JPS5988386A - 硫酸カルシウムを骨材とするセラミツクスの製造方法 - Google Patents
硫酸カルシウムを骨材とするセラミツクスの製造方法Info
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- JPS5988386A JPS5988386A JP19808382A JP19808382A JPS5988386A JP S5988386 A JPS5988386 A JP S5988386A JP 19808382 A JP19808382 A JP 19808382A JP 19808382 A JP19808382 A JP 19808382A JP S5988386 A JPS5988386 A JP S5988386A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属酸化物を含有するか、含有しない半水硫酸
カルシウム（以下単に半水石膏と云う）のスラリーを用
いて種々の製品形状を成形してこの成形体に、高度な耐
磨耗性、耐食性、断熱性及び高い機械的強度を賦与する
処理方に関するもので、複雑な製品形状及び寸法確度の
高い成形体を極めて簡易に形成し、且つ加工をも可能と
なし、更に単に含浸と加熱処理との反復繰返しによって
所望の使用目的に応じた耐摩、耐食、緻密化及び高強度
のセラミックスを容易且つ廉価に製造し得るものである
。
カルシウム（以下単に半水石膏と云う）のスラリーを用
いて種々の製品形状を成形してこの成形体に、高度な耐
磨耗性、耐食性、断熱性及び高い機械的強度を賦与する
処理方に関するもので、複雑な製品形状及び寸法確度の
高い成形体を極めて簡易に形成し、且つ加工をも可能と
なし、更に単に含浸と加熱処理との反復繰返しによって
所望の使用目的に応じた耐摩、耐食、緻密化及び高強度
のセラミックスを容易且つ廉価に製造し得るものである
。
従来石膏は成形の容易性１寸法確度、加工性及び吸水性
等によって、陶磁器工業をけじめ各種工業の型材或いは
耐火性、耐熱性等から石膏プラスター、？−ド及びセメ
ント等、建築用材として一般に知られている現状にある
。
等によって、陶磁器工業をけじめ各種工業の型材或いは
耐火性、耐熱性等から石膏プラスター、？−ド及びセメ
ント等、建築用材として一般に知られている現状にある
。
しかしながら、この石膏系製品の有する強度は、一般に
その強度値の比較的大きい石膏セメントでさえ、曲げ強
度が１５０〜１９０ｋｌ？／ｃｒｎ２であシ、従ッテ通
常のセラミックスに対比して著しく強度値が低く、又吸
水性の大きいことが特徴でもあるが、耐水性及び耐薬品
性に大きな欠点があった。一方セラミック材料の化学結
合による強化法として、可溶性クロム化合物の濃水溶液
を用いて素焼（仮焼き）のセラミックスに含浸及び加熱
処理を施すことが知られているが、この方法はセラミッ
ク原料の成形体が仮焼き中に寸法変化ンー及ぼすことと
なり、仮焼き後に予め寸法精度を高めるだめの精密加工
を必要とし、この加工後にクロム酸系の溶液の含浸及び
加熱処理を行うものであり、又セラミック原料の種類に
制約を余儀なくされる間頌を有した。
その強度値の比較的大きい石膏セメントでさえ、曲げ強
度が１５０〜１９０ｋｌ？／ｃｒｎ２であシ、従ッテ通
常のセラミックスに対比して著しく強度値が低く、又吸
水性の大きいことが特徴でもあるが、耐水性及び耐薬品
性に大きな欠点があった。一方セラミック材料の化学結
合による強化法として、可溶性クロム化合物の濃水溶液
