JPS598046A - 二次元の座標を検出する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は座標を検出する装置に関するものである。

従来ある面での座標を検出する装置としては導電性面を
対向させ若干間隙を保持して平行に位置させ、更に両フ
ィルムに各導電性面と通電可能な電極を設けたものが知
られている。この装置は例えば映像を映し出した平らな
面上に設置し、その映像中の位置（座停）をペン先など
で抑圧（クンチ）するとき、同時に重ねあわされた導電
性面を押圧することにより、両電極から座標に対応する
信号を取り出し、Ｎ棟機等へ入力させるようをこしたも
のである。

しかし、該装置では位置座（票の検出の信頼度が今一つ
の確度を必要とし、精度も高くないという欠点があった
。

一方、同一方向に延ひる絶縁部分て区切られた複数の導
電部分を有する２つの層が間隔をおいてそれぞれの導電
部分が直交するように重なっていて、柔軟性をもつため
押圧されたとぎ電気的に接触することができ、そのため
にマ）　ＩＪンクス型のメイノチの機能をもつ装置があ
った。

この装置を−、次元外喋を検出する装置とするには、多
くの電極を必要とし、そのため座脣検出の信頼度が悪く
、又分解能も小さいという欠点かあ１．た。

本発明者はかかる欠点を改良ずへく本発明（・こ到達し
た。即ち、 一抑圧されたときにのみ部分的に電気的に接触させるた
めに充分な柔軟性を有する常時間隔を置いて重なってい
る電位勾配層と検出層において電位勾配層は両側部に対
向する２本の電極部を有する全面導電層からなり、検出
層は上記電極部に直交する方向に延ひる互いに平行な絶
、縁部分で区切られた複数の分割導電部分とそれらの分
割導電部分の一端又は両端に施した電極とからなり、電
位勾配層の電極部間に電圧を印加して押圧された位置に
おける電位勾配層の電位を検出層から検出するとともに
、その電位を検出した検出層の分割導電部分を検出する
ことを特徴とする二次元の座標を検出する装置である。

本発明において電位勾配層は一般に０．０１Ω／口〜Ｉ
ＯＫΩ／口の表面抵抗を有する導電層を用いる。そして
柔軟性を有する導−Ｅ層は、導電性インク／ことえばカ
ーポンベ−７１−をプラスティックフィルム上に塗布し
たり、金属箔をフィルム等に積層したり、フィルム」二
に導電性物質を蒸着して設けることｔこより得られる。

特に後者の場合において、透明基体フィルム」二に金や
インジウム賜酸化物等の導電性薄膜を基若したものは透
明な電位勾配層となり得る。そして電位勾配層の形は一
般に長方形である。

電極は、電位勾１２層の両側部全中）こ設けられ、互い
に平イ１に形成される。電極は導電ペイントを印刷した
り、アルミ箔などの金ｊ萬箔を電位勾配層に積層して設
けることがてきる。又、゛電極部は電位勾配層に用いら
れる導電層よりもはるかに高導電性である必要がある。

検出層は一般に１０■（Ω／口Ｗ下の表［ｎ１抵抗の 導電性を有する導電層であればなんでもよく、へ 電位勾配層と同じものや、アルミなどの導電性の金属箔
を用いれば柔軟（生を有する。検出層の形は屯イ＼“１
層の形と同様一般に長方形である。

検出層の導電部分の分割は一般の公知の方法で達成され
る。たとえばシルクスクリーン法でカーボンペーストを
複数の帯の形状に印刷したり、そのような形成にアルミ
箔や透明導電性フィルム等の全面導電性のものをエツチ
ングする方法がある。従って検出層は一般に絶縁性で十
分な柔軟性をもつ爪板の上に形成される。

導電部分の分割の数は任意であるが多い方が好ましい。

絶縁部分の巾と分割された導電部分の巾は種□　々のも
のが考えられる。一般に分割された導電部分の［１］は
小さいほど位置座標検出の分解能が高くなり好ましい１
、絶縁部分の巾は小さいほど分割された導電部分の１１
】を大きくすることができ好ましいが、絶縁部分の近辺
が押圧されたとき、その絶縁部分に隣接する２つの４電
部分が同時に電位勾配層と電気的に接触してしまう。

しかしながらこのような現象を利用してＷ’Ｅ信号を処
理することにより位置座標の検出の分解能を２倍に高め
ることが可能である。

検出層の少数の絶縁部分及び分割導電部分の１１はそれ
ぞれ均一である必要はないか、一般に同一のものが用い
られる。

電位勾配層と検出層とを押圧されたとぎにのみ、部分的
に電気的Ｑこ接触させるためには一般に次の方法を用い
ることができる。第一はエヤーギヤ、ブを介して対向さ
せる方法てあり、そのために４周（こ絶縁７ペーサ〜を
介して電位勾配層と検出層とを接着する。第二はメ、ン
ユ又はド、ト状の絶縁７ベーサーを電位勾配層又は及び
検出層の表面に形成する。第三は異方性導電ゴムのよう
な感圧性導電コムや圧電性物質を介して積層する等の方
法がある。第四は本発明の二次元座標を検出する装置が
ＣＲＴにフィ。

