JP3121554B2 - 照射室開放型ｘ線分析装置 - Google Patents
照射室開放型ｘ線分析装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、照射室の照射窓に
載置した試料に対して照射室内のＸ線源からＸ線を照射
するようにした照射室開放形Ｘ線分析装置に関するもの
である。
載置した試料に対して照射室内のＸ線源からＸ線を照射
するようにした照射室開放形Ｘ線分析装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】湾曲した
鋼板や、形が特定できない不定形試料をＸ線分析する場
合、照射窓を開けた照射室内に、試料に１次Ｘ線を照射
するＸ線源と、試料からの２次Ｘ線を検出する検出器を
設け、照射窓に試料を載置してＸ線分析するようにした
照射室開放型Ｘ線分析装置が使用される。このＸ線分析
装置では、照射窓に試料を載置してＸ線分析を行うこと
で、Ｘ線が照射室の外部に漏れるのを防止できる。しか
しながら、照射窓に試料が載置されないままで、Ｘ線照
射が行われるおそれがある。これを回避するため、照射
窓に試料が載置されると作動する試料載置確認用のスイ
ッチが設置され、スイッチが作動しないとＸ線照射を行
えないようにインターロックを構成する場合もある。
鋼板や、形が特定できない不定形試料をＸ線分析する場
合、照射窓を開けた照射室内に、試料に１次Ｘ線を照射
するＸ線源と、試料からの２次Ｘ線を検出する検出器を
設け、照射窓に試料を載置してＸ線分析するようにした
照射室開放型Ｘ線分析装置が使用される。このＸ線分析
装置では、照射窓に試料を載置してＸ線分析を行うこと
で、Ｘ線が照射室の外部に漏れるのを防止できる。しか
しながら、照射窓に試料が載置されないままで、Ｘ線照
射が行われるおそれがある。これを回避するため、照射
窓に試料が載置されると作動する試料載置確認用のスイ
ッチが設置され、スイッチが作動しないとＸ線照射を行
えないようにインターロックを構成する場合もある。
【０００３】しかし、このようなＸ線分析装置では、ど
のような形状の不定形試料を分析する場合でも、照射窓
に載置した試料でスイッチが作動するように、スイッチ
を設置することは困難である。
のような形状の不定形試料を分析する場合でも、照射窓
に載置した試料でスイッチが作動するように、スイッチ
を設置することは困難である。
【０００４】本発明は前記従来の問題に鑑みてなされた
もので、照射窓に試料がない場合に誤ってＸ線が照射さ
れるのを確実に防止できる照射室開放型Ｘ線分析装置を
提供することを目的とする。
もので、照射窓に試料がない場合に誤ってＸ線が照射さ
れるのを確実に防止できる照射室開放型Ｘ線分析装置を
提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項１の照射室開放型Ｘ線分析装置は、試料に１
次Ｘ線を照射するＸ線源と、前記試料からの２次Ｘ線を
検出する検出器とが照射室に収納され、この照射室を形
成するケースに開口した照射窓が、前記照射室の外方に
位置する前記試料によって覆われる構成に加えて、前記
検出器で検出されたＸ線の強度が所定レベル以上である
ことを判別する判別手段と、前記強度が所定レベル以上
であるとき前記Ｘ線源から試料への照射を継続させる保
持手段とを備えている。
に、請求項１の照射室開放型Ｘ線分析装置は、試料に１
次Ｘ線を照射するＸ線源と、前記試料からの２次Ｘ線を
検出する検出器とが照射室に収納され、この照射室を形
成するケースに開口した照射窓が、前記照射室の外方に
位置する前記試料によって覆われる構成に加えて、前記
検出器で検出されたＸ線の強度が所定レベル以上である
ことを判別する判別手段と、前記強度が所定レベル以上
であるとき前記Ｘ線源から試料への照射を継続させる保
持手段とを備えている。
【０００６】請求項１の照射室開放型Ｘ線分析装置によ
れば、照射室の照射窓が試料によって覆われているとき
に、Ｘ線源から試料に１次Ｘ線が照射されると、試料か
らの２次Ｘ線が検出器で検出されるので、その検出Ｘ線
の強度が所定レベル以上であることを判別手段が判別
し、この判断に応答して保持手段がＸ線源から試料への