を用いて素焼（仮焼き）のセラミックスに含浸及び加熱
処理を施すことが知られているが、この方法はセラミッ
ク原料の成形体が仮焼き中に寸法変化ンー及ぼすことと
なり、仮焼き後に予め寸法精度を高めるだめの精密加工
を必要とし、この加工後にクロム酸系の溶液の含浸及び
加熱処理を行うものであり、又セラミック原料の種類に
制約を余儀なくされる間頌を有した。
本発明の目的は上記した問題をきわめて効果的に解決し
たもので、半石膏スラリーＶＣよる成形に加熱を不要と
し、寸法確度を大にして、しかも付加カロエの容易さ及
び成形体の吸水性を活用して、これに可溶性クロム化合
物の溶液または酸化物等を含有するクロム化合物の溶液
を含浸せしめて加熱処理を施し、これら含浸と加熱処理
との反復繰返し操作にょシ耐摩性と耐食性とを著しく増
大せしめ、同時に高強度、緻密質及び耐熱性のすぐれた
硫酸カルシウムを骨材とするセラミックスヲ８価に製造
する方法を提供することである。
たもので、半石膏スラリーＶＣよる成形に加熱を不要と
し、寸法確度を大にして、しかも付加カロエの容易さ及
び成形体の吸水性を活用して、これに可溶性クロム化合
物の溶液または酸化物等を含有するクロム化合物の溶液
を含浸せしめて加熱処理を施し、これら含浸と加熱処理
との反復繰返し操作にょシ耐摩性と耐食性とを著しく増
大せしめ、同時に高強度、緻密質及び耐熱性のすぐれた
硫酸カルシウムを骨材とするセラミックスヲ８価に製造
する方法を提供することである。
本発明に用いられる硫酸カルシウム成分の出発原材料は
半水石膏であり、これにはα型手水石膏とβ型半水石膏
とがあり、又■型無水石膏も半水石膏と同様に水和して
成形し得るため使用出来るものであるが、α型及びα型
＋β型（焼石膏）が望ましいところである。
半水石膏であり、これにはα型手水石膏とβ型半水石膏
とがあり、又■型無水石膏も半水石膏と同様に水和して
成形し得るため使用出来るものであるが、α型及びα型
＋β型（焼石膏）が望ましいところである。
石膏のス→リーとしては半水石膏１００重量部に対して
水４０〜１２０重景部の割重量し、半水石膏粉末を水に
投入して攪拌混成し、乳状になった状態をもって成形型
に鋳込み成形してなるもので、又金属酸化物を含有せし
めた石膏スラリーの調製には、スラリー中に金属酸化物
が均一に分散するように予め酸化物の微粉末に所定量の
水を加えて？−ルミル等によく混和して調製し、これに
所定量の半水石膏粉末を投入して攪拌混成した状態をも
って鋳込み成形してなるものである。
水４０〜１２０重景部の割重量し、半水石膏粉末を水に
投入して攪拌混成し、乳状になった状態をもって成形型
に鋳込み成形してなるもので、又金属酸化物を含有せし
めた石膏スラリーの調製には、スラリー中に金属酸化物
が均一に分散するように予め酸化物の微粉末に所定量の
水を加えて？−ルミル等によく混和して調製し、これに
所定量の半水石膏粉末を投入して攪拌混成した状態をも
って鋳込み成形してなるものである。
金属酸化物としては、例えば５１０２ ＋ ＡＺ２０３
＋ Ｃｒ２０ａｓＺｒ０２及びＴｉＯ２等があり、後述
のクロム酸処理においてＣｒ２０３ 粒子と強固な結合
・硬化し得る酸化物を横抗するもので、又これら酸化物
粉末は石膏粒子とよく混和するようＫその粒度を４４μ
ｍ程度以下となし、好ましくは加μｍ程度以下であり、
又含有量については形状及び石膏成形体の強度によ、ｂ
一定しないが、通常容積比において石膏１００部に対
して０〜１２０部の範囲に亘って使用でき、１２０部を
こえると石膏の水和成形体の強度が不十分となり、成形
体の加工を必要とする場合観いは複雑な形状及び第１含
