JPS5968967A - 固体撮像装置の製造方法 - Google Patents

固体撮像装置の製造方法

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JPS5968967A
JPS5968967A JP57178540A JP17854082A JPS5968967A JP S5968967 A JPS5968967 A JP S5968967A JP 57178540 A JP57178540 A JP 57178540A JP 17854082 A JP17854082 A JP 17854082A JP S5968967 A JPS5968967 A JP S5968967A
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JP
Japan
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semi
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Pending
Application number
JP57178540A
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English (en)
Inventor
Ryuichi Yanagi
柳 龍一
Yoshiaki Hayashimoto
林元 義明
Nozomi Harada
望 原田
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0216Coatings
    • H01L31/02161Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/02162Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0232Optical elements or arrangements associated with the device
    • H01L31/02327Optical elements or arrangements associated with the device the optical elements being integrated or being directly associated to the device, e.g. back reflectors

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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は、高感度固体撮像装置の製造方法に関する。
〔従来技術と、その問題点〕
固体撮II!1.素子の有効感光部は、感光画素部と、
感光画素部で発生した電荷を流す配線部とから構成され
ており、感光画素部と周辺の感光画素部とには間隙があ
る。そして従来のカラー固体撮像素子の色フイルタ形成
方法はこの感光画素上に平坦な色フィルタを乗せている
。そのため色フィルタを通ってくる光は直進し、感光画
素部周辺の光は、固体撮像素子基板に反射され、感光画
素に入射されない。
〔発明の目的〕
本発明は、上記の色フィルタを通り感光画素の周辺で反
射される光を感光画素に入射する高感度色フィルタを有
する、固体撮像装置の製造方法を提供することを目的と
する。
〔発明の概要〕
本発明は、固体撮像素子の感光画素上に形成する色フィ
ルタ層の上層あるいは下層に、写真蝕刻法により半凸レ
ンズ形の層を設けることにより、感光画素周辺で、反射
していた光をレンズ効果により感光画素に集光させるこ
とを特徴とする。
〔発明の効果〕
本発明により、色フィルタを形成した固体撮像素子の各
画素の出力成分を従来の平坦な色フィルタを形成した固
体撮像素子の各画素の出力成分よりも増やすことができ
る。
〔発明の実施例〕
以下本発明の一実施例を第1図(a)〜(k)f、用い
て説明する。
固体撮像素子1上にJS几CI几7o7(日本合成ゴム
l!J ) 9y、、塗布する(第1図(a))。プリ
ベーク後、マスク1oにより露光する(第1図(b))
。次に現像。
リンス、ボストベークし、感光画素3.4.5.6.7
゜8上に半凸レンズ形の層11.12.13.14.1
5.16を得る(ム’r 1図(C))。
ここで、露光はオーバー露光し、現1象リンス後、半凸
レンズ形の層の周辺にテーパーをつける。゛またこの露
光にはグロキシミティ露光が有効である。
さらにボストベークはレジストの指定ボストベーク温度
よりも、高い温度でポストベークすることにより、レジ
ストに流れを生じさせて、半凸レンズ形の層にする。
以上が本発明において破裂なプロセスである。
な分、半凸レンズ形の層には ゴム系フォトレジストO
M几83(東京応化工業g > 、rsncIa7ox
、 、rsfccin、ro7(日本合成ゴム製) F
SR(富士薬品工業製)、KMI(コダック製)等が有
用である。
次に可染性樹脂ゼアチン−重クロム酸アンモニウム水溶
液17全塗布する(第1図(d))。乾燥後、マスク1
8により感光画素4,7上′f:露光する。そして現像
、リンス、ボストベーク後、イエロー染色液、カヤノー
、ルイエロ−NGS (日本化薬製)1チ水溶液に70
℃1分間浸漬し、水洗乾燥後感光画素4.7上に、イエ
ロー染色層19.20を得る(第1図(f))。
このとき、イエロー染色層は、半凸レンズ形の層12.
15を上面からみて全面カーバーし、感光画素4,7よ
りも大きくする。
次に、耐染色保護膜として、KPR,(コダック製)2
1ヲ塗布する(第1図(g))。グリベーク後、マスク
22より露光する(第1図(h))。そして現像リンス
ボストベーク後、Atパッド2上にKPRが除かれた層
23を得る(第1図0))。
次に前記と同様、可染性樹脂ゼラチン−重クロム酸アン
モニウム水溶液17ヲ塗布後、感光画素5,8上を露光
し、現像リンスボストベーク後、7アン染色液、カヤノ
ールターキスブルー3G 3% 水溶液に70℃5分間
浸漬し、水洗乾燥後、感光画素5.8上にシア/染色層
24.25を得る(第1図(J))。
