JPS5978157A - アスコクロリン類縁体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なアスコクロリン類縁体、さらに詳しくは
、一般式 〔式中、波線１はシス、トランス両異性体を示し、ｋｌ
はオキソ基または低級アルキレンジメキシ基、ｋ２はテ
トラヒドロピラニルオキシ基、水酸基、低級アルカノイ
ルオキシ基、ハロゲン原子、式で示される基を意味する
〕 で示されるアスコクロリン類縁体に関する。　　　　゛
アスコクロリンは天然物から抽出され、その化学名は２
，３．４−）ジメチル−３−〔３−メチル−５−（２，
６−シヒドロキシー３−クロロ−４−メチル−５−ホル
ミルフェニル）−１Ｅ、３Ｅ−ペンタジェニル〕シクロ
ヘキサノンであって、次の構造式 で示されるトランス体化合物である（Ｔｈｅ　Ｊｏｕｒ
ｎａｌｏｆ　Ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ、Ｖｏｌ、２１　
（ＮＯ，９）　、　５４０頁および５４５頁（１９６８
年９月）、同Ｖｏ１．２２（Ｎｎ１０）、５１１頁（１
９６９年１０月）を参照）。

本発明の上記一般式（Ｉ）の化合物はこのアスコクロリ
ンの類縁体であり、アスコクロリンの構造異性体（シス
体）も含み、本発明者らにより初めて合成された新規化
合物である（なお、本発明の化合物（ｒｘ天然のアスコ
クロリンと異なり４位の不斉炭素のラセミ体である）。

本発明のアスコクロリンシス体異性体は抗ウィルス活性
を有し、抗ウィルス剤として有用であり、また他の化合
物はそのシス体異性体ならびに対応するトランス異性体
の合成中間体として有用である。

前記一般式（Ｉ）において、Ｒ１で示される低級アルキ
レンジオキシ基としては代表的には、エチレンジオキシ
が挙げられ、Ｒ２で示される低級アルカノイルオキシ基
としてはホルミルオキシ、アセチルオキシ、プロピオニ
ルオキシ、ブチロイルオキシ基など、またハロゲン原子
としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
が含まれる。

本発明の化き物は種々の方法で製造され得るが、好まし
い方法としては以下の反応式で示される方法がある。

〔反応式−■〕

（■）　　　　　　　　（■） ０ （ＶＩ）　　　　　　　　　　（Ｉａ）〔式中、波線は
前記に同じ、ＴＨＰＯはテトラヒトピラニルオキシ基を
意味する〕 上記反応式−■に示すように、３−メチルベント−２−
エン−４−イン−１−オール（ＩＩ）に不活性溶媒中適
当な酸性触媒の存在下にジヒドロピランヲ反応すセて３
−メチルベント−２Ｅ−エン−４−イン−１−オールテ
トラヒドロピランエーテル（ＩＩＩ）を得る。用いられ
る不活性溶媒としては塩化メチレン、クロロホルムなど
のハロゲン化炭化水素類、メチルエーテル、エチルエー
テルなどのエーテル類が挙られ、酸性触媒としては塩酸
、硫酸などの無機酸、酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸な
どの有機酸が挙げられる。

上記化合物（ＩＩＩ）を常法によりヒトロスタネ−ジョ
ンを行ない、ついで水素化ト’Ｊ　（ｎ＋−ブチル）す
すなどを作用させ、さらにｎ−ブチルリチウムなどで金
属交換後、銅複塩に導き、これに３，４−ジメチルシク
ロヘキセンを作用させて３，４−ジメチル−３−（３−
メチル−５−テトラヒドロピラニルオキシ−ＩＥ、３Ｅ
Ｚ−ペンタジェニル）シクロヘキサノン（ＩＶ）を得る
。

この化合物（ＩＶ）を、ベンゼンなどの適当な溶媒中、
水素化す）　ＩＪウムなどの強塩基の存在下にギ酸メチ
ルエステル、ギ酸エチルエステルなどのギ酸エステルを
作用させて３，４−ジメチル−６−ヒドロキシメチレン
−３−（３−メチル−５−テトラヒドロピラニルオキシ
−ＩＥ、３ＥＺ−ペンタジェニル）シクロヘキサノン（
Ｖ）を得る。

この化合物（ｖ）にテトラヒドロフランなどの適当な溶
媒中、ヨウ化メチル、ジメチル硫酸などのメチル化剤を
反応させて２，３．４−）ジメチル−６−ヒドロキシメ
チレン−３−（３−メチル−５−テトラヒドロピラニル
オキシ−１Ｅ、３ＥＺ−ペンタジェニル）シクロヘキサ
ノン（ＶＩ）を得る。

ついで該化合物（ＶＩ）を水酸化ナトリウムなどを用い
て加熱分解して、本発明の化合物の１種である２、　３
．４−トリメチル−３−（３−メチル−５−テトラヒド
ロピラニルオキシ−ＩＥ、３ＥＺ−ペンタジェニル）シ
クロヘキサノン（Ｉａ　）が得られる。

上記の方法で得られる化合物（Ｉａ　）は下記反応式で
示される方法により本発明の他の化合物に誘導されうる
。

〔反応式−■〕

０ （Ｉａ）　　　　　　　　　（Ｉｂ） 〔式中、波線およびＴ　ｉ（Ｐ　Ｏは前記に同じ、ＲＣ
Ｏは低級アルカノイル基、Ａはエチレンなどの低級アル
キレン基を意味する〕 上記反応式−■において、化合物（Ｉａ　）を適当な不
活性溶媒中で酸性触媒の存在下に処理して本発明の化合
物の１種である２、３．４−１−ジメチル−３−（３−
メチル−５−ヒドロキシ−ＩＥ、３ＥＺ−ペンタジェニ
ル）シクロヘキサノン（Ｉｂ）が得られる。用いられる
不活性溶媒としては水、メタノール、エタノールなどの
低紗アルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンな
どのエーテル類などが挙げられる。酸性触媒として（ｄ
塩酸、硫酸などの無機酸、酢酸、ｐ−トルエンスルホン
酸などの有機酸が含まれ、それらの使用量はとくに限定
されないが通常過剰量が用いられる。上記反応は室温〜
７０°Ｃ程度、好ましくは３０〜６０°Ｃにて１〜５時
間程度で完了する。