浸処理の取扱い時に損壊する恐れを生ずる。この場合の
石膏と水量との比は酸化物粉末の粒度及び含有量により
一定しないが、通常石膏１００重量部に対して水４０〜
２００部の割合となすものである。なお以上によって得
られた成形体の見掛気孔率は概ね３０〜５５％である。
＋ Ｃｒ２０ａｓＺｒ０２及びＴｉＯ２等があり、後述
のクロム酸処理においてＣｒ２０３ 粒子と強固な結合
・硬化し得る酸化物を横抗するもので、又これら酸化物
粉末は石膏粒子とよく混和するようＫその粒度を４４μ
ｍ程度以下となし、好ましくは加μｍ程度以下であり、
又含有量については形状及び石膏成形体の強度によ、ｂ
一定しないが、通常容積比において石膏１００部に対
して０〜１２０部の範囲に亘って使用でき、１２０部を
こえると石膏の水和成形体の強度が不十分となり、成形
体の加工を必要とする場合観いは複雑な形状及び第１含
浸処理の取扱い時に損壊する恐れを生ずる。この場合の
石膏と水量との比は酸化物粉末の粒度及び含有量により
一定しないが、通常石膏１００重量部に対して水４０〜
２００部の割合となすものである。なお以上によって得
られた成形体の見掛気孔率は概ね３０〜５５％である。
本発明は石膏の成形性、硬化性、加工性及び吸水性等を
活用し、石膏による成形体の気孔部に含浸せしめたクロ
ム化合物の濃水溶液を・加熱処理することにより、成形
体を構成してなる粒子相互間に介在するＨ２ＣｒＯ４→
Ｃｒ０３−＋ Ｃｒ２０ｒｓの変換反応により各粒子相
互を結合させ、成形体の前記諸性質の高性能化を計るも
のであシ、従ってクロム化合物の含有量が直接成形体の
強化に大きな影響を及ぼすことから成形体の開放気孔率
をある程度増大することも出来る。即ち石膏は常温にお
いて僅かながら水に溶解（約２．５ｆ／ｌ）するために
、成形体を水に浸漬した状態をもって超音波振動を通常
２〜５分間与えることにより気孔率を著しく増大する結
果となるものである。
活用し、石膏による成形体の気孔部に含浸せしめたクロ
ム化合物の濃水溶液を・加熱処理することにより、成形
体を構成してなる粒子相互間に介在するＨ２ＣｒＯ４→
Ｃｒ０３−＋ Ｃｒ２０ｒｓの変換反応により各粒子相
互を結合させ、成形体の前記諸性質の高性能化を計るも
のであシ、従ってクロム化合物の含有量が直接成形体の
強化に大きな影響を及ぼすことから成形体の開放気孔率
をある程度増大することも出来る。即ち石膏は常温にお
いて僅かながら水に溶解（約２．５ｆ／ｌ）するために
、成形体を水に浸漬した状態をもって超音波振動を通常
２〜５分間与えることにより気孔率を著しく増大する結
果となるものである。
鋳込み成形してなるこれら種々の製品形状を有する成形
体は硬化、乾燥後に、第１含浸処理として可溶性クロム
酸塩、例えばＣａＣｒ０ａ、 ＭｇＣｒＯ４及びＺｎＣ
ｒ０ｔ等をＨ３ＣｒＯ４の濃水溶液に溶解せしめた略中
性の溶液に浸漬して含浸処理を行わしめるものである。
体は硬化、乾燥後に、第１含浸処理として可溶性クロム
酸塩、例えばＣａＣｒ０ａ、 ＭｇＣｒＯ４及びＺｎＣ
ｒ０ｔ等をＨ３ＣｒＯ４の濃水溶液に溶解せしめた略中
性の溶液に浸漬して含浸処理を行わしめるものである。
なお、クロムは塩とクロム酸との混合比率はクロム酸塩
１モルに対してクロム酸を１．５〜３モルの割合となし
、溶液の比重は１．６〜１．７程度が適当である。又浸
漬時間については成形体の大きさによシ一定しないが、
例えば加×蜀×１００１ｙ１５の大きさのもので、約加
〜加分間を必要とするが、ｌＯ〜１．０ ｍｍＨｇの
減圧下において真空含浸法をとれば、常圧下の％以内の