照射を継続させる。また、照射室の照射窓が試料によっ
て覆われていなときには、Ｘ線源から１次Ｘ線が照射さ
れても、検出器が試料からの２次Ｘ線を検出しないの
で、検出Ｘ線の強度が所定レベルより低いことを判断手
段が判断し、この判断に応答して保持手段がＸ線源から
のＸ線照射の継続を停止する。これにより、照射窓に試
料のない状態でＸ線照射が行われてＸ線が外部に漏れる
のを防止できる。
れば、照射室の照射窓が試料によって覆われているとき
に、Ｘ線源から試料に１次Ｘ線が照射されると、試料か
らの２次Ｘ線が検出器で検出されるので、その検出Ｘ線
の強度が所定レベル以上であることを判別手段が判別
し、この判断に応答して保持手段がＸ線源から試料への
照射を継続させる。また、照射室の照射窓が試料によっ
て覆われていなときには、Ｘ線源から１次Ｘ線が照射さ
れても、検出器が試料からの２次Ｘ線を検出しないの
で、検出Ｘ線の強度が所定レベルより低いことを判断手
段が判断し、この判断に応答して保持手段がＸ線源から
のＸ線照射の継続を停止する。これにより、照射窓に試
料のない状態でＸ線照射が行われてＸ線が外部に漏れる
のを防止できる。
【０００７】請求項２の照射室開放型Ｘ線分析装置で
は、請求項１の照射室開放型Ｘ線分析装置において、前
記Ｘ線源は１次Ｘ線の通路を開閉するシャッタを備える
ものとし、前記保持手段は、前記シャッタの開状態を保
持するものとしている。この構成によれば、照射窓が試
料によって覆われている場合には、シャッタの開状態が
保持手段で保持されて、試料への１次Ｘ線の照射が継続
され、照射窓が試料によって覆われていない場合には、
保持手段によるシャッタ開状態が解除され、試料への１
次Ｘ線の照射が停止される。
は、請求項１の照射室開放型Ｘ線分析装置において、前
記Ｘ線源は１次Ｘ線の通路を開閉するシャッタを備える
ものとし、前記保持手段は、前記シャッタの開状態を保
持するものとしている。この構成によれば、照射窓が試
料によって覆われている場合には、シャッタの開状態が
保持手段で保持されて、試料への１次Ｘ線の照射が継続
され、照射窓が試料によって覆われていない場合には、
保持手段によるシャッタ開状態が解除され、試料への１
次Ｘ線の照射が停止される。
【０００８】請求項３の照射室開放型Ｘ線分析装置で
は、請求項１において、前記保持手段が、前記Ｘ線源の
作動状態を保持するものである。この構成によれば、照
射窓が試料によって覆われている場合には、Ｘ線源の作
動状態が保持手段で保持されて、試料への１次Ｘ線の照
射が継続され、照射窓が試料によって覆われていない場
合には、Ｘ線源の作動状態の保持手段による保持が解除
され、試料への１次Ｘ線の照射が停止される。
は、請求項１において、前記保持手段が、前記Ｘ線源の
作動状態を保持するものである。この構成によれば、照
射窓が試料によって覆われている場合には、Ｘ線源の作
動状態が保持手段で保持されて、試料への１次Ｘ線の照
射が継続され、照射窓が試料によって覆われていない場
合には、Ｘ線源の作動状態の保持手段による保持が解除
され、試料への１次Ｘ線の照射が停止される。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１は本発明の一実施形態である
照射室開放型Ｘ線分析装置の概略の構成を示す概念図で
ある。この照射室開放型Ｘ線分析装置は、試料３に１次
Ｘ線１を照射するＸ線源４と、試料３からの２次Ｘ線２
を検出する検出器５とを照射室６に収容したものであっ
て、照射室６を形成するケース７には照射窓８が開口さ
せてあり、この照射窓８は照射室６の外側から載置する
試料３によって覆われる。
に基づいて説明する。図１は本発明の一実施形態である
照射室開放型Ｘ線分析装置の概略の構成を示す概念図で
ある。この照射室開放型Ｘ線分析装置は、試料３に１次
Ｘ線１を照射するＸ線源４と、試料３からの２次Ｘ線２
を検出する検出器５とを照射室６に収容したものであっ
て、照射室６を形成するケース７には照射窓８が開口さ
せてあり、この照射窓８は照射室６の外側から載置する
試料３によって覆われる。
【００１０】Ｘ線源４は、Ｘ線管９とシャッタ１０とを