該化合物（Ｉｂ）を低級アルカノイル化１〜で対応する
他の化合物の２．３．４−）ジメチル−３−（３−メチ
ル−５−１氏級アルカノイＪレオキシーＩＥ。

３ＥＺ−ペンタジェニル）シクロヘキサノン（ＩＣ）を
得る。この反応は通常のアシル化反応の条件下に行なわ
れ、適当な不活性溶媒中または無溶媒下、塩基性化合物
の存在下に低級アルカン酸の反応性誘導体、例えば低級
アルカン酸無水物またはハライドを作用させる。不活性
溶媒としては塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲ
ン化炭化水素類、ピリジンなどが挙げられ、また塩基性
化合物としては酢酸ナトリウムなどのアルカリ金属化合
物、トリエチルアミン、ピリジンなどの第三級アミン類
が挙げられる。用いられる低級アルカン酸の反応性誘導
体は化合物（Ｉｂ）に対し少なくとも等モル量、通常過
剰量で使用する。上記反応は通常０〜５０°Ｃ１好まし
くは室温付近にて、１〜１８時間程度で完了する。

上記化合物（ＩＣ）に、無溶媒まだはクロロホルム、塩
化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類、ベンゼンなど
の芳香族炭化水素類などの適当な不活性溶媒中、無水パ
ラトルエンスルホン酸、硫酸などの酸触媒およびメタノ
ール、エタノールなどの低級アルコールの存在下に、低
級アルキレンジオキシ化剤を作用させて、対応する１、
１−低級アルキレンジオキシー２，３．４−トリメチル
−３−（３−メチル−５−低級アルカノイルオキシ−Ｉ
Ｅ、３ＥＺ−ペンタジェニル）シクロヘキサン（Ｉｄ）
を得る。

用いられる低級アルキレンジオキシ化剤としては、例え
ば、一般式 〔式中、Ａは前記に同じ、ｋ′はメチル、エチル、プロ
ピルなどの低級アルキル基を意味する〕で示される化合
物が挙げられる。この低級アルキレンジオキシ化剤の使
用量は化合物（ＩＣ）に対して少なくとも等モル量、通
常過剰量である。

まだ低級アルコールの使用量は化合物（ＩＣ）に対して
過剰量、好ましくは１〜１．２倍モル量程度である。上
記反応はＯ〜５０°Ｃ程度、好ましくは室温付近にて２
〜６日間日間例て完了する。

上記化合物（Ｉｄ　）は以下の反応式で示すように、加
水分解後、シスおよびトランス体に分割され得る。

〔反応式−■〕

〔式中、波線、ＲおよびＡは前記に同じ〕化合物（Ｉｄ
　）を通常のエステル加水分解反応の条件下に加水分解
して対応する１、１−低級アルキレンジオキシー２，３
．４−トリメチル−３−（３−メチル−５−ヒドロキシ
−ＩＥ、３ＥＺ−ペンタジェニル）シクロヘキサン（Ｉ
ｅ、）を得る。すなわち、化合物（Ｉｄ　）を通常の不
活性溶媒中、塩基性化合物で処理する。不活性溶媒とし
ては水、メタノール、エタノールなどの低級アルコール
類が挙げられ、塩基性化合物としては、水酸化す）　Ｉ
Ｊウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、
水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなどのアルカリ
土類金属水酸化物、またはアルカリ金属またはアルカリ
土類金属の炭酸塩などの弱酸塩が挙げられる。上記反応
は０〜５０°Ｃ１好ましくは室温にて１〜１８時間程時
間性なわれる。

化合物（Ｉｄ　）から化合物（Ｉｅ）を得るには、上記
加水分解方法の能に、水素化アルミニウムリチウムを作
用させる通常のエステル還元方法、まだはグリニヤ試薬
を用いるアルコール製造方法の反応条件を適用すること
もできる。

上記得られた化合物（Ｉｅ）はシスおよびトランス両異
性体の混合物として得られるが、通常の分離手段により
各異性体、すなわち、トランス体の１．１−低級アルキ
レンジオキシ−２，３，４−トリメチル−３−（３−メ
チル−５−ヒドロキシ−ＩＥ、３Ｅ−ペンタジェニル）
シクロヘキサン（Ｉｅ−１）およびシス体の１，１−低
級アルキレンジメキシー２．３．４−）リメチル−３−
（３−メチル−５−ヒドロキシ−ＩＥ、３Ｚ−ペンタジ
ェニル）シクロヘキサン（Ｉｅ−２）に分離される。

この分離手段としては、シリカゲル、アルミナなどを担
体とする中圧または高圧液体クロマトグラフィなどが挙
げられる。

上記分離された各異性体からさらに本発明の他の化合物
に導かれる。例えば化合物（Ｉｅ−１）から下記反応式
（で示す方法で種々の化合物が製造される。

〔反応式−■〕

ノ覧 （Ｉｅ−１）　　　　　　　　　　　　（Ｉｆ）〔式中
、Ａは前記に同じ、Ｘはハロゲン原子を意味する〕 化合物（Ｉｅ−１）の水酸基を活性化したのち、適当な
不活性溶媒中、塩基性化合物の存在下にハロゲン化剤を
作用させれば、１，１−低級アルキレンジオキシー２，
３．４−トリメチル−３−（３−メｆルー　５−ハ０）
ｆ／　−Ｉ　Ｅ　、　３　Ｅ−ペンタジェニル）シクロ
ヘキサン（■１）が得られる。

化合物（Ｉｅ−１）の水酸基の活性化けＰ−）シルハラ
イド、ベンゼンスルホニルハライドなどの活性化剤を用
い、メチルエーテル、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ランなどのエーテル類、ヘキサメチルリン酸トリアミド
（ＨＭＰＡ）などの溶媒中、０〜５０°Ｃにて３０分〜
６時間程度反応させることにより行なわれる。

ハロゲン化に用いられる不活性溶媒としては、メチルエ
ーテル、エチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエ
ーテル類が挙げられる。塩基性化合物としてはブチルリ
チウムなどのアルキルリチウム、水素化ナトリウムなど
が挙げられ、その使用量は化合物（Ｉｅ−１）　に対し
て少なくとも等モル程度である。−１だハロゲン化剤と
しては、中性まだは塩基性下で用いることのできる塩化
リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウムなどのハロゲ
ン化リチウムなどが挙げられ、その使用量Ｉｒｉ化合物
（Ｉｅ−１）に対し少なくとも等モル、好ましくは１〜
２倍モル程度である。上記反応は０〜５０°Ｃにて１〜
１８時間程度で完了する。

