７）可動の底板には、周縁に液体シール部を構成する
環状のチャンネルが設けてあり、前記第一と第二のチャ
ンバは、互いに隔離される構成になっている特許請求の
範囲第１項記載の装置。
（８）前記環状のチャンネルには、側壁が設けてあり、
前記第一のチャンバの側壁下端が前記チャンネルに当接
して、液体シール部を構成する特許請求の範囲第１項記
＋１・ｋの装置。
（９）前記蓋板には、シリンダ状の筒体°の上端か固定
し、その下端は１１ｊ記支持体に当接する特許請求の範
囲第１項記載の装置。
（１０）リフト（幾構の吊支バンドが前記筒体に挿通さ
れて、上下に移動しかつ、挿通部分は、該吊支バントと
挿通溝孔との密接により気密状になっている特許請求の
範囲第９項記載の装置。
（１１）前記挿通部分に〃スケットが設けである特許請
求の範囲第１０項記載の装置。
（１２）前記挿通溝孔の下面は而取りされている特許請
求の範囲第１１項記載の装置。
（１３）前記Ｊ＆板は、プーリと重錘とにより上下方向
に可動するように構成されている特許請求の範囲第１項
記載の装置。
（１４）前記底板は、スプリングにより１・１勢された
プーリにより−１−下方向に可動するように＃＋’ｌｊ
　Ｉ＆されている特許請求の範囲第１項記載の装置。
（１５）少なくとも上下方向に配置された二つのチャン
バと、はんだづけすべき物品を載置する支持体と、この
支持体を１−下に昇降するりフト機構と、前記両チャン
バを月面するシーリング手段とを備え、前記チャンバの
一方は、排液および乾燥域を構成し、他方のチャンバは
、一方のチャンバの下位に位置してベーパ処理域を構成
しており、前記リフト機構は、前記支持体を前記一方の
チャンバか゛ら前記他方のチャンバへ下降させると共に
、面記両チャンバから引」―ける構成になっており、前
記シーリング敗（１隻は、前記画チャンバを互し）に隔
離させ、かつ、物品がベーパ処理域にあるときは、両チ
ャンノ＼を連通状態とする構成になっていることを特徴
とするはんだづけ装置。
（１６）処理すべき物品を前記支持体へ自動的に載置し
、かつ、移し変えるベルト機構を備えてしする少なくと
も、１−下方向に配置された二つのチャン１（と、はん
だづけすべき物品を載置する支持体と、この支持体を一
１ユ下に昇降するり７ト磯構と、前記両チャンバを封１
トするシーリング手段とを備えてνする特この発明は、
高温ベーパを用いて物品のはんだづけ、ろうづけ、溶着
を行う方法と装置りに関するものである。