時間をもって充分となすことが出来るものである。
１モルに対してクロム酸を１．５〜３モルの割合となし
、溶液の比重は１．６〜１．７程度が適当である。又浸
漬時間については成形体の大きさによシ一定しないが、
例えば加×蜀×１００１ｙ１５の大きさのもので、約加
〜加分間を必要とするが、ｌＯ〜１．０ ｍｍＨｇの
減圧下において真空含浸法をとれば、常圧下の％以内の
時間をもって充分となすことが出来るものである。
との含浸処理を行ったものは外表面に付着した上記溶液
を軽く拭きとった後に電気炉内に入れ、４６０℃以上の
温度に加熱処理を行わしめるものであるが、石膏は無機
物中では比較的熱膨張係数が大きいため急激な温度上昇
をさけることが重要視され、従って昇温速度は成形体の
大きさによって一定しないが、通常４℃／ｍｉｎ以下が
適当である。
を軽く拭きとった後に電気炉内に入れ、４６０℃以上の
温度に加熱処理を行わしめるものであるが、石膏は無機
物中では比較的熱膨張係数が大きいため急激な温度上昇
をさけることが重要視され、従って昇温速度は成形体の
大きさによって一定しないが、通常４℃／ｍｉｎ以下が
適当である。
又最高加熱処理温度は成形体の成分及び組合せる材料の
種類により設定されるべきものであり、例えば石膏単味
の成形体の場合８００℃程度が好ましく、鉄系の金属材
料との組合せた場合には４６０℃〜５６０℃の範囲が望
ましいところである。なお最高温度での保持時間につい
ては同様に成形体の大゛きさにより一定しないが、前記
寸法の大きさにおいて約加分が適当である。
種類により設定されるべきものであり、例えば石膏単味
の成形体の場合８００℃程度が好ましく、鉄系の金属材
料との組合せた場合には４６０℃〜５６０℃の範囲が望
ましいところである。なお最高温度での保持時間につい
ては同様に成形体の大゛きさにより一定しないが、前記
寸法の大きさにおいて約加分が適当である。
上記した第１含浸処理により成形体組織中の石となるた
め、石膏が次工程においてクロム酸処理液によって溶解
きれる懸念は殆んどなく、従って第２回以降の含浸処理
にはクロム酸の濃水溶液、例えばＣｒＯ３を水に溶解し
、比重１．５５〜１．７に調製した溶液、又は該濃水溶
液に少量の金属窒化物、例えばＣｒ、、０３ ＋ 、ｋ
Ｌ２０ｓ ＋ ５ｉ０２ 、ＺｒＯ２及びＴｉＯ２、又
は金属炭化物、例えば５ｉＣ１又は金属窒化物、例えば
Ｓｉ３Ｎ、、 ＡｔＮ等の微粉末を添加して？−ルミル
を用いて十分に混成してなるスラリーに再度浸漬して含
浸処理を行わしめるものである。なお、これら第２含浸
処理としては常温においてか−（９）分間を必要とする
が、添加物を含むクロム酸溶液への含浸は溶液粘度が高
いので１０〜１０−ｌｍｍＨｇの真空含浸法が好ましい
ところである。
め、石膏が次工程においてクロム酸処理液によって溶解
きれる懸念は殆んどなく、従って第２回以降の含浸処理
にはクロム酸の濃水溶液、例えばＣｒＯ３を水に溶解し
、比重１．５５〜１．７に調製した溶液、又は該濃水溶
液に少量の金属窒化物、例えばＣｒ、、０３ ＋ 、ｋ
Ｌ２０ｓ ＋ ５ｉ０２ 、ＺｒＯ２及びＴｉＯ２、又
は金属炭化物、例えば５ｉＣ１又は金属窒化物、例えば
Ｓｉ３Ｎ、、 ＡｔＮ等の微粉末を添加して？−ルミル
を用いて十分に混成してなるスラリーに再度浸漬して含
浸処理を行わしめるものである。なお、これら第２含浸
処理としては常温においてか−（９）分間を必要とする
が、添加物を含むクロム酸溶液への含浸は溶液粘度が高
いので１０〜１０−ｌｍｍＨｇの真空含浸法が好ましい
ところである。