備える。Ｘ線管９の管体１１内には、フィラメント１３
とターゲット１４が収納されており、電源１２により前
記フィラメント１３に加熱用の電流が、ターゲット１４
に高電圧がそれぞれ印加される。ターゲット１４は、フ
ィラメント１３から放出される電子ａの衝突によって励
起されて１次Ｘ線１を放射し、その１次Ｘ線１は管体１
１の周壁に設けられた放射窓１５から前記ケース７の照
射窓８に向けて放射される。シャッタ１０は、Ｘ線管９
の放射窓１５から放射される１次Ｘ線１の通路を開閉す
るものであり、常時はばね１６により閉じ状態に規制さ
れ、ソレノイド１７の作動によりばね１６の復元力に抗
して開き状態に保持される。
備える。Ｘ線管９の管体１１内には、フィラメント１３
とターゲット１４が収納されており、電源１２により前
記フィラメント１３に加熱用の電流が、ターゲット１４
に高電圧がそれぞれ印加される。ターゲット１４は、フ
ィラメント１３から放出される電子ａの衝突によって励
起されて１次Ｘ線１を放射し、その１次Ｘ線１は管体１
１の周壁に設けられた放射窓１５から前記ケース７の照
射窓８に向けて放射される。シャッタ１０は、Ｘ線管９
の放射窓１５から放射される１次Ｘ線１の通路を開閉す
るものであり、常時はばね１６により閉じ状態に規制さ
れ、ソレノイド１７の作動によりばね１６の復元力に抗
して開き状態に保持される。
【００１１】検出器５は非分散型である半導体検出器か
らなり、前記ケース７の照射窓８の近傍に設けられる。
検出器５のＸ線入射側には、検出視野制限マスク１８が
設けられる。これにより、試料３からの２次Ｘ線２だけ
を選択的に検出できる。なお、検出視野制限マスク１８
は、１次Ｘ線１の照射経路の途中において、二点鎖線で
示すように１次Ｘ線１の照射範囲が照射窓８内に制限さ
れるように配置してもよい。
らなり、前記ケース７の照射窓８の近傍に設けられる。
検出器５のＸ線入射側には、検出視野制限マスク１８が
設けられる。これにより、試料３からの２次Ｘ線２だけ
を選択的に検出できる。なお、検出視野制限マスク１８
は、１次Ｘ線１の照射経路の途中において、二点鎖線で
示すように１次Ｘ線１の照射範囲が照射窓８内に制限さ
れるように配置してもよい。
【００１２】検出器５の出力端子は分析回路１９および
判定回路２０に接続される。分析回路１９は、検出器５
で検出された２次Ｘ線２の強度に基づき試料３の組成の
分析を行う回路である。判定回路２０は、検出器５で検
出されたＸ線強度が所定の基準レベル以上であることを
判別する判別手段である。ここでの検出器５で検出され
たＸ線強度とは、検出器５が非分散型であることから、
検出器５で検出される全部の波長帯域のＸ線強度の総和
をいう。この場合の基準レベルは、試料３からの２次Ｘ
線２を検出するときの検出器５のＸ線検出強度より低
く、前記ケース７の照射窓８に試料３がないときに検出
器５が検出するＸ線検出強度より高いレベルに設定され
る。
判定回路２０に接続される。分析回路１９は、検出器５
で検出された２次Ｘ線２の強度に基づき試料３の組成の
分析を行う回路である。判定回路２０は、検出器５で検
出されたＸ線強度が所定の基準レベル以上であることを
判別する判別手段である。ここでの検出器５で検出され
たＸ線強度とは、検出器５が非分散型であることから、
検出器５で検出される全部の波長帯域のＸ線強度の総和
をいう。この場合の基準レベルは、試料３からの２次Ｘ
線２を検出するときの検出器５のＸ線検出強度より低
く、前記ケース７の照射窓８に試料３がないときに検出
器５が検出するＸ線検出強度より高いレベルに設定され
る。
【００１３】前記シャッタ１０のソレノイド１７は常閉
接点型のスイッチ２１を介してシャッタ駆動回路２２に
接続され、このシャッタ駆動回路２２は外部からのスタ
ート信号ｂを受けてソレノイド１７を作動させる。ま
た、前記判定回路２０には遅延回路２３が接続され、こ
の遅延回路２３はスタート信号ｂを受けてから所定の遅
延時間τの経過後に判定回路２０を作動させる。この場
合の遅延時間τは、前記電源１２からＸ線管９に高電圧
が印加されてから、Ｘ線管９のターゲット１４が励起さ
れるまでの時間に相当する値に設定される。電源１２も
外部からのスタート信号ｂを受けて作動する。ソレノイ
