JPS5990615A - ケミカルトラツプの再生方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はフン化水素（ＨＦ）、六フン化ウラン（ＩＪＦ
、）等の腐食性ガスなどを吸着するに好適なケミカルト
ラップの再生方法に関するものである。

従来気体中のＨＦおよびＴＪ　Ｆ　ａ等を捕集する手段
として、吸着材たるフッ化ナトリウム（ＮａＦ）にＵ　
Ｆ　ｅおよびＨＦが化学吸着する性質を利用した化学吸
着捕集法がある。これ１ｄＮａＦがｔＪＦ。

あるいはＨ１’ｉ”と次式で示されるように可逆的に反
応することを利用したもので、 ＜ｘｏｏＣ ２ＮａＦ＋■■Ｆ６；ゴ（ＮａＦ）、（■Ｆ、　　　・
・・・・・・・・（１）加熱（２００〜４００ｔＺ’） ＜１ｏｏｃ ＮａＦ＋Ｉ−ＩＦ　−２ＮａＨＦ２　　　　　　−−−
（２ｉ加熱（１５０〜４００Ｃ） 単に吸着材の温度条件を変えるのみで吸着、脱着操作が
可能である。

腐食性ガスを吸着するケミカルトラップとして、通常は
第１図Ａに示されるように、円柱ベレット伏のＮ　ａ　
Ｆ、すなわち吸着材層３を吸着塔２内に設け、この吸着
材層３に被処理ガス（腐食性ガスを含む）を被処理ガス
導入管１から送シ込み、吸着材層３を通過させて、腐食
性ガス成分を吸着材ｊ酋３の吸着材に吸着、捕集する装
置が用いられている。

普通ＮａＦによるＵ　Ｆ　ｓおよびＨＦの吸着除去の場
合、ＵＦａおよびＨＦの系外漏洩は許されないので、処
理ガス量に対する吸着材の量は、化学量論式で示される
量（約４．１　ｇ　　ＩＪＦ６　／　ｇ−Ｎ　ａ　ｉｉ
’、０．４　ｇ−ＨＦ／ｇ−Ｎ　ａ　Ｆ　）よシも多く
使用している。

このように大過剰の吸着材を使用した場合には吸着後の
吸着分布は第１図Ｂに示されるように１被処理ガス人口
部では極端に高く、出口部では殆んどゼロに近い値とな
る。

すなわち第１図Ａ、Ｂにおいて吸着塔２内の吸着材層３
の下流側（被処理ガスの流れ方向で）は本来の吸着能力
が充分発揮されない状態で使用されている。

なお第１図Ａ中、符号４は加熱ヒータであ沙、第１図Ｂ
のＣ／ＣｏにおけるＣけ吸着材層３内の任意の場所での
吸着量、Ｃ０ばＮａＦペレントによる被吸着ガスの飽和
吸着量である。

このようなケミカルトラップにおいて、従来、吸着ガス
ＬＪＦ’６、ＨＦを脱着、回収する場合には第２図に示
されるように、吸着ガスの通気方向と同一方向から脱着
ガスを回収するようにしている。

この方法では未吸着領域でＨＦ、Ｔ、ＴＦ６の再吸着が
生じ、これを脱着させるため、吸着塔全搬にわたって均
一に加熱しなければならない。さらに吸着塔入口部から
脱着したガスは、吸着−脱着をくり返しながら流出する
ので、回収時間が長くなる欠点を有する。

なお第２図において、符号５は吸着材層３における腐食
性ガスの未吸着部分、６は脱着ガス回収装置、７は排気
装置、８け腐食性ガスの吸着部分、９′は脱着ガスの流
れ方向、Ｂ！〜Ｂ４はバルブである。

本発明の目的は脱着ガスの回収速度を飛躍的に早めるこ
とができ、しかも吸着塔の加熱部分を著しく短縮できる
ケミカルトラップの再生方法を提供することにある。

本発明は前記目的を達成するために、吸着塔内で腐食性
ガスの大部分が吸着している吸着材層の被処理ガス入口
部のみを加熱ヒータで加熱し、脱着ガスが直接塔外へ排
出されるように、吸着操作の場合とけ逆の方向から脱着
ガスを排気、回収するようにしたものである。