」−配化合物（Ｉｆ）に通常の脱ハロゲン化水素反応の
条件下に１，５−ジメトキシ−３−メチル−１゜４−シ
クロへキサジエン（■）を反応させて対応する１、１−
低級アルキレンジオキシー２．３．４−）ジメチル−３
−〔３−メチル−５−（２，６−シメトキシー４−メチ
ル−２，５−シクロへキサジェニル〕−ＩＥ、３Ｅ−ペ
ンタジェニル〕シクロヘキサン（Ｉｇ）が得られる。

すなわち、化合物（Ｉｆ）に不溶性溶媒中、塩基性化合
物の存在下に化合物（■）を反応させる。用いられる不
活性溶媒としてはテトラヒドロフラン、ヘキサメチルリ
ン酸トリアミドなどが挙げられ、塩基性化合物としては
−に記化合物（Ｉｅ−１）のハロゲン化における場合と
同様のものが挙げられる。

化合物（■）は通常化合物（１ｆ）に対して少なくとも
等モル量、好ましくは１〜２倍モル量程度用いる。上記
反応は一１５０°Ｃ〜室温、通常−１２０°Ｃ〜水冷下
、好ましくは−１００〜−５０°Ｃにて１０分〜３時間
程度で完了する。

上記化合物（Ｉｇ　）にクロル化剤を作用させれば対応
する１、１−低級アルキレンジオキシー２．３．４−ト
リメチル−３−〔３−メチル−５−（２，６−シオキソ
ー３，５−ジクロロ−４−メチルシクロヘキシル）−１
Ｅ、３Ｅ−ペンタジェニル〕シクロヘキサン（Ｉｈ）に
導かれる。

すなわち、化合物（Ｉｇ）を、アセトン、ジメトキシエ
タン、ジメチルスルホキサイドなどの不活性溶媒、好ま
しくはジメチルホルムアミド−水の混合溶媒中、炭酸ナ
トリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カルシウムなどの
塩基性化合物の存在下に、Ｎ−クロロコハク酸イミドな
どのクロル化剤を少なくとも２倍モル量、好丑しくけ２
〜２．５倍モル量作用させることにより化合物（Ｉｈ）
が得られる。この反応は、通常０〜７０°Ｃ１好捷しく
は０°Ｃ〜室温付近にて６〜１８時間程時間表われる。

なお、この方法で得られる化合物（Ｉｈ）にはケト−エ
ノール互変異性が存在し、３，５−ジクロロ−４−メチ
ル−２，６−シオキソシクロヘキシル基を有するものＣ
ケト体）と２−ヒドロキシ−３，５−シクロロー４−メ
チル−６−オキソ−１−シクロへキセニル基を有するも
の（エノール体）があり、いずれも本発明の範囲に含ま
れる。

上記化合物（Ｉｈ　）をテトラヒドロフラン、ジメトキ
シエタンなどの適当な不活性溶媒中、強塩基性化合物で
処理して対応する１、１−低級アルキレンジオキシー２
．３．４−）リメチル−３−〔３−メチル−５−（２，
６−シヒドロキシー３−クロロ−４−メチルフェニル）
−１Ｅ、３Ｅ−ペンタジェニルコシクロヘキサン（Ｉｉ
）を得る。強塩基性化合物としては１，８−ジアザビシ
クロ［５，４，０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）、１，５
−ジアザビシクロ［４，３，０］ノネン−５（ＤＢＮ）
などが挙げられ、化合物（Ｉｈ　）に対して少なくとも
等モル量、好ましくは５モル程度用いられる。この反応
は通常５０〜１００°Ｃ１好ましくは６０〜８０°Ｃに
て１〜５時間程度、好ましくは３時間前後行われる。

前記反応式−■において出発物質としてトランス体の化
合物（Ｉｅ−１）の代りにシス体の化合物（Ｉｅ−２）
あるいはシス、トランス体混合物の化合物（Ｉｅ）を用
いても同様にしてそれぞれ対応する化合物が得られる。

例えば、化合物（Ｉｅ−２）を用いて反応式−■と同様
にして下記式 〔式中、Ａは前記に同じ〕 で示される対応するシス体の１，１−低級アルキレンジ
オキシー２，３．４−１−リメチル−３−〔３−メチル
−５−（２，６−シヒドロキシー３−クロロ−４−メチ
ルフェニル）−１Ｅ、３Ｚ−ペンタジェニルコシクロヘ
キサン（Ｉｉ’）が得られる。

この化合物（■ｉ′）から下記反応式に示すようにさら
に他の化金物が得られる。

　　０ （■′ｉ′）、／（Ｉｊ） 〔式中、Ａは前記に同じ〕 化き物（Ｉｉ’）を適当な不活性溶媒中でグリニヤ試薬
と反応させたのち、ホルミル化剤と反応させて１，１−
低級アルキレンジオキシ−２，３，４−）リメチル−３
−〔３−メチル−５−（２，６−シヒドロキシー３−ク
ロロ−４−メチル−５−ホルミルフェニル）−１Ｅ、３
Ｚ−ペンタジェニルコシクロヘキサン（Ｉｊ）を得、こ
れを脱ケタール化して２．３．４−１−リメチル−３−
〔３−メチル−５−（２，６−シヒドロキシー３−クロ
ロ−４−メチル−５−ホルミルフェニル）−１Ｅ、３Ｚ
−ペンタジェニルコシクロヘキサノン［ＩＪを４る。

上記化合物（Ｉｉ’）とグリニヤ試薬との反応は、メチ
ルエーテル、エチルエーテル、テトラヒドロフランなど
のエーテル類などの不活性溶媒中にて、エチルマグネシ
ウムクロライド、エチルマグネシウムブロマイドなどの
グリニヤ試薬を少なくとも２倍モル量用い、０〜５０°
Ｃ１好ましくは室温付近にて、１時間程度、好ましくは
１０〜３０分程度行なわれる。ついでこれに少なくとも
等モル量のホルミル化剤、例えばトリエトキシメタン、
トリメトキシメタンなどを加えて５０〜１５０°Ｃ程度
、好ましくは１００°Ｃ＃Ｊ後で約１〜６０分間加熱し
て化合物（Ｉｊ）を得る。この化合物は単離しだのちま
たは単離せずにつぎの脱ケタール化反応に付す。

化合物（Ｉｊ）の脱ケタール化は、過塩素酸、塩酸、ｐ
−）ルエンスルホン酸などを１〜５倍モル、好丑しくは
約２倍モル用い、水冷下、数分〜３０分間程度、好まし
くは１０分間前後反応させることにより行・なわれる。

