JPS5976040A - ジアリ−ルアミンの改良製造方法 - Google Patents

ジアリ−ルアミンの改良製造方法

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JPS5976040A
JPS5976040A JP58171072A JP17107283A JPS5976040A JP S5976040 A JPS5976040 A JP S5976040A JP 58171072 A JP58171072 A JP 58171072A JP 17107283 A JP17107283 A JP 17107283A JP S5976040 A JPS5976040 A JP S5976040A
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    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、脂環式ケトンと第一級芳香族アミンの反応生
成物の脱水素による、ジアリールアミンの改良された製
造方法に関する。さらに詳しくし1、本発明は窒素に結
合された芳香族基を含有する化合物の改良されたかつ経
済上に実用的な形成方法および芳香族基源としてのQt
ltm式ケトンの使用方法に関する。
アリールアミンを脂環式ケトンから製造することは既知
である。米国特許第3,219.702号明細書には、
6員脂環式ケトンを水素受容体、第一級アミンまたはア
ミン前駆物質、および脱水素角虫媒と共に加熱する方法
が教示されて(Aろ。1司様に、米国特許第3,219
.703号明細書には、ニトロ芳香族を水素受容体とし
て用いるこの方法力玉教示されている。米国特許第6,
219.705号明細壱Kk’l、N−シクロヘキシル
−N −フェニル−p−フェニレン−ジアミンのシクロ
ヘキサノン16よび脱水素触媒からの製造が教示されて
〜・る。前言己の特許明細書のすべてにおいて、好まし
い触媒は7′eうジウムである。
ジアリールアミンの指環式ケトン、アニリンおよびニト
ロベンゼンからの既知の製造方法における問題は、この
方法がパラジウム触媒の高価な量の使用を必要とするこ
とである。
硫酸、リン酸、トリハロ酢酸またはアルキルスルホン酸
あるいはアリールスルホン酸のような酸促進剤の添加に
よってパラジウム触媒を用いる方法においてジアリール
アミンの収率の著しい向上がもたらされることが分かっ
た。酸促進剤の添加によってなぜ収率が増大し、かつそ
の結果が予期されず驚くべきものであるかは正確には分
からない。
本発明により、脂環式ケトンと第一級芳香族アミンの反
応生成物のパラジウム触媒された脱水素の酸促進によっ
てジアリールアミンが生成される。
第一級芳香族アミン、水素受容体、および脂環式、 ケ
トンを、酸の存在下にパラジウム触媒と加熱してジアリ
ールアミンを生成する。
基本的には、この方法には、第一級芳香族アミン、水素
受容体および6員脂環式ケトンを脱水素触媒と共に分解
温度より低温に加熱することが含まれる。シクロアルキ
リデンアミンを予備的独立工程として形成し、次いで触
媒、水素受容体および適切な酸と共に加熱することによ
って脱水素することが可能である。脱水素に必要な瀞1
度は、通常はぼ同じである。脱水素は、炭素−炭素結合
の著しい切断なしに起こる。従って、出発物質としての
シクロアルキリデンアミンは本質的に第一級アミンプラ
ス指環式ケトンと同等であることが分かる。
芳香族化には、11rIAの炭素がカルボニル酸素に結
合した環中に6個の炭素原子を含有する脂環式ケトンが
必要であるが、環中に置換基が存在してもより、シかも
縮合環化合物が適当である。これらのり脂環式ケトンと
してし1、シクロヘキサノンおよびテトラロンがあり、
この何れかはCIないしCxaアルキル基、通常C0な
いしC9のアルキル基によって置換されてもよい。例に
は、シクロヘキサノン、2−メチルシクロヘキサノン、
3−メチルシクロヘキサノン、4−メチル−シクロヘキ
サノン、3,4−ジメチルシクロヘキサノン、2゜4−
ジメチルシクロヘキサノン、6,5−ジメチルシクロヘ
キサノン、2.5−ジメチルシクロヘキサノン、2−エ
チルシクロヘキサノン、4−エチルシクロヘキサノン、
2−プロピルシクロヘキサノン、4−ブロールシクロヘ
キサノン、4−イソプロピルシクロヘキサノン、4−ブ
チルシクロヘキサノン、4− tert−ブチルシクロ
ヘキサノン、4−オクチルシクロヘキサノン、4−ドデ
シル−シクロヘキサノン、α−テトラロン、β−テトラ
ロン、2−メチル−α−テトラロン、6−メチル−〇−
テトラロン、1−メチル−β−テトラロン、4−メチル
−I−テトラロン、4−エチル−α−テトラロン、5−
メチル−α−テトラロン、6−メチル−β−テトラロン
、8−メチル−〇−テトラロン、4−7°ロビルーα−
テトラロン、7−イツプロぎルーα−テトラロン、4−
ブチル−α−テトラロン、4−tart−ブチル−α−
テトラロン、2.6−シメチルー〇−テトラロン、2.