次でこれら第２含浸処理を行ったものを外表面に付着し
た上記溶液を軽く拭きとった後に、電気炉内に入れ、再
び４６０℃以上の温度で加熱処理を行わしめてなるもの
で、その後該第２含浸処理操作、即ちクロム酸溶液によ
る含浸と熱処理とを少なくとも１回以上所望なだけ反復
繰返し行うものである。このような反復回数については
要求されるセラミックスの性状により一定しない力；、
反復回数が多くなるほど前記諸性質力；向上するもので
、例えば石膏単味の成形体の本発明による含浸及び熱処
理回数と硬度、曲げ強さ及び見掛銀−ＴＬ率に及ぼす影
響を示せば下記表の通りである。
た上記溶液を軽く拭きとった後に、電気炉内に入れ、再
び４６０℃以上の温度で加熱処理を行わしめてなるもの
で、その後該第２含浸処理操作、即ちクロム酸溶液によ
る含浸と熱処理とを少なくとも１回以上所望なだけ反復
繰返し行うものである。このような反復回数については
要求されるセラミックスの性状により一定しない力；、
反復回数が多くなるほど前記諸性質力；向上するもので
、例えば石膏単味の成形体の本発明による含浸及び熱処
理回数と硬度、曲げ強さ及び見掛銀−ＴＬ率に及ぼす影
響を示せば下記表の通りである。
以下本発明の実施例について詳述すれば下看己の通りで
ある。
ある。
実施例１
、成 形 体 ・・・焼石膏（α型＋β型半水石膏）の
粉末３００りを蒸留水３００ ｆに添加し、４分間に亘
って攪拌、混成し て乳状のスラリーを調製し、該ス ラリーをもって石膏型に流し込み 四角棒状（−辺２０Ｂ、長さ８０〃凱）からなる成形体
を得た。
粉末３００りを蒸留水３００ ｆに添加し、４分間に亘
って攪拌、混成し て乳状のスラリーを調製し、該ス ラリーをもって石膏型に流し込み 四角棒状（−辺２０Ｂ、長さ８０〃凱）からなる成形体
を得た。
なお、該成形体の吸水率約４０係
・第１含浸処理
・処理液の調製・・・Ｃｒ○３４５０ ｔに蒸留水３０
０１全力０えて一夜放置し、Ｈ２ＣｒＯ４の濃水溶液を
つくシ、該濃水溶液にＭｇＯ粉末 ９０？を徐々に加えて得たクロム酸 に溶解してなるＭｇＣｒ Ｏ４の混合溶液を蒸留水で薄
めて比重１．６６に調製 した。
０１全力０えて一夜放置し、Ｈ２ＣｒＯ４の濃水溶液を
つくシ、該濃水溶液にＭｇＯ粉末 ９０？を徐々に加えて得たクロム酸 に溶解してなるＭｇＣｒ Ｏ４の混合溶液を蒸留水で薄
めて比重１．６６に調製 した。
・含浸処理・・・上記成形体を常温、常圧中で処理液中
に加分間浸漬して含浸処理を 行わしめ、しかる後に外表面に付 宥した処理液を軽く拭き取った。
に加分間浸漬して含浸処理を 行わしめ、しかる後に外表面に付 宥した処理液を軽く拭き取った。
・加熱処理・・・この処理物を電気炉内において４’Ｃ
／ ｍｉｎの速度で昇温せしめ、６６０℃で約４分間攪
拌した。
／ ｍｉｎの速度で昇温せしめ、６６０℃で約４分間攪
拌した。
・第２含浸処理
・処理液の調製・・・過剰のＣｒＯ３を蒸留水に加メて
一夜放置してＨ２ＣｒＯ４の濃水溶液をつく、す、該濃
水溶液に蒸留水を加オて 比重１．６２に調製した。
一夜放置してＨ２ＣｒＯ４の濃水溶液をつく、す、該濃
水溶液に蒸留水を加オて 比重１．６２に調製した。
・含浸処理・・・この処理液中に上記＠１含浸処理のも
のを再度常温、常圧下で、加 分間浸漬して含浸処理を行わしめ、 しかる後に表面に付着した処理液 を軽く拭き取った。
のを再度常温、常圧下で、加 分間浸漬して含浸処理を行わしめ、 しかる後に表面に付着した処理液 を軽く拭き取った。
・加熱処理・・・この処理物を再び電気炉内において４
℃／ｍｉｎの速度で昇温せしめ、 ＳＯＯ℃で約（９）分間保持した。