ここで得られる化合物（Ｉｋ）は天然から得られるアス
コクロリンの構造異性体（シス体）である。

なお、前記反応式−Ｖに示される反応において出発物質
としてシス体である化合物（Ｉｉ’）の代りにそのトラ
ンス異性体（Ｉｉ）を用いて同様の反応条件下に処理す
れば公知のアスコクロリンの４位ラセミ体が得られる。

つぎに実施例を用いて本発明の化合物およびその製法を
さらに具体的に説明する。

実施例１ ２．３．４−トリメチル−３−（３−メチル−５−テト
ラヒドロピラニルオキシ−ＩＥ、３ＥＺ−ペンタジェニ
ル）シクロヘキサノン（Ｉａ）の製造＝（ａ）無水エチ
ルエーテル１００ｍ１中に３−メチルベント−２−エン
−４−イン−１−オール５．２７（５４ミリモル）とジ
ヒドロピラン６．９ｍ／（７６ミＩＪモル）を溶解し、
水冷下、触媒量のＰ−１ルエンスルホン酸１水和物を加
え、室温にて一夜攪拌する。反応後、５％炭酸カリウム
水溶液および食塩水で洗浄し、炭酸カリウムで乾燥後、
エチルエーテルを減圧留去する。残渣を減圧蒸留して３
−メチルベント−２Ｅ−エン−４−イン−１−オールテ
トラヒドロピランエーテル８．４７ｙ（８６゜９％）を
得る。沸点１０４〜１０７°Ｃ／　］　ＯｍｍＨＰｉ１
ｍ ＩＲＩ／　　　：３２９ｏ（ｍ）、２９５０（Ｓ）ａｘ 、２８６０（ｍ）、２０９０（Ｗ）、１４４０（ｍ）、
１３８０（ｍ）、１　：３５０　（’ｍ　）、１３２゜
（Ｗ）、１２６０（Ｗ）、１２００（ｍ）、１１５８（
ｍ）、１１１９（Ｓ）、１０１０７８（，１０１０５５
（，１０２２（Ｓ−）、９７０（ｍ）、９０５（ｍ）、
８６５（ｍ）、８１ｏ（ｍ）ＮＭＲδ（ＣＣ１４）：１
．６１　（ｂｒ、ｓ、６Ｈ）、１．８２（Ｓ、３Ｈ）、
３．２１〜４．２１　（ｍ　、　４Ｈ）、４．５６　（
ｂｒ、ｓ、ＩＨ）、５．９８（ｂｒ、、ｔ。

ＩＨ，Ｊ＝７Ｈｚ） （ｂ）フルコン’ｊｆＣｒ流下、３−メチルベント−２
Ｅ−エン−４−イン−１−オールテトラヒドロピランエ
ーテル２．０ｙ（１１ミＩＪモル）にＭｉのアゾビスイ
ソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）を加え、さらに水素化ト
リーｎ−ブチルすず［（ｎ−Ｂｕ）３ＳｎＨ〕４．４．
ｍ／（１’６．５ミリモル）を加える。この混合物を１
００°Ｃにて３０分間反応させたのち、同温度にて３０
分間かけて過剰の（ｎ−Ｂｕ）３　ＳｎＨを減圧留去す
る。その残留物に無水テトラヒドロ７　ラン（Ｔ　ＨＦ
　）　２０−を加え一７８°ｃに冷却後、ｎ−プチルリ
ウム８．８ｍｊ（１，５ＯＮ、　　１３．２ミリモル）
を２０分間で滴下し、さらに４０分攪拌する。これに無
水エチルエーテル１５ｍ１．へ−ｔ−サメチル亜リン酸
トリアミド（ＨＭＰ　）　３．４ｒｎｌ（１８，４ミリ
モル）およヒｘ−ヘンチニル［１，２Ｆ（９２ミリモル
）の混液を１５分間にて滴下し、２時間攪拌する。得ら
れた濃緑色の混液に３，４−ジメチルシクロヘキセン０
．８Ｆ（６，４ミリモル）の無水エチルエーテル１〇−
溶液を滴下後、１．５時間攪拌する。ついでこれに飽和
塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止させ、室温
に昇温しでエチルエーテルで抽出する。抽出液を水、食
塩水　　　　゛で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を減圧留去する。残渣をクロマトグラフィ（シリカ
ゲル７０７、ヘキサン：酢酸エチル−１００：２〜１０
で溶出）にかけ、３，４−ジメチル−３−（３−メチル
−５−テトラヒドロピラニルオキシ−１Ｅ、３ＥＺ−ペ
ンタジェニル）シクロヘキサノン２ １．１７Ｆを得る。ｎＤ　１．５０９５元素分析値：　
Ｃ１９Ｈ３００３として計算値（％）：Ｃ，７４，４７
；Ｈ，９，８６実測値（！ｔｌＪ）：Ｃ，７４，２３；
Ｈ，ＩＯ，０９（Ｃ）鉱油中水素化ナトリウム０．４５
　ｙ−（９，４ミリモル）溶液をペンタンで洗浄後、無
水ベンゼン８ｍｌＫ懸副させる。この懸詞液に、水冷下
、３，４−ジメチル−３−（３−メチル−５−テトラヒ
ドロピラニルオキシ−１１”：、３Ｆ、ｚ−ペンタジェ
ニル）シクロへキサノン１．７４　Ｆ　（５，７ミリモ
ル）およびギ酸エチル０．７ｍ１（８，７ミリモル）の
無水ベンゼン８ｒｎｌ溶液を一気に加える。この混液を
約１０°Ｃにて２時間反応させたのち、水を加えて過剰
の水素化ナトリウムを分解し、ついでＩＮ塩酸にてｐＨ
４とし、エチルエーテルで抽出する。抽出液を箱型炭酸
す）　ＩＪウム水溶液、水および食塩水にて洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥後、エーテルを減圧留去して油状
物質の３，４−ジメチル−６−ヒドロキシメチレン−３
−（３−メチル−５−テトラヒドロピラニルオキシ−Ｉ
Ｅ、３ＥＺ−ペンタジェニル）シクロへキサノン１．７
２を得る。このものは精製することなく次工程に用いる
。