4−ジメチル−〇−テトラロン、4,8−ジメチル−α
−テトラロン、4,5−ジヘキシルーI−テトラロン、
7.8−ジエチル−a−テトラロン、4−ノニル−α−
テトラロンがある。
任意の第一級芳香族アミンが適当である。このようなア
リールアミンは下記の一種またはそれ以上によって置換
されてもよい。1111iIないし12個の炭素原子の
線状またば分枝アルキル基、11i!lないし4個の炭
素原子のアルコキシ基、6個ないし15個の炭素原子の
アリールオキシ基、1個ないし12個の炭素原子のアシ
ル基、7個ないし16個の炭素原子のアロイル基、6個
ないし18個の炭素原子のアリールアミノ基、1個ない
し8 mの炭素原子のアルキルアミノ基および2個ない
し16飼の炭素原子のジアルキルアミノ基。例示のため
に、アニリン、1−ナフチルアミン、2−ナフチルアミ
ン、トルイジン、4−ブチルアニリン、4− tert
 −フチルアニリン、4−ドデシルアニリン、4−デシ
ルアニリン、6,4−ジメチルアニリン、4−メトキシ
−アニリン、4−エトキシアニリン、4−t、ert、
−fトキシアニリン、4−”yミノジフェニルエーテル
、4−(4’−ノニルフェノキシ)アニリン、4−アミ
ノアセトアニリド、4−ベンゾイル−アニリン、4−デ
カノイルアニリン、4−(4’−ノニルベンゾイル)ア
ニリン、1.3−ジアミノベンゼン、1,4−ジアミノ
ベンゼン、N−フェニル−p−フェニレンジアミン、N
 −(4’ −)’テシルフェニル)−p−フェニレン
ジアミン、N−メチル−p−フェニレンジアミンN−オ
クチル−p−フェニレンジアミン、N、N−ジメチル−
p−フェニレンジアミン、N、N−Pオクチル−p−7
エニレンジアミンを挙げることができる。
硫酸、リン酸および塩酸のような鉱酸およびp−トルエ
ンスルホン酸およびトリフルオロ酢酸のような有機酸の
両者は促進剤として使用できる。好ましい酸はコストお
よび効力に基づいて硫酸である。酸促進剤の水準は、試
薬および触媒の濃度、製造されたジアリールアミン生成
物、溶媒、材料の純度および望ましいサイクル時間によ
って決まる。ケトンに基づく酸のモルチ水準は0−05
1ないし10係またはそれ以上であってもよ(、好まし
い範囲は0.1 <ないし10qbX最も好ましい範囲
は0.6%ないし6%である。
本発明における触媒は、白金族の金属、好ましくはパラ
ジウムである。望ましくは、脱水素触媒は、担体、好ま
しくは木炭またはアルミナ、最も好ましくは木炭上に担
持されている。触媒使用量は、方法のコストに対して主
な一因である。本発明者らの方法における使用量は、温
度、試薬の濃度、溶媒、材料の純度、酸水準、反応の間
に発生した抑制剤およびサイクル時間を初め多くのパラ
メーターによって決まる。
種々の還元性材料の何れかを水素受容体として使用して
もよい。好ましい水素受容体は、例えば2.6−シメチ
ルニトロベンゼン、m −t、ert −ブチルニトロ
ベンゼン、p−アミルニトロベンゼン、p−ヘキシルニ
トロベンゼン、p−オクチルニトロベンゼン、p −5
ee−オクチルニトロベンゼン、p −tert−オク
チルニトロベンゼン、p−ノニルニトロベンゼン、p−
デシルニトロベンゼ7、p−エトキシニトロベンゼン、
0−エトキシニトロベンゼン、2.6−シメチルー4−
アミノニトロベンゼン、ニトロベンゼン、p−ジニトロ
ベンゼン、m−ジニトロベンゼン、p−ドデシルニトロ
ベンゼン、4−ニトロジフェニル、p−フェノキシニト
ロベンゼン、p−シクロヘキシル−ニトロベンゼン、p