℃／ｍｉｎの速度で昇温せしめ、 ＳＯＯ℃で約（９）分間保持した。
、反釦返圀理・・・以上の結果、硬度ＨＲＯ３０、曲げ
強さ４６０ ｋｇ／ｃｍ２、見掛気孔！１５．３％。
強さ４６０ ｋｇ／ｃｍ２、見掛気孔！１５．３％。
熱伝導率０．００４ Ｃａｔ／ｌ：ｍ−５ｅｃ ℃から
なる、しかも１００００Ｇで１０時間に亘る加熱試験を
行っても１寸法精 度及び特性の変化のないセラミツ クスの四角棒状のものを得た。な お、第２含浸処理と全く同一条件 にて５回繰返し行った。
なる、しかも１００００Ｇで１０時間に亘る加熱試験を
行っても１寸法精 度及び特性の変化のないセラミツ クスの四角棒状のものを得た。な お、第２含浸処理と全く同一条件 にて５回繰返し行った。
実施例２
・成 形 体・・・純度９９％、粒度ｌＯμ以下からな
る５ｉｎ２７６．８ｆと、粒度５μ以下からなるＣｒ２
Ｏ３３８，４ｔとの混合微粉末に水１２０ｆを加え、ゾ
ールミルに よシｕ時間粉砕混成したスラリー に、α型半水石膏粉末８５ ｆを投入 し、約４分間攪拌して乳状の泥漿 を調製し、該泥漿をもって金型に 鋳込み平板状（厚さ１０朋、幅切間、 長さ１２０ｒｕｎ ）からなる成形体を得た。なお、成
形体の見掛気孔率約 ３６係 ・第１含浸処理 ・処理液の調製・・・ＣｒＯ３６００ｔに蒸留水４００
２を加えて一夜放置してクロム酸の濃水溶 液をつくり、該濃水溶液を薄めて 比重】、６７となし、更にこの溶液に ＺｎＯ粉末２５０ｔを枡拌しながら除 徐に加えて溶解して得たＺｎＣｒＯ４＋Ｈ２Ｃｒ ０４
の混合溶液を薄めて比重１．６６に調製した。
る５ｉｎ２７６．８ｆと、粒度５μ以下からなるＣｒ２
Ｏ３３８，４ｔとの混合微粉末に水１２０ｆを加え、ゾ
ールミルに よシｕ時間粉砕混成したスラリー に、α型半水石膏粉末８５ ｆを投入 し、約４分間攪拌して乳状の泥漿 を調製し、該泥漿をもって金型に 鋳込み平板状（厚さ１０朋、幅切間、 長さ１２０ｒｕｎ ）からなる成形体を得た。なお、成
形体の見掛気孔率約 ３６係 ・第１含浸処理 ・処理液の調製・・・ＣｒＯ３６００ｔに蒸留水４００
２を加えて一夜放置してクロム酸の濃水溶 液をつくり、該濃水溶液を薄めて 比重】、６７となし、更にこの溶液に ＺｎＯ粉末２５０ｔを枡拌しながら除 徐に加えて溶解して得たＺｎＣｒＯ４＋Ｈ２Ｃｒ ０４
の混合溶液を薄めて比重１．６６に調製した。
・含浸処理・・・実施例１に同じ
・加熱処理・・・実施例１に同じ
・第２含浸処理
・処理液の調製・・・ＣｒＯ３を蒸留水に溶解して比重
約１．６５のクロム酸の濃水溶液をつくり、 該濃水溶液に粒度５μｍ以下からな るＡｔＱＯ，をＣｒＯ３量に対し重量部において７俤を
添加した後に？−ル ミルによ、９２４時間粉砕混成せしめ、更に蒸留水を加
えて比重１．６に調 製した。
約１．６５のクロム酸の濃水溶液をつくり、 該濃水溶液に粒度５μｍ以下からな るＡｔＱＯ，をＣｒＯ３量に対し重量部において７俤を
添加した後に？−ル ミルによ、９２４時間粉砕混成せしめ、更に蒸留水を加
えて比重１．６に調 製した。
・含浸処理・・・実施例１に同じ
・加熱処理・・・実施例１に同じ
・反復繰返し処理・・・第２含浸処理と全く同一条件に
て１０回繰返し行った。
て１０回繰返し行った。
以上の結果硬度ＨＲＯ６７、曲げ強さ
１０５０ ｋ（７／ｃｒｒ１”、壁掛気孔率２．４６１
、熱伝導率０．００６ Ｃａ１７ｃｍ・ｓｅｃ ’Ｃか
らなる特性を有するセラミックス ・の平板状のもの
を得た。
、熱伝導率０．００６ Ｃａ１７ｃｍ・ｓｅｃ ’Ｃか
らなる特性を有するセラミックス ・の平板状のもの