（ｄ）ジイソプロピルアミン１．７　ｍｌとｎ−ブチル
リチウム８．５ｒｎｌ（１，５ＯＮ）より調製されたリ
チウムジイソプロピルアミドの無水Ｔ　ＨＦ　１２　ｍ
ｌ溶液に、−２０°Ｃにて上記（Ｃ）で得られた化合物
の無水ＴＨＦ６ｍ／溶液を徐々に滴下する。同温度で２
０分間攪拌後、ヨウ化メチル０．４　ｍｌ　（６，４ミ
リモル）および無水ＨＭ　Ｐ　Ａ　２．２　ｍｌを加え
、１．５時間さらに攪拌する。反応後、飽和塩化アンモ
ニウム水溶液を加え、室温に戻したのち、反応液を１Ｎ
塩酸でｐＨ５とし、エチルエーテルで抽出する。抽出液
を水および食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧留去して２，３．４−トＩＪメチル−６
−ヒドロキシメチレン−３−（３−メチル−５−テトラ
ヒドロピラニルオキシ−ＩＥ。

３ＥＺ−ペンタジェニル）シクロへ−１１−／ン１．７
５７を油状物質として得る。このものは精製することな
く次工程に用いる。

（Ｃ）２％水酸化すＩ−ＩＪウム水溶液２３　ｍｌ中に
上記ｉｄ）で得られた化合物１．７５２を加え、４時間
加熱還流する。この反応液に水を注ぎ、ＩＮ塩酸でｐｒ
−Ｔ５としエチルエーテルにて抽出する。抽出液を水お
よび食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を減圧留去する。その残渣をクロマトグラフィ（シリカ
ゲル６０７、ヘキサン：酢酸エチル−１００：４にて溶
出）にかけ、目的とする標２ 配化合物１．０ｙ（５４，９％）を得る。ｎＤｌ、５５
４ 元素分析値：　Ｃ２０Ｔ（３２０３として計算値（％）
：Ｃ，７４，９６；’Ｈ，１０，０７実測値（％）：Ｃ
，７４，５３，Ｉ（，１０，１４ｉ１ｍ ＩＲν　　　：２９３５（Ｓ）、２８７０（Ｓ）ａＸ 、２７２０（Ｗ）、１７１５（Ｓ）、１６１５（Ｗ）、
１４５０（ｍ）、１３８２（ｍ）、１３７２（ｍ）、１
３３０（Ｗ）、１２７０（Ｗ）、１２ｏｏ（ｍ）、１１
８０（ｍ）、１１６０（ｍ）、１１３０　（ｍ　）、１
１１５（ｓ　）、１０１０７５（，１０２５（Ｓ）、９
７０（ｍ）、９４５（Ｗ）、９０５（ｍ）、８７０（ｍ
）、８１０（ｍ）、７８０（ｗ） ＮＭＲδ（ＣＣ’４）：１．５３〜２．５４（２４Ｈ。

ｍ、　０．７２　、０．８５　、１．５８　、１．７８
　、１．８３にて）、３．１２〜４．３２　（ｍ　、　
４Ｈ）、４．５３（ＩＨ、ｓ　）、５．１９〜６．４８
（ｍ、３Ｈ）実施例２ ２．３．４−）ジメチル−３−（３−メチル−５−ヒド
ロキシ−ＩＥ、３ＥＺ−ペンタジェニル）シクロヘキサ
ノン（Ｉｂ　）の製造： 上記実施例１で得られた化合物（Ｉａ）１．ＩＰを酢酸
：ＴＨＦ：水−２：２：１の混液３０ｍ１中に溶解し、
４０〜５０°Ｃで３時間攪拌する。その反応液に水を注
ぎ、エチルエーテルで抽出する。抽出液を箱乗炭酸ナト
リウム水溶液、水および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する。その残渣をクロマ
トグラフィ（シリカゲル１０７、ヘキサン：酢酸エチル
−１００：５〜１００にて溶出）にかけて標記化合物０
．８＋ ｚＭ　　２３６ 元素分析値：　Ｃ１５Ｈ２４０２として計算値（％）：
Ｃ，７６，２３ｉ１−１．１０．２４実測値（％）：Ｃ
，７４，８４：Ｈ，１０，０１ｉ１ｍ ＩＲν　　　：３４１０（ｍ）、２９８０（Ｓ）ａＸ ２８８０（Ｓ）、１７１０（Ｓ　）、１４５０　（ｍ）
、１３８２（ｍ）、１３７５（ｍ）、１３６０（Ｗ）、
１３３０（Ｗ）、１２９５（Ｗ）、１２７０（Ｗ）、１
２３０（ｗ）、１２０５（Ｗ）、１１６５（Ｗ）、１１
１０（Ｗ）、１０’８０（ｍ）、１．０１５（Ｓ）、９
７０（Ｓ） ＮＭＲδ（ＣＣＩ　４．）：　０．７１　（ｓ　、　６
　Ｈ）、０．８２（Ｓ、３Ｔ（）、０．９２〜１．１１
　　（ｍ　、　３Ｉ−（）、１．７２と１．８０　（ｂ
ｒ、、　Ｓ　、６Ｈ）　、２．１１〜２．５１（ｍ、３
ｌ−１）、２．６５　（ｂｒ、、ｓ、ＪＴ（）、４．１
１（ｄ　、ＩＨ，Ｊ＝７Ｈｚ）、５．１１−５．６９　
（ｍ。

２１−１　）、　５．８９′と６．２２（ｄ、ＩＩ−（
、Ｊ＝１７Ｈｚ）実施例３ ２．３．４−トリメチル−３−（３−メチル−５−アセ
チルオキシ−ＩＥ、３ＥＺ−ペンタジェニル）シクロヘ
キサノン（丁ｃ：Ｒｃｏ＝ＣＨ３Ｇｏ）の製造： 上記実施例２にて得られた化合物（ＩＩ））６．１！ｉ
’（２５，８ミリモル）を無水ピリジン５０ｍ１中に溶
解し、無水酢酸３　ｍｌを加える。この混液を室温にて
一夜攪拌したのち、希塩酸で酸性とし、エチルエーテル
で抽出する。抽出液を水および食塩水で（３１） 洗浄し、流酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去する。

