JPS5967409A - 螢光ｘ線膜厚計 - Google Patents
螢光ｘ線膜厚計Info
- Publication number
- JPS5967409A JPS5967409A JP16626782A JP16626782A JPS5967409A JP S5967409 A JPS5967409 A JP S5967409A JP 16626782 A JP16626782 A JP 16626782A JP 16626782 A JP16626782 A JP 16626782A JP S5967409 A JPS5967409 A JP S5967409A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- door
- opened
- shutter
- ray
- rays
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
- G01B15/02—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness
-
- G—PHYSICS
- G12—INSTRUMENT DETAILS
- G12B—CONSTRUCTIONAL DETAILS OF INSTRUMENTS, OR COMPARABLE DETAILS OF OTHER APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G12B17/00—Screening
- G12B17/02—Screening from electric or magnetic fields, e.g. radio waves
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は螢光Ｘ線膜厚測定装置に関し、特に操作ミス
等によっておこるＸ線の被曝を防ぐための安全装置の新
規な改良に関するものである。
等によっておこるＸ線の被曝を防ぐための安全装置の新
規な改良に関するものである。
従来用いられていたこの柚の装置の安全装置は＜Ｗ々あ
るが、その−例を述べるとサンプル出入ドアが完全に閉
まって検出マイクロスイッチが動作するまでは、シャッ
ターが動作しないように構成されていた。また、シャッ
ターが作動している間にドアを開けた場合には、ドアの
作動と連動してツヤツタ−が自動的に閉じるように構成
されているが、ドアが開けられて試料の出入を行ってい
る状聾において、レリえは誤ってシャッターを手で作動
させたような場合には、１組が照射されることになり、
手に被曝を受ける可能性がｔり９極めて危険であった。
るが、その−例を述べるとサンプル出入ドアが完全に閉
まって検出マイクロスイッチが動作するまでは、シャッ
ターが動作しないように構成されていた。また、シャッ
ターが作動している間にドアを開けた場合には、ドアの
作動と連動してツヤツタ−が自動的に閉じるように構成
されているが、ドアが開けられて試料の出入を行ってい
る状聾において、レリえは誤ってシャッターを手で作動
させたような場合には、１組が照射されることになり、
手に被曝を受ける可能性がｔり９極めて危険であった。
この考案は以上のような欠点を速やかに除去するための
極めて効果的な手段を提供すること金目的とするもので
、特にドアが完全に閉じた状態を検出するマイクロスイ
ッチとシャッターが閉じている状態を検出するマイクロ
スイッチとＸ線電源供給しゃ断回路をυ１１Ｉえ、ドア
が開けられている状態において、例えば誤ってシャッタ
ーをすで作動させたような場合には、Ｘ線しやＷ［回路
が働きＸ線管への重力供給かじゃ師［されることにより
Ｘ線被曝の危険性のない安全なＸ線膜厚測定装置の構成
を得ることである。
極めて効果的な手段を提供すること金目的とするもので
、特にドアが完全に閉じた状態を検出するマイクロスイ
ッチとシャッターが閉じている状態を検出するマイクロ
スイッチとＸ線電源供給しゃ断回路をυ１１Ｉえ、ドア
が開けられている状態において、例えば誤ってシャッタ
ーをすで作動させたような場合には、Ｘ線しやＷ［回路
が働きＸ線管への重力供給かじゃ師［されることにより
Ｘ線被曝の危険性のない安全なＸ線膜厚測定装置の構成
を得ることである。
以下、図面と共にこの発明を説明する。図面１において
、■はＸ線管であり、装置を使用中は常に電流が流れＸ
線が発生している。■はシャッタブロックでＸ線管■か
ら発生されたＸ線を通常はしゃ断し、測定の際にはサン
プル■に照射するためのもので、シャッタブロック■に
設ケられたレバー■及び■を介してロータリソレノイド
＠によって矢印Ａの方向に駆動される。■は支持数７ａ
に設けられたマイクロスイッチで、シャッタブロック（
わが図面において右方向に移動されたときにレバー■に
よりｍ点レし−７ｂ’ｉ作動させてＯＦＦとなるように
構成され、この状態ではＸ線管■からのＸ線はシャッタ
ーブロック■によりしゃ断された状態である。