トするように曲面加工された場合、電位勾配層と検出層
の曲率を外側に配置されるものの方か小さくなるように
する方法である。

本発明による二次元の座−を検出する装置の構成は上記
のり１１＜であるが、以下に二次元の座標を検出する方
法を記述する。

まず電位勾配層の両電極に電圧を印加し、一般に−ノ５
をアースする。電位勾配層には、両電極間に１ｌＩ−ｔ
ｒな等電位線か形成さ１する。

そして、１Ｅ位勾配層と検出層か市なっている部分のう
ちある一点が押圧されると検出層から電位勾配層の位置
に対する電圧が検出される。

同時に押圧された部分の検出層の分割導電部分を検出す
ることができるので二次元座標が検出される。

押圧された検出層の分割導電部分の検出法としては、多
チャンネルのＡ７Ｄ変換装置等がある。

本発明では検出層から検出される電位がゼロの場合、即
ちアース側’ｔ　％の部分を押圧した場合、非入力状部
と同しになるので、座標を検出したい面より外側に電極
部が位置するようにして、電位勾配層と検出層が事な−
、ている部分は電位がゼロとなる部分を含ないようにす
る必要がある。

１．１．−にのように本発明は一方向が分割された導電
部分のどこが押圧されたかを検出する方式であるため検
出の信頼度が高く、又、残りの一方向は押圧された位置
の電圧を検出するため分解能が高いという特徴がある。

従って、ワード１０セ、サーなどの特に行の検出に信頼
度の高さを要求するンヌテムの位置−検出の装置として
ＩＩＴ適である。

以下本発明の一例を示す。

第一図に示すごとく、ポリメチルメクアクリレート（厚
み約５朋）の基板１に電位勾配層２を形成するインジウ
ム錫酸化物の薄膜層を基若した１２５μｍの二軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフィルム３を設置し、電位勾
配層の両側部には銀ペーストで電極４．４′を形成した
。

次にポリカーボネート（厚み０．５−戸）をスペーサー
５とし、その上に金の薄膜層が１２５μｍ１】の二軸１
４　伸ポリエチレンテレフタレートフィｌレム６に蒸着
さノｔた透明導電性フィルムをケミカルエツチングして
分割導電部分７．７′、７″からなる検出層を形成した
。分割導電ｊ侶分シこ番よそれぞれの一端に電極８．８
′、８″　　　を施した。

電位勾、在苦にはダイセル化学工業参」製、透明導電性
フィルムセレ、りに−ＥＣを使用した。

表面抵抗は約３５０Ω／口、光線透過率は約８０％であ
った。検出層は同しくダイセル化学工業社製透明導電性
フィルムセレ、りＧ−３４ＦＸを使用した。表面抵抗は
約２０Ω／口、光線透過率は約７０％であった。従って
、本発明の実施例の二次元の座標を検出する装置は透明
で光線透過率は約５５％で、ＣＲＴ、ＥＬ及びプラズマ
ディスプレイ等のディスプレイσ）前面しこ設置する二
次元座標を検出する装置として、充分な透明性を有して
いた。

次に、電極４に＋５■印加し、電極４′をアースした。

フィルム６を押圧すると押圧した位１置に対応する電位
勾配層の電位が押圧した位置しこ対応する検出層の分割
４″ＦＬ部分の電極力・ら検ｌＪ３され、押圧した位置
牢固を決定すること力；てぎた。

【図面の簡単な説明】

第一図は本発明の実施例を示す図である。□１　　基　
　板 ２　電位勾配層 ３　電位勾配層の基板 ４．４′　電位勾配層の電極 ５　スペーサー ６、　検出層の基板 ７．７′、７″　　　検出層の分割導電部分８．８’　
、−８”　　　分割導電部分のＷ極特許出願人ダイセル
化学工業株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 押圧されたときにのみ部分的に電電的に接触させるため
   に充分な柔軟性を有する常時間隔を置いて重なっている
   電位勾配層と検出層において、電位勾配層は両側部に対
   向する２本の電極部を有する全面導電層からなり、検出
   層は上記！極部に直交する方向に延びる互いに平行な絶
   縁部分で区切られた複数の分割４電部分とそれらの分割
   導電部分の一端又は両端に施した電極とからなり、電位
   勾配層の電極部間に電圧を印加して、押圧された位置に
   おける電位勾配層の電位を検出層から検出するとともに
   、その電位を検出した検出層の分割導電部分を検出する
   ことを特徴とする二次元の座標を検出する装置。