その残渣をクロマトグラフィ（シリカゲル１５０グ、ヘ
キサン：酢酸エチル−１００：１０〜５０にて溶出）に
づ）けて標記化合物６，３グ（８２ ７，７％）を得る。ｎＤ　１．５１１６元素分析値：Ｃ
１７Ｈ２６０３として 計算値（％）：Ｃ，７３，３５：Ｈ，９，３７実測値（
％）：Ｃ，７２，７９：Ｈ，９，３７ｉ１ｍ Ｉ　Ｒｖ　　　　：　２９７０　（ｍ）、２９４０　（
ｍ）ａＸ 、２８７５（ｍ）、１７４０　（Ｓ　）、１７　］、　
］　（Ｓ）、１６４５（ｗ）、１４５０（ｍ）、１３７
５（ｍ）、１３６５（ｍ）、１３３０　（ｍ　）、１２
３５（Ｓ　）、１１６５（Ｗ）、１１ｌ１０５（’、１
０８０（Ｗ）、１０２０（’ｍ）、９７０（ｍ）、９０
５（Ｗ）、８２０（Ｗ） ＮＭＲδ（ＣＣＩ４）：０．６２−０．９３　（ｍ　、
　９Ｔ（）、　１．８１（ｂｒ、、ｓ、６Ｈ）、　１．
９８（Ｓ、３Ｔ（）、　　２．１　０　〜２．５０　　
（ｍ、　　３ｌ−１）　　、　　４，５８（ｄ、２Ｈ、
Ｊ　＝　７　ｆ（ｚ）、５．２０〜５．７０　（ｍ　、
　２Ｈ）、５．８５と６．２８（ｄ　、’ｌＨ，Ｊ＝１
７Ｈｚ）（３２） 実施例 １．１−エチレンジオキシ−２，３，４〜トリメチル−
３−（３−メチル−５−アセチルメキシ−ＩＥ、３ＥＺ
−ペンタジェニル（シクロヘキサン（Ｉｄ：Ａ−エチレ
ン、ＲＣＯ＝ＣＨ３Ｃｏ　）の製造二上記実施例３で得
られた化合物（ＩＣ）６．３　Ｐ　（２２，６ミリモル
）を２−メトキシ−１，３−ジオキソラン３１ｍ１中に
溶解し、メタノール０．４５ｍ／ヲ加える。これに、Ｐ
−）ルエンスルホン酸１水和物１ｏ　ｏ　ｍｙを無水ベ
ンゼン３０ｒｎｌ中に加えて脱水した溶液９　ｍｌを加
え、室温にて４日間反応させる。

途中、メタノール０．３−およびｐ−トルエンスルホン
酸５ｍｌとを３回加える。反応後、反応液を箱型炭酸ナ
トリウム水溶液中に注ぎ、エチルエーテルで抽出する。

抽出液を水および食塩水で洗浄し、炭酸カリウムで乾燥
後、エーテルおよび２−メトキシ−１，３−ジオキソラ
ンを減圧留去する。その残渣をクロマトグラフィ（Ｍａ
ｌ　Ｉ　１ｎｃｋｒｏｄｔ社製、中性シリカゲルＭａｌ
ｌｉｎｃｋｒｏｄｔ　５ｉｌｉｃａｒ　ＣＣ−７（以下
、単にｃｃ−７という）１００ｙ−、ヘキサン：酢酸エ
チル−１００：３〜６にて溶出）にかけて標記化合物６
．３　Ｆ　（８６，３％）を得る。

ｉ１ｍ ＩＲν　　　：２９５０（Ｓ　）、２８８０（Ｓａｘ ）、１７４０（Ｓ）、１６５０（Ｗ）、１４６５（ｍ）
、１４４０（、ｍ）、１３８０　（ｍ　）、１３６５（
ｍ）、１３２０（ｗ）、１２７５（ｍ）、１２３５（Ｓ
）、１１８０　（ｍ　）、１１５５（ｍ）、１１００（
ｓ）、１０７０（Ｓ）、１０２０（Ｓ）、９７０（Ｓ）
、９５０（ｍ）、８７０（Ｗ）、８３０（Ｗ） 実施例５ １．１−エチレンジオキシ−２，３，４−１−リメチル
−３−（３−メチル−５−ヒドロキシ−ＩＥ、３ＥＺ−
ペンタジェニル）シクロヘキサン（工ｅ：Ａ＝エチレン
）の製造およびそのシス体およびトランス体への分割： （ａ）上記実施例４で得られた化合物（Ｉｄ）３．０Ｆ
Ｃ９，３ミＩＪモル）をメタノール１〇−中に溶解し、
これに炭酸力１）ラム７．７ｙの水１８ｍ１およびメタ
ノール３．５　ｍｌの混液に溶解した溶液を加え、室温
にて一夜攪拌する。この反応液を水に注ぎ、エチルエー
テルで抽出する。抽出液を水および食塩水で洗浄し、伏
酸カリウムで乾燥後、溶媒を留去する。その残渣をクロ
マトグラフィ（ｃ　ｃ−７３０１、ヘキサン：酢酸エチ
ル−１００：５〜５０で溶出）にかけて標記化介物２．
５９　（９６，２％）ＩＲνｍａｘ　　：３４００（ｍ
）、２９６０　（Ｓ）、２９２５（Ｓ　）、１６４０（
ｗ）、１６２０　’（Ｗ）、１４ｓｏ（ｍ）、１３８０
（ｍ）、１３５０（ｍ）、１３３５（Ｗ）、１３００（
Ｗ）、１２７０（ｍ）、１１７５（ｍ）、１１５０（ｍ
）、１１００（Ｓ）、１０６５（Ｓ’）、１０１０　（
ｍ）、９９０（ｍ）、９７０（Ｓ）、９　ｓ　ｏ　（ｗ
　）、９１５（Ｗ）、９００（ｍ）、８７０（Ｗ）（ｂ
ｌ上記に得られた化合物をさらにローバクロマトクラフ
イ（メルク社製Ｌｉｃｈｒｏｐｒｅｐ、Ｓ　　６Ｑ、６
３〜１２５μｍ、ヘキサン：エチルエーテル＝２：１に
て溶出）にかければ、そのトランス異性Ｍ＋２８０およ
びそのシス異性体（Ｉｅ−２）０．８２２５　　　　　
　　　　　　　　　　　＋、ｎ　ｏ　　Ｌ　５１３７、
ｍ／ｚＭ　　２８０をそれぞれ得る。

実施例６ １．１−エチレンジオキシ−２，３，４−１−リメチル
−３−（３−メチル−５−ブロモ−ＩＥ、３Ｅ−ペンタ
ジェニル）シクロヘキサン（■ｆ：Ａ−エチレン、Ｘ−
ブロム）の製造： 上記実施例５で得られたトランス異性体（１：ｅ−１）
　０．９６　！　（３，４ミリモル）を無水エチルエー
テル３，４ｄおよび無水ＨＭＰＡ１．２＋＋＋７の混液
中に溶解し、アルゴン気流中でＯ’Ｃにてｎ−ブチルリ
チウム２．２ｒｎｌ（３，４ミリモル、１．５３　Ｎ　
）を滴下し、さらにｐ−）ルエンスルホニルクロライド
６６６ｑ（３，５ミリモル）の無水エチルエーテル３゜
４４溶液を滴下する。この混液をＯ′Ｃで２０分間攪拌
したのち、臭化リチウム７００９（８，１ミリモル）を
加え、室温に戻したのち、−夜攪拌する。