このときシアン染色層24.25は、中間層23を被っ
た半凸レンズの)fJ 13.16 ’に上面からみて
全面カバーし、感光画素5.8よりも大きくする。
次に色フイルタ全体の保護膜としてKI’R(コダック
製)を塗布し、プリベータ、露光、現像、リンスボスト
ベーク後、Atパッド2上にKPRが除かれた層26を
得る(第1図(k))。
以上により、ホワイト、イエロー、シアンの補色型の高
感度色フィルタを製造する。
なお、半凸レンズ形の層の上に色フィルタを形成する場
合、半凸レンズ形の層のパターンサイズは感光画素より
も大きなサイズにし、その上に形成する色フィルタの半
凸レンズ形の断面形状、及び固体撮像素子の感光画素の
サイズ等から決定すればよい。
第2図(a)〜(e)は本発明の他の実施例を示す。
固体撮像素子1上に、先に述べた実施例の第1図((■
)から第1図(k)により形成した色フィルタを形成す
る(第2図(a))。この上にJS几CI几707(日
本合成ゴム製)22に塗布する(第2図(b))。そし
てマスク28によりすべての感光画素3.4.5.6.
7゜8、上のJSRCI几707.27v露光する(第
2図(C))。
次に現像リンスボストベーク後、感光画素3,4゜5、
6.7.8  上に半凸レンズ形の層29.30.31
.32゜33、34 f、得る(第2図(d))。
以上により、ホワイト、イエロー、シアンの補色型の高
感度色フィルタを製造する。この時の露光、ボストベー
クの条件は前の実施例で述べた通りである。なお、アッ
ヤンブリ一工程において、表面の半凸レンズ形の層には
ぐり等の支障が生じる場合には、保護膜として常法によ
り、KP几35を形成してもよい(第2図(e))。
また、本製造においては、色フィルタの染色層のパター
ンは可能な限り広くシ、感光画素上の染色層の平坦な部
分を広くする。そして半凸レンズ形の層のサイズを平坦
な染色層と同じ大きさにすることが、固体]電像素子の
各感光画素の出力成分全増大させる有効な方法である。
以上、染色法による補色塑の高感度色フィルタの製造の
実施例をνRべたが、本発明は染色法に限らず、′A1
!F、法(写真法)による色フイルタ製造に有効であり
、また浦色屓に限らず、原色型の色フイルタ製造lこも
有効である。
さらに、本発明は、カラー固本撮謙装置に限らず、白黒
固体撮1象装置直の製造方法にも山川である。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(k)は、本発明の一実施例ff:1況
明するための工程図、第2図(a)〜(e)は、本発明
の他の実施例を説明するための工、1呈図である。 1・・・固体撮1象素子 2・・・アルミパッド J+ 415? 617’; 8・・・感光画素9−J
SRu几−707 10・・・マスク 11、12.13.14.15.16・・・半凸レンズ
形の層17・・・ゼラチン−重クロム改アンモニウムの
層18・・・マスク 19.20・・・イエロ染色層 21・・・耐染色保護膜(KPII、)22・・・マス
ク 23・・・パターニング1皮の耐染色保護膜24、25
・・・シアン染色層 26・・・保護膜(KP几) 27 ・・1呆護j摸 (KP几) 28・・マスク 2’l、 30.31.32.33.34・・・半凸レ
ンズ形の層35・保、1論膜(KPル) 代理人 弁理士  則 近 憲 佑 (ほか1名) 第  t  図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 固体撮像素子の有効感光部の感光画素上に透明有機層を
    堆積せしめる工程と、該透明有機層を写真蝕刻法により
    、任意の感光画素上のみ残存させる工程と、該透明有機
    残存層を熱処理して半凸レンズ形の形状にする工程とを
    有することを特徴とする固体撮像装置の製造方法。
JP57178540A 1982-10-13 1982-10-13 固体撮像装置の製造方法 Pending JPS5968967A (ja)

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JP57178540A JPS5968967A (ja) 1982-10-13 1982-10-13 固体撮像装置の製造方法

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JPS5968967A true JPS5968967A (ja) 1984-04-19

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JP57178540A Pending JPS5968967A (ja) 1982-10-13 1982-10-13 固体撮像装置の製造方法

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1990013146A1 (en) * 1989-04-20 1990-11-01 Eastman Kodak Company Lens arrays for light sensitive devices
JPH0493801A (ja) * 1990-08-10 1992-03-26 Samsung Electron Co Ltd カラーフィルターの製造方法
JPH04234705A (ja) * 1990-12-31 1992-08-24 Samsung Electron Co Ltd カラーフィルタの製造方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5374395A (en) * 1976-12-15 1978-07-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Solid state pickup device
JPS5721879A (en) * 1980-07-15 1982-02-04 Sanyo Electric Co Ltd Solid state image pickup device

Patent Citations (2)

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