、■はＸ線管であり、装置を使用中は常に電流が流れＸ
線が発生している。■はシャッタブロックでＸ線管■か
ら発生されたＸ線を通常はしゃ断し、測定の際にはサン
プル■に照射するためのもので、シャッタブロック■に
設ケられたレバー■及び■を介してロータリソレノイド
＠によって矢印Ａの方向に駆動される。■は支持数７ａ
に設けられたマイクロスイッチで、シャッタブロック（
わが図面において右方向に移動されたときにレバー■に
よりｍ点レし−７ｂ’ｉ作動させてＯＦＦとなるように
構成され、この状態ではＸ線管■からのＸ線はシャッタ
ーブロック■によりしゃ断された状態である。
■は全体がほぼ箱型上なすカバーで、Ｘ線による被曝を
防止するため装置全体′ｆｆ：覆っており、試料台［相
］上に設けられたサンプル０を出入するためのドア■が
前記カバー■の前面部に取付けられ、このカバー〇を完
全に閉じた状態でカバー〇に設けられた第１および第２
のマイクロスイッチ■および■の接点レバー５ａおよび
６ａが作動される構成で、第１１イクロスイツグー■は
ＯＮ状態、第２マイクロスイツチ■はＯＦＦ状態となる
ように各々のスイッチング動作が異なるように構成され
ている。
防止するため装置全体′ｆｆ：覆っており、試料台［相
］上に設けられたサンプル０を出入するためのドア■が
前記カバー■の前面部に取付けられ、このカバー〇を完
全に閉じた状態でカバー〇に設けられた第１および第２
のマイクロスイッチ■および■の接点レバー５ａおよび
６ａが作動される構成で、第１１イクロスイツグー■は
ＯＮ状態、第２マイクロスイツチ■はＯＦＦ状態となる
ように各々のスイッチング動作が異なるように構成され
ている。
さらに、前記支持板７ａ上にはリレー装置０が設けられ
、このリレー装置はＸ線管■の電源に対するＯＮ、ＯＦ
ＦＦＦ制御音１うものである。
、このリレー装置はＸ線管■の電源に対するＯＮ、ＯＦ
ＦＦＦ制御音１うものである。
以上のような構成において、この発明による螢光Ｘ線膜
厚測定装置を作動させる場合について説明すると、通常
の測定操作の場合ドア■を開状態にし、サンプル◎をス
テージ＠上にセットし再びドア■を閉じるとマイクロス
イッチりの接点がＯＮとなりロータリーソレノイド［有
］に通電可能の状態になる。この状態でロータリーソレ
ノイド［相］が通′亀されると、レバー■および■を介
しシャッターブロック■が移動し、Ｘ線がコリメータ２
ａを介してサンプル０に照射され、測定が開始される。
厚測定装置を作動させる場合について説明すると、通常
の測定操作の場合ドア■を開状態にし、サンプル◎をス
テージ＠上にセットし再びドア■を閉じるとマイクロス
イッチりの接点がＯＮとなりロータリーソレノイド［有
］に通電可能の状態になる。この状態でロータリーソレ
ノイド［相］が通′亀されると、レバー■および■を介
しシャッターブロック■が移動し、Ｘ線がコリメータ２
ａを介してサンプル０に照射され、測定が開始される。
またドア■が開けられている状態においてはマイクロス
イッチ■の接点がＯＮになっており、この時たとえば誤
まってシャッターを手で作動させようとした場合に、マ
イクロスイッチ■が作動して接点がＯＮとなりこの結果
、リレー装＋１が作動しＸ線管■への直流を遮断するの
でＸ線の発生が止まる。
イッチ■の接点がＯＮになっており、この時たとえば誤
まってシャッターを手で作動させようとした場合に、マ
イクロスイッチ■が作動して接点がＯＮとなりこの結果
、リレー装＋１が作動しＸ線管■への直流を遮断するの
でＸ線の発生が止まる。
以上のように本発明によれば、ドア■が開いている状態
ではロータリンレノイド［相］によるシャッターブロッ
ク■の開閉が不可能であり、かつ万一この状態で誤まっ
てシャッターを手で作動させようとした場合は、Ｘ＃１
１電流が遮断させることによりｘ線被曝の危険が全くな
く、安全°Ｕ理上極めて効果があるという特徴を有する
。
ではロータリンレノイド［相］によるシャッターブロッ
ク■の開閉が不可能であり、かつ万一この状態で誤まっ
てシャッターを手で作動させようとした場合は、Ｘ＃１
１電流が遮断させることによりｘ線被曝の危険が全くな
く、安全°Ｕ理上極めて効果があるという特徴を有する
。
第１図はこの発明による螢光Ｘｉ膜厚測定装置を示すた
めの一部切欠斜面図、第２図は本装置の′鑞気接続を示
す回路図である。 １はＸ線管、２はシャッターブロック、６はカバー、４
はドア、５，６，７ｆｆマイクロスイツチで５ａ、６ａ
、７ａはそれぞれ５，６．７のマイクロスイッチの接点
レバーであ５．８．９はレバー、１０１’、Ｉｌ：ロー
タリーソレノイド、１１はサンプル、１２はステージ、
１３はリレー装置である。 以 上 出願人 株式会社第二梢工舎 代理人 弁理士最上 務 第１目 第２図 ４３−
めの一部切欠斜面図、第２図は本装置の′鑞気接続を示
す回路図である。 １はＸ線管、２はシャッターブロック、６はカバー、４
はドア、５，６，７ｆｆマイクロスイツチで５ａ、６ａ
、７ａはそれぞれ５，６．７のマイクロスイッチの接点