ド１７、スイッチ２１、シャッタ駆動回路２２などによ
って、シャッタ１０の開状態を保持し、前記Ｘ線源４か
ら試料３への１次Ｘ線１の照射を継続させる保持手段２
４が構成される。
接点型のスイッチ２１を介してシャッタ駆動回路２２に
接続され、このシャッタ駆動回路２２は外部からのスタ
ート信号ｂを受けてソレノイド１７を作動させる。ま
た、前記判定回路２０には遅延回路２３が接続され、こ
の遅延回路２３はスタート信号ｂを受けてから所定の遅
延時間τの経過後に判定回路２０を作動させる。この場
合の遅延時間τは、前記電源１２からＸ線管９に高電圧
が印加されてから、Ｘ線管９のターゲット１４が励起さ
れるまでの時間に相当する値に設定される。電源１２も
外部からのスタート信号ｂを受けて作動する。ソレノイ
ド１７、スイッチ２１、シャッタ駆動回路２２などによ
って、シャッタ１０の開状態を保持し、前記Ｘ線源４か
ら試料３への１次Ｘ線１の照射を継続させる保持手段２
４が構成される。
【００１４】前記構成の照射室開放型Ｘ線分析装置によ
ると、照射室６の外側の試料３によって照射窓８が覆わ
れた状態のもとで、スタート信号ｂが入力されたとき、
シャッタ駆動回路２２によってソレノイド１７が作動し
て、シャッタ１０が開状態となると共に、電源１２から
Ｘ線管９に高電圧が印加される。これにより、Ｘ線管９
の放射窓１５から試料３に向けて１次Ｘ線１が照射さ
れ、試料３からの２次Ｘ線２が検出器５で検出される。
スタート信号ｂが入力されて、Ｘ線管９から１次Ｘ線１
が放射されるに足りる遅延時間τが経過すると、遅延回
路２３が判定回路２０を作動させる。このとき、試料３
からの２次Ｘ線２を検出する検出器５のＸ線検出強度は
所定基準レベル以上となるので、判定回路２０から対応
する判定出力が出される。この判定出力はスイッチ２１
をオフ動作させない。このため、シャッタ駆動回路２２
によるソレノイド１７の作動が継続し、シャッタ１０は
開状態に維持される。すなわち、以後も、Ｘ線源４から
試料３への１次Ｘ線１の照射が継続される。
ると、照射室６の外側の試料３によって照射窓８が覆わ
れた状態のもとで、スタート信号ｂが入力されたとき、
シャッタ駆動回路２２によってソレノイド１７が作動し
て、シャッタ１０が開状態となると共に、電源１２から
Ｘ線管９に高電圧が印加される。これにより、Ｘ線管９
の放射窓１５から試料３に向けて１次Ｘ線１が照射さ
れ、試料３からの２次Ｘ線２が検出器５で検出される。
スタート信号ｂが入力されて、Ｘ線管９から１次Ｘ線１
が放射されるに足りる遅延時間τが経過すると、遅延回
路２３が判定回路２０を作動させる。このとき、試料３
からの２次Ｘ線２を検出する検出器５のＸ線検出強度は
所定基準レベル以上となるので、判定回路２０から対応
する判定出力が出される。この判定出力はスイッチ２１
をオフ動作させない。このため、シャッタ駆動回路２２
によるソレノイド１７の作動が継続し、シャッタ１０は
開状態に維持される。すなわち、以後も、Ｘ線源４から
試料３への１次Ｘ線１の照射が継続される。
【００１５】一方、照射窓８が試料３によって覆われて
いない状態のもとで、スタート信号ｂが入力されたと
き、先の場合と同様に、シャッタ１０が開状態となると
共に、Ｘ線管９に高電圧が印加される。この場合、Ｘ線
管９の放射窓１５から放射される１次Ｘ線１の大部分は
照射窓８から照射室６外に放射される。このため、検出
器５は試料３からの２次Ｘ線２を検出しない。スタート
信号ｂの入力から遅延時間τが経過すると、遅延回路２
３が判定回路２０を作動させる。このとき、検出器５の
Ｘ線検出強度は所定基準レベルを下回る値となるので、
判定回路２０からこれに対応する判定出力が出される。
この判定出力はスイッチ２１をオフ動作させる。その結
果、シャッタ駆動回路２２によるソレノイド１７の作動
が停止し、シャッタ１０はばね１６の復元力で閉状態に
戻される。これにより、スタート信号ｂが入力されてか
ら遅延時間τが経過すると、Ｘ線源４からの１次Ｘ線１
の照射は停止し、照射窓８から１次Ｘ線１が照射室６外
に放射するのを防止できる。
いない状態のもとで、スタート信号ｂが入力されたと
き、先の場合と同様に、シャッタ１０が開状態となると