−ベンジルニトロベンゼン、ニトロメタン、ニトロエタ
ン、2−ニトロプロパン、1−ニトロプロパン、1−ニ
トロナフタリン、2−96−および4−ニトロトルエン
、4−ニトロアニソール、p−エチルニトロベンゼン、
1)−ゾロビルニトロベンゼン、p−イソゾロビルニト
ロベンゼン、m−エチルニトロベンゼン、4−ニトロベ
ンゾニトリル、p−ニトロアセトアニリド、p−ニトロ
ホルムアニリド、2.4−ジニトロトルエン、4−ニト
ロ安息香酸、’m −y”チルニトロベンゼン、pふ1
ert−1チルニトロベンゼンおよびニトロシクロヘキ
サンのようなニトロ化合物である。「ニトロ化合物」の
用語はその通常の意味において、NO2基を含有する有
機化合物を意味するように用いられる。水素受容体とし
て、ジフェニルアミンの製造におけるニトロベンゼンの
ような、相当するアミンに還元された場合に出発物質の
1つとして働くニトロ化合物を用いるのが最も有利であ
る。ニトロ化合物の濃度は、反応中に形成されたシッフ
塩基の化学量論量に対する水素受容体として働くに十分
でなければならない。シクロヘキサノンの場合、反応さ
れるケトン1モルについてニトロ化合物最小2/!1モ
ルが必要である。
過剰のアミンを用いる操作は、また実施可能であり、ま
たある場合は有利である。最初の装入に用いた過剰のア
ミンおよび反応の間に形成され得る任意のものを回収す
るのが望’fL(なる。前記に指摘されたように、アミ
ンとケトンの間の最初の縮合は残りの反応の前に行って
もよい。ケトンと第一級アミンを縮合させることによる
シッフ塩基の形成後、シッフ塩基1モルについてニトロ
化合物2/3モルを加え、次いで混合物を脱水素触媒お
よび酸の存在下に加熱する。
反応は、密閉系中において、水を除去しながらまたは除
去せずに還流下に行うことができる。反応の途中に、発
生した水はベンゼン、トルエン、キシレン、キュメンお
よびp−シメンのような溶媒を用いて共沸蒸留を使用し
て反応混合物から適当に分離できる。
芳香族化は、反応体、中間体および生成物の安定性によ
って許容される高温において行うことができる。最適の
温度は、反応体、触媒および酸の濃度、サイクル時間お
よび溶媒を初め数種のパラメーターの相互作用によって
決まる。温度は通常70℃ないし250°C1好ましく
は100°Cないし200℃であるが、これらは絶対的
な操作限界ではない。
ケトン/ニトロベンゼンのモル比は3/1ない6/2、
好ましくは3/1ないし3/1.1の範囲内であっても
よい。水素受容体/第一級芳香族アミンのモル比は、1
.1/2ないし1/2.2の範囲内、好ましくは1/2
であってもよい。脱水素触媒、特にパラジウムの量はす
べてケトン10Clリモルについて、パラジウムo、o
 o i pないし0.1.9、好ましくは0.002
5.9ないし0.075.9最も好ましくは肌005g
ないしI:LO4,!i/の範囲内であってもよい。
反応は、1時間ないし48時間の範囲内で起こり得るが
、好ましくは4時間ないし24時間である。
下記の例は、本発明をさらに詳しく説明する。
例1 N−フェニル−1−ナフチルアミン(PANA)の製造 温度計およびp−シメンを満たしたディーンーシュタル
ク(Dean−8tark )装置を備え凝縮器を有f
る2001M3つ口丸底フラスコに、アニリン7.45
9 (80ミリモル)、ニトロベンゼン4.82g(6
9ミリモル)、1−テトラロン14.69(100ミリ
モル)およびp−シメン溶媒65mtを加えた。また、
第1表に示すように触媒および種々の酸促進剤も導入さ