を得た。
実施例３
・成 形 体・・・純度９９チ、粒度５μｍ以下からな
るＡｔ２０３８６ｆと、ＣａＯ５％加えて安定化した粒
度１０μｍ以下からなる Ｚｒ０２７５ｆの混合微粉末に蒸留水１４０ＣＣｊＪＯ
λ、ボールミルによ、９２４時間粉砕混成し、これに焼
石膏（α型 とβ型半水石膏の混合粉末）を加 えて約４分間攪拌して乳状のスラ リーを調製し、該スラリーをもっ て内径５３朋、肉厚１．５１ＭＬ、筒長１００履からな
る炭素鋼製円筒体の内周 面に、プラスチックからなる円筒 内枠との間に流し込みにより筒長 に亘って厚さ４．３朋の被着体を形 成し、スラリーが固化した時点で 内枠を抜きとることによって成形 体を得た。
るＡｔ２０３８６ｆと、ＣａＯ５％加えて安定化した粒
度１０μｍ以下からなる Ｚｒ０２７５ｆの混合微粉末に蒸留水１４０ＣＣｊＪＯ
λ、ボールミルによ、９２４時間粉砕混成し、これに焼
石膏（α型 とβ型半水石膏の混合粉末）を加 えて約４分間攪拌して乳状のスラ リーを調製し、該スラリーをもっ て内径５３朋、肉厚１．５１ＭＬ、筒長１００履からな
る炭素鋼製円筒体の内周 面に、プラスチックからなる円筒 内枠との間に流し込みにより筒長 に亘って厚さ４．３朋の被着体を形 成し、スラリーが固化した時点で 内枠を抜きとることによって成形 体を得た。
第２含浸処理
・処理液の調製・・・実施例２に同じ
・含浸処理・・・上記被着形成した円筒体を１０〜１０
−ｌｍｍＨｇの減圧下において処理液中に４分間浸漬し
た後、常圧下で 約７分間の含浸処理を行った。
−ｌｍｍＨｇの減圧下において処理液中に４分間浸漬し
た後、常圧下で 約７分間の含浸処理を行った。
、加熱処理・・・実施例１に同じ、但し最高処理温度５
６０℃ 第２含浸処理 ・処理液の調型・・・実施例１に同じ 、含浸処理・・・実施例１に同じ ・加熱処理・・・実施例１に同じ、但し最高処理温補
正 書 特願昭５７−１９８０８３ １、特許請求の範囲を下記のとおり補正する。
６０℃ 第２含浸処理 ・処理液の調型・・・実施例１に同じ 、含浸処理・・・実施例１に同じ ・加熱処理・・・実施例１に同じ、但し最高処理温補
正 書 特願昭５７−１９８０８３ １、特許請求の範囲を下記のとおり補正する。
金属酸化物を含有するか、含有しない半水硫酸カルシウ
ムのスラリーをもって鋳込み成形してなる種々の製品形
状を有する成形体を、第１含浸処理として先ず可溶性ク
ロム化合物なりロム酸に溶解してなる略中性の濃水溶液
に浸漬して含浸処理を行った後、加熱処理を行わしめ、
次いで第２含浸処理としてクロム酸の濃水溶液、または
該濃水溶液に金属酸化物、金に炭化物、・及び金属、窒
化物の１種若くは１種以上を加えたスラリーに再度浸漬
して含浸処理を行った後、再び加熱処理を行わしめ、し
かる後に該第２含浸処理（含浸及び加熱処理→操作を少
なくとも１回以上反復繰返して行わしめることを特徴と
する硫酸カルシウムを骨材とするセラミックスの製造方
法。
ムのスラリーをもって鋳込み成形してなる種々の製品形
状を有する成形体を、第１含浸処理として先ず可溶性ク
ロム化合物なりロム酸に溶解してなる略中性の濃水溶液
に浸漬して含浸処理を行った後、加熱処理を行わしめ、
次いで第２含浸処理としてクロム酸の濃水溶液、または
該濃水溶液に金属酸化物、金に炭化物、・及び金属、窒
化物の１種若くは１種以上を加えたスラリーに再度浸漬
して含浸処理を行った後、再び加熱処理を行わしめ、し
かる後に該第２含浸処理（含浸及び加熱処理→操作を少
なくとも１回以上反復繰返して行わしめることを特徴と
する硫酸カルシウムを骨材とするセラミックスの製造方