レバーであ５．８．９はレバー、１０１’、Ｉｌ：ロー
タリーソレノイド、１１はサンプル、１２はステージ、
１３はリレー装置である。 以 上 出願人 株式会社第二梢工舎 代理人 弁理士最上 務 第１目 第２図 ４３−
Claims (1)
- カバー内に設けられたＸ線管からのＸ森を移動自在に設
けられ、コリメータを一体に有−Ｔるシャッターブロッ
クによＶ制御してサンプルに対するＸ線の照射を行うも
のにおいて、前記ンヤツターブロックの移動と連動して
作動するマイクロスイッチと、カバーの前面に開閉自在
医設けられたドアと、前記カバーに設けられドアの開閉
と連動して互いに異なるタイミングでオンオフ動作する
ように構成された第１および第２のマイクロスイッチと
、前記Ｘ７尿管への磁流を制御するためのリレー装置と
、前記シャッターブロックを稼動させるためのロータリ
ンレノイドと全υ市え、部り己ドアが開状態の場合、前
記第１および第２スイツチおよびリレー装置の１乍動に
より、ロータリソレノイドおよびＸ線膜への亀溺１がオ
フ状１虎に保士毎されるように構成したことを特徴とす
る螢光Ｘ線膜厚計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16626782A JPS5967409A (ja) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | 螢光ｘ線膜厚計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16626782A JPS5967409A (ja) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | 螢光ｘ線膜厚計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5967409A true JPS5967409A (ja) | 1984-04-17 |
| JPS641722B2 JPS641722B2 (ja) | 1989-01-12 |
Family
ID=15828210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16626782A Granted JPS5967409A (ja) | 1982-09-24 | 1982-09-24 | 螢光ｘ線膜厚計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5967409A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002286662A (ja) * | 2000-04-06 | 2002-10-03 | Seiko Instruments Inc | 可搬型蛍光ｘ線分析計 |
| WO2005106439A1 (ja) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 蛍光ｘ線分析方法および装置 |
| JP2010175506A (ja) * | 2009-02-02 | 2010-08-12 | Shimadzu Corp | Ｘ線分析装置 |
-
1982
- 1982-09-24 JP JP16626782A patent/JPS5967409A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002286662A (ja) * | 2000-04-06 | 2002-10-03 | Seiko Instruments Inc | 可搬型蛍光ｘ線分析計 |
| WO2005106439A1 (ja) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 蛍光ｘ線分析方法および装置 |
| JPWO2005106439A1 (ja) * | 2004-04-28 | 2007-12-13 | 松下電器産業株式会社 | 蛍光ｘ線分析方法および装置 |
| US7515685B2 (en) | 2004-04-28 | 2009-04-07 | Panasonic Corporation | Fluorescent X-ray analysis method and device |
| JP4575369B2 (ja) * | 2004-04-28 | 2010-11-04 | パナソニック株式会社 | 蛍光ｘ線分析方法および装置 |
| JP2010175506A (ja) * | 2009-02-02 | 2010-08-12 | Shimadzu Corp | Ｘ線分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS641722B2 (ja) | 1989-01-12 |
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