れた。反応混合物は、発生する水を除きながら5時間還
流(約1858C)下に加熱された。その後、混合物を
宇温に冷却し、次いでセライト(商標)ケイソウ土フィ
ルターを用いて触媒なろ別した。反応混合物を、気液相
クロマトグラフィー(GLPC)を用いてPANA標準
に対して分析した。第1表に示す収率は、テトラ口y 
(7) PANAへの変換に基づいている。
例2 例1の操作を本質的に用いてアニリン7.45.9(8
0ミリモル)、ニトロベンゼン4.829(39ミリモ
ル)、1−テトラロン14.609(100ミリモル)
、p−シメン65m/および炭素上のパラジウム5係触
媒を混合し、次いでヂイーンーシュタルク装置を用いて
反応水を除きながら約185°Cにおいて5.0時間還
流した。
ディーンーシュタルクトラップには実験の開始時に過剰
のp−シメンを満たした。
結果は、下記第2表に示す。
このデータは、本発明の方法によって得られたすぐれた
収率な示している。
例3 ジフェニルアミンCDPA)の製造 例1と木質的に同じ操作を用いて、アニリン7.45.
9(80ミリモル)、ニトロベンゼン19.7g(16
0ミリモル)、シクロヘキサノン19.6.9(200
ミリモル)およびp−シメン65m1および第3表に示
す。パラジウム触媒および硫酸促進剤の種々の量をフラ
スコに入れた。DPAの収率係はシクロヘキサノンから
得られるDPAの理論量に基づいている。
この結果から、本発明の方法(触媒と酸促進剤の組み合
せの使用)は、触媒単独を用いることによって得られた
収率な予測できないほどに少なくとも2倍にすることが
分かる。
例4 5Q、Qm/のろつ日丸底フラスコに、p−アミノジフ
ェニルアミン929C500ミリモル)、シクロヘキサ
ノン61N(600ミリモル)、ニトロベンゼン821
M(800ミリモル)、キシレン溶媒120vおよび炭
素上パラジウム5%1.0g(Pa 0.059 ) 
 を加えた。例1の操作を本質的に用いて、酸なしに反
応を行い1人)、次いで再び硫酸6ミリモルの存在下に
反応を行った(B)。反応(B)によって、還流下7時
間後に反応(A)よりもD PPDの約40Cモル)係
高い収率が得られた。
代理人 浅 村   皓 300−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 良製造方法において、前記方法を硫酸、リン酸、トリハ
    ロ酢酸、およびアルキルもしくはアリールスルホン酸か
    ら選ばれた酸促進剤の存在下に行うことを特徴とする改
    良。 (2;  前記第一級芳香族アミンがアニリンである、
    特許請求の範囲第1項に従う方法。 (3)前記水素受容体が、ニトロベンゼンおよびニトロ
    トルエンからなる群から選ばれる、特許請求の範囲第1
    項に従う方法。 14+  前記自余族元素触媒がパラジウムである、特
    許請求の範囲第1項、第2項または第6項に従う方法。 (5)  前記酸促進剤が、硫酸である、特許請求の範
    囲第4項に従う方法。
JP58171072A 1982-09-16 1983-09-16 ジアリ−ルアミンの改良製造方法 Expired JPS6042231B2 (ja)

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US419249 1982-09-16

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