共に、Ｘ線管９に高電圧が印加される。この場合、Ｘ線
管９の放射窓１５から放射される１次Ｘ線１の大部分は
照射窓８から照射室６外に放射される。このため、検出
器５は試料３からの２次Ｘ線２を検出しない。スタート
信号ｂの入力から遅延時間τが経過すると、遅延回路２
３が判定回路２０を作動させる。このとき、検出器５の
Ｘ線検出強度は所定基準レベルを下回る値となるので、
判定回路２０からこれに対応する判定出力が出される。
この判定出力はスイッチ２１をオフ動作させる。その結
果、シャッタ駆動回路２２によるソレノイド１７の作動
が停止し、シャッタ１０はばね１６の復元力で閉状態に
戻される。これにより、スタート信号ｂが入力されてか
ら遅延時間τが経過すると、Ｘ線源４からの１次Ｘ線１
の照射は停止し、照射窓８から１次Ｘ線１が照射室６外
に放射するのを防止できる。
【００１６】なお、上記照射室開放型Ｘ線分析装置で
は、安全確認用の検出器を特別に設けることなく、Ｘ線
分析用の検出器５を安全確認用に併用しているので、安
全確認機構を簡単かつ安価に構成できる。
は、安全確認用の検出器を特別に設けることなく、Ｘ線
分析用の検出器５を安全確認用に併用しているので、安
全確認機構を簡単かつ安価に構成できる。
【００１７】図２は本発明の他の実施形態である照射室
開放型Ｘ線分析装置の概略の構成を示す概念図である。
この実施形態では、図１の構成におけるシャッタ１０、
ソレノイド１７およびシャッタ駆動回路２２を省略し、
電源１２とＸ線管９との間に常閉接点型のスイッチ２１
を介挿し、判定回路２０の判定出力によりスイッチ２１
をオフ動作させるようにしたものである。分析回路１
９、判定回路２０、遅延回路２３などは図１の構成の場
合と同様である。この場合、スイッチ２１が、Ｘ線源４
から試料３へのＸ線照射を継続させる保持手段２４を構
成することになる。
開放型Ｘ線分析装置の概略の構成を示す概念図である。
この実施形態では、図１の構成におけるシャッタ１０、
ソレノイド１７およびシャッタ駆動回路２２を省略し、
電源１２とＸ線管９との間に常閉接点型のスイッチ２１
を介挿し、判定回路２０の判定出力によりスイッチ２１
をオフ動作させるようにしたものである。分析回路１
９、判定回路２０、遅延回路２３などは図１の構成の場
合と同様である。この場合、スイッチ２１が、Ｘ線源４
から試料３へのＸ線照射を継続させる保持手段２４を構
成することになる。
【００１８】この照射室開放型Ｘ線分析装置によると、
試料３により照射窓８が覆われている場合、判定回路２
０からの判定出力によってスイッチ２１のオン状態が保
持されて、電源１２からＸ線源４への給電が継続され
て、Ｘ線源４から試料３への１次Ｘ線１の照射が継続さ
れる。
試料３により照射窓８が覆われている場合、判定回路２
０からの判定出力によってスイッチ２１のオン状態が保
持されて、電源１２からＸ線源４への給電が継続され
て、Ｘ線源４から試料３への１次Ｘ線１の照射が継続さ
れる。
【００１９】一方、照射窓８が試料３によって覆われて
いない場合、判定回路２０からの判定出力によってスイ
ッチ２１をオフ動作させる。その結果、電源１２からＸ
線管９への高電圧の印加が停止し、以後は、Ｘ線源４か
らの１次Ｘ線１の照射が停止し、照射窓８から１次Ｘ線
１が照射室６外に放射するのを防止できる。
いない場合、判定回路２０からの判定出力によってスイ
ッチ２１をオフ動作させる。その結果、電源１２からＸ
線管９への高電圧の印加が停止し、以後は、Ｘ線源４か
らの１次Ｘ線１の照射が停止し、照射窓８から１次Ｘ線
１が照射室６外に放射するのを防止できる。
【００２０】なお、前記各実施形態では、照射窓８の上
に試料３を載置してＸ線分析する構成のＸ線分析装置の
場合について示したが、照射窓８を建築物のような定置
物体である試料３に押し当ててＸ線分析するハンディタ
イプの照射室開放型Ｘ線分析装置に同じ構成を装備して
も同様の機能を付与することができる。
に試料３を載置してＸ線分析する構成のＸ線分析装置の
場合について示したが、照射窓８を建築物のような定置
物体である試料３に押し当ててＸ線分析するハンディタ
イプの照射室開放型Ｘ線分析装置に同じ構成を装備して