法。
２、明細審第７頁第６行「・・・に入れ、」の次に「好
ましくは」を挿入する。
ましくは」を挿入する。
３、 同第８頁第１８行「再び」の次に「好ましくは」
を特徴する 特許出願人 臼井国際産業株式会社 代理人 押 １）良 久（へ）何 −４′Ｉ
を特徴する 特許出願人 臼井国際産業株式会社 代理人 押 １）良 久（へ）何 −４′Ｉ
Claims (1)
- 金属酸化物を含有するか、含有しない半水硫酸カルシウ
ムのスラリーをもって鋳込み成形してなる種々の製品形
状を有する成形体を、第１含浸処理として先ず可溶性ク
ロム化合物をクロム酸に溶解してなる略中性の濃水溶液
に浸漬して含浸処理を行った後、４５０℃以上の温度に
おいて加熱処理を行わしめ、次いで第２含浸処理として
クロム酸の濃水溶液、または該濃水溶液に金属酸化物、
金属炭化物、及び金属窒化物の１種若くは１種以上を加
えたスラリーに再度浸漬して含浸処理を行った後、再び
４６０℃以上の温度において加熱処理を行わしめ、しか
る後に該第２含浸処理（含浸及び加熱処理）操作を少な
くとも１回以上反復繰返して行わしめることを特徴とす
る硫酸カルシラノ、を骨材とするセラミックスの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19808382A JPS5988386A (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | 硫酸カルシウムを骨材とするセラミツクスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19808382A JPS5988386A (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | 硫酸カルシウムを骨材とするセラミツクスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5988386A true JPS5988386A (ja) | 1984-05-22 |
| JPS6135153B2 JPS6135153B2 (ja) | 1986-08-11 |
Family
ID=16385224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19808382A Granted JPS5988386A (ja) | 1982-11-11 | 1982-11-11 | 硫酸カルシウムを骨材とするセラミツクスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5988386A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4970837A (ja) * | 1972-09-18 | 1974-07-09 |
-
1982
- 1982-11-11 JP JP19808382A patent/JPS5988386A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4970837A (ja) * | 1972-09-18 | 1974-07-09 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6135153B2 (ja) | 1986-08-11 |
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