その反応液にエチルエーテルおよび箱型炭酸ナトリウム
水溶液を加え、エーテル層を分離し、水で４回、ついで
食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留
去して標記化介物１．０４９を得る。

ＩＲｖｆｉｌｍ；２９５０　（ｓ　）、２８９０（ｓ）
ａＸ 、１６’４０（ｗ）、１６１０（Ｗ）、１４８０（ｍ）
、１４５０（ｍ）、１３８０（ｍ）、１３５０（ｍ）、
１３００（ｗ）、１２７５（ｍ）、１１９０（ｍ）、１
１７５（Ｓ）、１１６５（ｍ）、１１００（、ｍ）、１
０７０（Ｓ）、１０１５（Ｗ）、９９０（Ｗ＞、９６５
（Ｓ　）、９“５０　（Ｗ）、９０５（ｍ） 実施例７ １．１−エチレンジオキシ−２，３，４−トリメチル−
３−［３−メチル−５−（２，６−シメトキシー４−メ
ーｆ−ルー２，５−シクロへキサジェニル）−１Ｅ、３
Ｅ−ペンタジェニルコシクロヘキサン（１ｇ：Ａ−エチ
レン）の製造： ｔ−ブチルリチウム１．７ｉ（２，６Ｍ溶液、４．４ミ
リモル）の無水ＴＨＦ溶液に１，５−ジメトキシ−３−
メチル−１，４−シクロへキサジエン０．６３Ｐ（４，
１ミリモル）の無水Ｔ　ＨＦ　３　ｍ／溶液をアルゴン
気流下、−７８°Ｃにて加え、３０分間攪拌したのち、
無水ＨＭＰＡ０．９３−を加えてさらに１０分間攪拌す
る。この混液に上記実施例で得た化合物（Ｉｆ）１．ｏ
４ｓｒの無水ＴＨＦ３ｒｎｌ溶液を滴下し、同温度で３
０分間攪拌後、−２０’Ｃに昇温し、飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加えて反応を停止し、ついで室温に昇温す
る。この反応液を食塩水に注ぎ、エチルエーテルーで抽
出する。抽出液を炭酸カリウムで乾凍後、溶媒を留去す
る。得られた残渣をクロマトグラフィ（ＣＣ−７３５Ｓ
’、ヘキサン−酢酸エチル−１００：　１で溶出）にか
けて標記化介物０．５６Ｆ（３９，５％）を得る。ｍ／
＋ Ｍ４１６ ｉ１ｍ ＩＲＩ／　　　　：２９５０（Ｓ）、２８７５　（ｍ）
ａＸ 、１６９０（ｍ）、１６７５（ｍ）、１５９５（Ｗ）、
１４５０（ｍ）、１３９０　（ｍ　）、１３５０（Ｗ）
、１３２０（ｗ）、１２７０（ｍ）、１２２５（ｍ）、
１２０５（、Ｓ）、１１７５（Ｗ）、１１５０（Ｓ）、
１１ｌ１００（，１０７０（Ｓ）、１０１０１５（，９
６５（ｍ）、９４５（ｍ）、９００（ｍ） 実施例８ １．１−エチレンジオキシ−２，３，４−）リメチル−
３−［３−メチル−５−（２，６−シオキソー３゜５−
ジクロロ−４−メチルシクロヘキシル）−１Ｅ、３Ｅ−
ペンタジェニルクシクロヘキサン（■ｈ：Ａ−エチレン
）の製造： 上記実施例７で得た化合物（Ｉｇ）６１０ツ（１，４６
ミリモル）をジメチルホルムアミド７ｄおよび水０．６
６　ｍｌの混液に溶解し、これに炭酸カルシウム５４ｑ
（０，５４ミリモル）を加え、アルゴンガスで置換後、
０°ＣにてＮ−クロロコハク酸イミド４３０ｑ（３，２
２ミリモル）を徐々に加え、室温に戻したのち一夜攪拌
する。この反応液を水に注ぎ、３０分間攪拌後、１Ｎ塩
酸でｐＨ５にしエチルエーテルで抽出する。抽出液を水
および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を留去する。その残渣をクロマトグラフィ（ＣＣ−７
２０ｉｉ’、ヘキサン：酢酸エチル−１００：１０〜５
０にて溶出）にかけて標記化合物２９１ｑ（４３，４％
）を得る。ｍ／ｚＭ　　４５５（分子量４５７．４３８
） ■ｋｖｆｉ１ｍ：３２４５（ｍ）、２９９０（Ｓ）ａｘ 、２９４０（Ｓ）、２８９０（ｍ）、１６２０（Ｓ）、
１４５０（ｍ）、１３７０（Ｓ　）、１３０５（Ｗ）、
１２７０（Ｗ）、１１８０（ｍ）、１１５０（Ｗ）、１
１ｌ１００（，１０７０（Ｓ）、１０１０４５（，１０
１５（Ｗ）、９７０（ｍ）、９５０（Ｗ）、９０５（Ｗ
） 実施例９ １．１−エチレンジオキシ−２，３，４−トリメチル−
３−（３−メチル−５−（２，６−シヒドロキシー３−
クロロ−４−メチルフェニル）−１Ｅ、３Ｅ−ペンタジ
ェニルクシクロヘキサン（ｌｉ：Ａ＝エチレン）の製造
： 上記実施例８で得た化合物（Ｉｈ）２９１　ｑ（０゜６
４ミリモル）を無水ＴＨＦＩ、４−に溶解し、これに１
，８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデセン−７（
ＤＢＵ）０．４８ｍ／（３，２ミリモル）を加え、アル
ゴン気流下で３時間加熱還流する。その反応液を水に注
ぎ、ｌＮｉ酸でｐＨ５とし、エチルエーテルで抽出する
。抽出液を水および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を減圧留去する。その残渣をクロマトグ
ラフィ（ＣＣ−７９ｙ１ヘキサン：酢酸エチル−１００
：５にて溶出）にかけて標記化合物１１４１１１１ｉ’
（４２，６％＋ ）を得る。ｍ／ｚＭ　　４２０ ＩＲＩ／”２０：　３３５０　（ｍ）、２９７５　（Ｓ
）ａｘ 、２．９２５（Ｓ）、２８６０（ｍ）、１６１０（Ｗ）
、１５９０（、Ｗ）、１４５０（ｍ）、１４１０（ｍ）
、１３８’０（Ｗ）、１３５０（ｍ）、１２７０（Ｗ）
、１１７０（ｍ）、１１５０（ｍ）、１１ｌ１００（，
１０６５（８）、１０１５（Ｗ）、９６５’（ｍ）、９
５５（Ｗ）、９００（ｍ）、８２５（ｍ） ＮＭＲδ（ＣＣ１４）：　０．４　ｓ　〜２．１４　（
ｍ　、　１　ｓＨ）、２．２０（Ｓ、３Ｈ）、３．４１
（ｄ、２Ｈ。