以下本発明を実施例に基づいて説明する。

第３図は本発明ケミカルトラップの再生方法の実施態様
を示すもので、ケミカルトラップ装置は吸着塔２、脱着
ガス回収装置６ならびに排気装置７を備えて構成されて
いる。

前記吸着塔２内の吸着材層３にＮａＦペレットが充填さ
れてケミカルトラップが構成されている。

また吸着塔２の外表面でしかも腐食性ガスを含む被処理
ガスが流入する吸着材層３０入口付近に、加熱ヒータ４
が巻きつけられている。

加熱ヒータ４は、吸着塔２の吸着材層３の被処理ガス入
口付近にのみ設けられている。

そして各機器を結ぶ配管の要所にはバルブＢ。

〜Ｂ、が配備されている。

前記ケミカルトラップにおいて腐食性ガスの吸着、捕集
時には、被処理ガスはバルブＢ、全通って吸着塔２内に
供給される（第３図に符号９で示される脱着ガスの流れ
方向とは逆方向）。被処理ガスが吸着材層３を通る間に
腐食性ガスが吸着材層３に吸着される。被処理ガスは、
吸着材層３を通過した後、吸着塔２より流れ、バルブＢ
ｌを通過するっ 吸着材Ｊｆ４３の被処理ガスの入口付近に腐食性ガスの
９５％が集中的に存在する。

吸着材層３にＨＦあるいはＵＰ、を等の腐食性ガスが吸
着された吸着材層３を再生するときけ、バルブＢ１およ
びＢ、を閉め、排気装置７を起動させたのち、加熱ヒー
タ４を用いて吸着塔２内の吸着材層３の被処理ガス入口
部を、吸着ガスの脱着温度領域、すなわち２０００以上
に加熱する。

ついでバルブＢ、およびＢ４を開け、第３図に符号９で
示される脱着ガスの流れ方向に吸着塔２の被処理ガス出
口部から通気し、吸着塔２の被処理ガス入口部から脱着
ガスを排出させ、脱着ガス回収装置６で回収し、排気装
置７から排気する。

前述の本発明方法によれば、腐食性ガスを吸着した吸着
材層３の吸着材からいったん脱着した腐食性ガスは、吸
着材層３内の腐食性ガスの未吸着部分５を通ることはな
いので、未吸着部分５を加熱する必要がない。また未吸
着部分５を通して脱着ガスを排気する場合に比較して回
収速度を著しく早めることができる。

本発明は以上詳述した構成のもので、従来方法に比較し
て腐食性ガスの脱着ガス回収速度を飛躍的に向上させう
る効果を有する外、吸着材１−の被処理ガス入口付近の
吸着塔の部分のみ加熱するようにしているので、脱着、
再生用に使用するヒータ容量を吸着塔全長を加熱する従
来方法に比べて著しく減少できる。

【図面の簡単な説明】

第１図はケミカルトラップを示す図、第１図Ｂは同ケミ
カルトラップ内における腐食性ガス吸着量の流れ方向に
おける分布を示す図、第２図は従来方法における吸着操
作終了後のケミカルトラップの再生方法の実施態様を示
す概略図、第３図は本発明によるケミカルトラップの再
生方法の実施態様を示す概略図である。 ２・・・吸着塔、３・・・吸着材層、４・・・加熱ヒー
タ、５・・・吸着材層における腐食性ガスの未吸着部分
、６・・・脱着ガス回収装置、７・・・排気装置、８・
・・吸着材における腐食性ガスの吸着部分、９・・・脱
着ガスの４

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、被処理ガス中の腐食性ガスを、吸着、捕集したケミ
   カルトラップ内の吸着材層を再生するケミカルトラップ
   の再生方法において、吸着材層の被処理ガス入口付近を
   加熱し、前記吸着材層に吸着された前記腐食性ガスを前
   記ケミカルトラップより回収することを特徴としたケミ
   カルトラップの再生方法。