も同様の機能を付与することができる。
【００２１】また、前記各実施形態では、試料３からの
２次Ｘ線２を検出する検出器５を分光を要しない非分散
型とした照射室開放型Ｘ線分析装置の場合について示し
たが、検出器を分散型とした照射室開放型Ｘ線分析装置
の場合でも同じ構成を装備して同様の機能を付与するこ
とができる。
２次Ｘ線２を検出する検出器５を分光を要しない非分散
型とした照射室開放型Ｘ線分析装置の場合について示し
たが、検出器を分散型とした照射室開放型Ｘ線分析装置
の場合でも同じ構成を装備して同様の機能を付与するこ
とができる。
【００２２】すなわち、分散型の装置では、分光器と検
出器を、試料中の分析対象元素の波長に合わせて一定の
角度関係に保って移動させる周知のゴニオメータを備え
ているので、検出器が分析対象元素の波長に合致してい
ない位置にある場合には、検出器はＸ線のバックグラウ
ンド成分（分析対象元素の波長以外の波長成分）のみを
検出することになり、そのＸ線検出強度のレベルは分析
対象元素の波長成分を検出する場合に比べてかなり低い
ものとなる。しかし、この場合でも、バックグラウンド
成分を検出する検出器のＸ線検出強度は、照射窓が試料
で覆われていないときに検出器が検出するＸ線検出強
度、つまり２次Ｘ線２を受けたケース７の壁面などから
放射されるＸ線の強度、と比べて十分高いレベルとなる
ので、適正な判定基準レベルを設定することにより、試
料があるときのＸ線検出強度と試料がないときのＸ線検
出強度を判定回路により容易に判別できる。
出器を、試料中の分析対象元素の波長に合わせて一定の
角度関係に保って移動させる周知のゴニオメータを備え
ているので、検出器が分析対象元素の波長に合致してい
ない位置にある場合には、検出器はＸ線のバックグラウ
ンド成分（分析対象元素の波長以外の波長成分）のみを
検出することになり、そのＸ線検出強度のレベルは分析
対象元素の波長成分を検出する場合に比べてかなり低い
ものとなる。しかし、この場合でも、バックグラウンド
成分を検出する検出器のＸ線検出強度は、照射窓が試料
で覆われていないときに検出器が検出するＸ線検出強
度、つまり２次Ｘ線２を受けたケース７の壁面などから
放射されるＸ線の強度、と比べて十分高いレベルとなる
ので、適正な判定基準レベルを設定することにより、試
料があるときのＸ線検出強度と試料がないときのＸ線検
出強度を判定回路により容易に判別できる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
照射室の照射窓が試料によって覆われていないとき、Ｘ
線源から１次Ｘ線が照射されても、検出器が試料からの
２次Ｘ線を検出しないので、検出Ｘ線の強度が所定レベ
ルより低いと判断手段が判断し、この判断に応答して保
持手段がＸ線源からのＸ線照射の継続を停止することに
なり、照射窓に試料のない状態でＸ線照射が行われてＸ
線が外部に漏れるのを確実に防止できる。
照射室の照射窓が試料によって覆われていないとき、Ｘ
線源から１次Ｘ線が照射されても、検出器が試料からの
２次Ｘ線を検出しないので、検出Ｘ線の強度が所定レベ
ルより低いと判断手段が判断し、この判断に応答して保
持手段がＸ線源からのＸ線照射の継続を停止することに
なり、照射窓に試料のない状態でＸ線照射が行われてＸ
線が外部に漏れるのを確実に防止できる。
【図１】本発明の一実施形態に係る照射室開放型Ｘ線分
析装置の概略構成を示す概念図である。
析装置の概略構成を示す概念図である。
【図２】他の実施形態に係る照射室開放型Ｘ線分析装置
の概略構成を示す概念図である。
の概略構成を示す概念図である。
１…１次Ｘ線、２…２次Ｘ線、３…試料、４…Ｘ線源、
５…検出器、６…照射室、７…ケース、８…照射窓、１
０…シャッタ、２０…判定回路（判別手段）、２４…保
持手段
５…検出器、６…照射室、７…ケース、８…照射窓、１
０…シャッタ、２０…判定回路（判別手段）、２４…保
持手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 23/00 - 23/227 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (3)