Ｊ＝７Ｈｚ）、３．５０〜４．１０　（ｍ、　４Ｈ）、
４．９０〜６．５０　（ｍ　、　５Ｈ） 実施例１０ １．１−エチレンジオキシ−２，３，４−）リメチル−
３−［３−メチル−５−（２，６−シヒドロキシー３−
クロロ−４−メチルフェニル）−１Ｅ、３Ｚ−ペンタジ
ェニルクシクロヘキサン（■ｉ’；Ａ＝エチレン）の製
造： 前記実施例６〜実施例９におけると同様にして、１．１
−エチレンジオキシ−２，３，４−）リメチルー３−（
３−メチル−５−ヒドロキシ−ＩＥ、３ｚ−ペンタジェ
ニル）シクロヘキサン（Ｉｅ−２）を出発物質として用
いて反応させて標記化ぎ物を得る。

＋ ｍ／ｚＭ　　４２０ ＩＲｐＥ１２０：３３５０（ｍ）、２９７５（Ｓ）ａＸ 、２９２５（Ｓ）、２８６０（ｍ）、１６１０（Ｗ）、
１５９０（ｗ）、１４５０（ｍ）、１４１゜（ｍ）、１
３８０（Ｗ）、１３５０（ｍ）、１２７０（Ｗ）、１１
７０（ｍ）、１１５０（ｍ）、１１００　（ｍ　）、１
０６５（Ｓ）、１０１５　（Ｗ）、９６５（ｍ）、９５
５（Ｗ）、９００（ｍ）、８２５（ｍ） 実施例１１ １．１−エチレンジオキシ−２，３，４−トリメチル−
３−４３−メチル−５−（２，６−シヒドロキシー３−
１０ロー４−メチル−５−１ルミルフエニル）−１Ｅ、
３Ｚ−ペンタジェニルコシクロヘキサン（Ｔｊ：Ａ−エ
チレン）の製造： アルゴン気流下、エチルマグネシウムブロマイド（０，
８６ミリモル）のエチルエーテル１．５４溶液に、上記
実施例１０で得だ化合物（Ｉｉ’）　１８２ツ（０，４
３ミリモル）の無水エチルエーテル１．５ｍｌ溶液を室
温に゛て徐々に滴下し、２０分間攪拌する。これにさら
にトリエトキシメタン０．３　ｍｌを加え、徐々に加熱
してエーテルを留去し、ついで１００°Ｃで５分間加熱
する。この反応液を放冷し、ＩＮ塩酸を加え、エチルエ
ーテルで抽出する。抽出液を水および食塩水で洗浄後、
溶媒を留去１〜、その残渣をクロマトグラフィ（ＣＣ−
７−７１゜ヘキサン：酢酸エチル−１００：４にて溶出
）にかけて粗製の標記化合物１１４〜を得る。このもの
をそのまま次工程に用いる。

実施例１２ ２、３．４−１−リメチル−３−〔３−メチル−５−（
２，６−シヒドロキシー３−クロロ−４−メチル−５−
ホルミルフェニル）−１Ｅ、３Ｚ−ペンタジェニルクシ
クロヘキサノン（Ｉｋ　）の製造二上記実施例１１で得
た化合物（ＩＮに３５％過塩素酸：エチルエーテル（１
：２）混液３　ｍｌを加え、０°Ｃで１０分間反応させ
たのち、５％炭酸カリウム水溶液で中和し、エチルエー
テルで抽出する。抽出液を水および食塩水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去する。その残渣を
クロマトグラフィ（シリカゲル６グ、塩化メチレンで溶
出）にかけて標記化合物９３４（５３，８％）を得る。

メタノールより再結晶して純品を得る。

融点１８０〜１８４°Ｃ，ｍ／ＺＭ＋４０４元素分析値
：　Ｃ２３Ｈ２Ｃ２３Ｈ２として計算値（％）：Ｃ，６
８，２１Ｈ，７，２２実測値Ｃ％）：Ｃ，６８，３２：
Ｉ（，７，２０ＩＲν０Ｈ０１３：　３５．３０　（−
）、３０００（ａｘ ｍ）、１７０５（Ｓ）、１６３０（Ｓ）、１４６０（ｍ
）、１４１５（ｍ）、１３８０（ｍ）、１３３０（Ｗ）
、１２９０（Ｓ）、１２７５　（Ｓ　）、１１７０（Ｗ
）、１１２０（Ｗ）、１１１０（ｍ）、９７０（ｍ）、
９１０（Ｗ） ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ２，４０９ＭＨｚ　）：　０．８２
　（３Ｈ，ｓ）、０．８５　（３Ｈ，ｄ　、Ｊ＝６．５
９Ｈｚ）、０．８７７（３Ｔ（、ｄ、Ｊ＝６．５９Ｔ（
ｚ）、１゜６６　（Ｉ　Ｈ、ｍ　）、１．８１（３Ｉ（
，５）、１．９４（２１−Ｉ　、　ｍ　）、２．４５（
３Ｈ，ｍ）、２．５９（３Ｈ、ｓ　）、３．５５　（２
Ｈ，ｄ　、　Ｊ＝７．３−３Ｈ２）、５．４８　（ＩＨ
，ｔ　、Ｊ＝７．３３Ｈｚ　）、５．４９（１４−＋、
ｄ、Ｊ−１６．’１ｌＨ２）、６．４″４（ＩＨ、ｓ）
、６．６９　（ＩＨ，ｄ　、Ｊ＝１６．１１Ｈｚ　）。

、１０．１３１（ＩＨ，Ｓ）、１２．７（ＩＴ（、Ｓ）
特許出願人　大域製薬株式・会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ０）一般式 〔式中、波線はシス、トランス両異性体を示し、耐はオ
   キソ基または低級アルキレンジオキシ基、ｋ２はテトラ
   ヒト。ピラユ、、ｄ、キシ基、水酸基、低級アルカノイ
   ルオキシ基、ハロゲン原子、式で示される基を意味する
   〕 で示されるアスコクロリン類縁体。