- 【請求項１】 試料に１次Ｘ線を照射するＸ線源と、前
記試料からの２次Ｘ線を検出する検出器とが照射室に収
納され、この照射室を形成するケースに開口した照射窓
が、前記照射室の外方に位置する前記試料によって覆わ
れるＸ線分析装置において、前記検出器で検出されたＸ
線の強度が所定レベル以上であることを判別する判別手
段と、前記強度が所定レベル以上であるとき前記Ｘ線源
から試料への照射を継続させる保持手段とを備えた照射
室開放型Ｘ線分析装置。 - 【請求項２】 請求項１において、前記Ｘ線源は１次Ｘ
線の通路を開閉するシャッタを備え、前記保持手段は、
前記シャッタの開状態を保持するものである照射室開放
型Ｘ線分析装置。 - 【請求項３】 請求項１において、前記保持手段は、前
記Ｘ線源の作動状態を保持するものである照射室開放型
Ｘ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09026408A JP3121554B2 (ja) | 1997-02-10 | 1997-02-10 | 照射室開放型ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09026408A JP3121554B2 (ja) | 1997-02-10 | 1997-02-10 | 照射室開放型ｘ線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10221276A JPH10221276A (ja) | 1998-08-21 |
| JP3121554B2 true JP3121554B2 (ja) | 2001-01-09 |
Family
ID=12192734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09026408A Expired - Fee Related JP3121554B2 (ja) | 1997-02-10 | 1997-02-10 | 照射室開放型ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3121554B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102128847B (zh) * | 2010-01-15 | 2012-11-14 | 江苏天瑞仪器股份有限公司 | 用于x射线荧光光谱仪的光谱信号获取装置 |
| KR101465353B1 (ko) * | 2013-07-22 | 2014-11-25 | 김우성 | 매트 및 그 제조 방법 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010197229A (ja) * | 2009-02-25 | 2010-09-09 | Osaka City Univ | 蛍光ｘ線分析装置 |
| US9176080B2 (en) | 2011-07-19 | 2015-11-03 | Olympus Ndt, Inc. | X-ray analysis apparatus with detector window protection feature |
-
1997
- 1997-02-10 JP JP09026408A patent/JP3121554B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| CN102128847B (zh) * | 2010-01-15 | 2012-11-14 | 江苏天瑞仪器股份有限公司 | 用于x射线荧光光谱仪的光谱信号获取装置 |
| KR101465353B1 (ko) * | 2013-07-22 | 2014-11-25 | 김우성 | 매트 및 그 제조 방법 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10221276A (ja) | 1998-08-21 |
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