JPS596589A - 炭酸ガスレ−ザ装置 - Google Patents
炭酸ガスレ−ザ装置Info
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- JPS596589A JPS596589A JP11579082A JP11579082A JPS596589A JP S596589 A JPS596589 A JP S596589A JP 11579082 A JP11579082 A JP 11579082A JP 11579082 A JP11579082 A JP 11579082A JP S596589 A JPS596589 A JP S596589A
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- gas
- adsorbent
- valve
- carbon dioxide
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ガス循環流路に吸着剤を収納したガス浄化装
置を設けてガスの浄化を行い、かつ吸着剤を再生する機
能を有する炭酸ガスレーザ装置に関するものである。
置を設けてガスの浄化を行い、かつ吸着剤を再生する機
能を有する炭酸ガスレーザ装置に関するものである。
一般に、炭酸ガスレーザ装置は、放電管内にＣＯＩ 、
Ｎ、 、 Ｈｅ等の混合ガスを循環させ、グロー放電
を行ってレーザ光を発生させる。しかし、このグロー放
電によりｃｏ、が解離（ＣＯ２，ＧＯ＋１／！０！〕シ
、発生したＯｍは速やかにＮ２と反応して、ＮＯ、？Ｊ
ｏ、 、 Ｎ、Ｏ等の窒素酸化物が生成されルタメニ、
レーザ発振作用が不安定となってレーザ出力が低下する
ことは既に知られている。
Ｎ、 、 Ｈｅ等の混合ガスを循環させ、グロー放電
を行ってレーザ光を発生させる。しかし、このグロー放
電によりｃｏ、が解離（ＣＯ２，ＧＯ＋１／！０！〕シ
、発生したＯｍは速やかにＮ２と反応して、ＮＯ、？Ｊ
ｏ、 、 Ｎ、Ｏ等の窒素酸化物が生成されルタメニ、
レーザ発振作用が不安定となってレーザ出力が低下する
ことは既に知られている。
また、装置全体の気密性の不足がら大気中のＨ，Ｏの混
入または装置内壁に付着したＨ２Ｏが考えられ、とのＨ
！Ｏの嵐が多いとレーザ発振作用に悪影響を及ぼすこと
も知られている。
入または装置内壁に付着したＨ２Ｏが考えられ、とのＨ
！Ｏの嵐が多いとレーザ発振作用に悪影響を及ぼすこと
も知られている。
したがって従来より、レーザ出力の低下防止策として、
炭酸ガスの分解によって生成されたＣＯと０！とを触媒
を利用して反応させ、炭酸ガスを再生する方法、または
触媒方式の補助手段として吸着剤を用いる方法が採用さ
れている。
炭酸ガスの分解によって生成されたＣＯと０！とを触媒
を利用して反応させ、炭酸ガスを再生する方法、または
触媒方式の補助手段として吸着剤を用いる方法が採用さ
れている。
ところが、前者においては、触媒として用いられる白金
、パラジウム、ルテニウム等は高価で保守が面倒であり
、後者においては吸着剤を交換しなければならないので
、吸着剤のコスト面また保守点検に問題があった。
、パラジウム、ルテニウム等は高価で保守が面倒であり
、後者においては吸着剤を交換しなければならないので
、吸着剤のコスト面また保守点検に問題があった。
本発明の目的は、ガス循環流路に設けられる高価な触媒
の代りに、より安価な吸着剤を設けて、グロー放電によ
る生成物すなわちＧｏ、Ｎｏ。
の代りに、より安価な吸着剤を設けて、グロー放電によ
る生成物すなわちＧｏ、Ｎｏ。
ＮｏｈＮ、Ｏと装置に混入するＨ、０または装置内壁に
付着したＨｌｏとを吸着して、レーザ出力の時間的な減
少を解決しようとするものであり、さらには吸着剤の保
守を容易にしようとするものである〇 先ず、本発明に用いる吸着剤について説明する０吸着剤
として、例えば合成ゼオライト、シリカゲル、活性アル
ミナ等があり、これらは分極性の高い物質を選択的に強
く吸着する。例えば双極子モーメントの値が、ＣＯＩ
、 Ｈ２、Ｈｅではそれぞれ零であるのに対して、グロ
ー放電による生成物すなわちＧＯ、ＮＯ、ＮＯ，、Ｎ、
Ｏハ＋ｔＬぞれ０．１０．０．１０．０．３．０．１６
６ テアａｌ）、Ｈ，０ニついては１．９４ である。
付着したＨｌｏとを吸着して、レーザ出力の時間的な減
少を解決しようとするものであり、さらには吸着剤の保
守を容易にしようとするものである〇 先ず、本発明に用いる吸着剤について説明する０吸着剤
として、例えば合成ゼオライト、シリカゲル、活性アル
ミナ等があり、これらは分極性の高い物質を選択的に強
く吸着する。例えば双極子モーメントの値が、ＣＯＩ
、 Ｈ２、Ｈｅではそれぞれ零であるのに対して、グロ
ー放電による生成物すなわちＧＯ、ＮＯ、ＮＯ，、Ｎ、
Ｏハ＋ｔＬぞれ０．１０．０．１０．０．３．０．１６
６ テアａｌ）、Ｈ，０ニついては１．９４ である。
したがって、 Ｃｏ１．Ｎ、。
Ｈｅに比して吸着剤がＧｏ 、 ＮＯ、ＮＯ，、Ｎ、０
およびＨ８０（以下、不純ガスという。）をよく吸着す
ることがわかる。また、このようなガスを吸着した吸着
剤は、加熱するかまたは加熱しながら乾燥したＮ、など
の不活性なガスを流すことによって再生することができ
る。
およびＨ８０（以下、不純ガスという。）をよく吸着す
ることがわかる。また、このようなガスを吸着した吸着
剤は、加熱するかまたは加熱しながら乾燥したＮ、など
の不活性なガスを流すことによって再生することができ
る。
以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する
。
。
第１図は本発明によるガス循ｌｉｌ型炭酸ガスレーザ装
置の概略図であって、図において１は放電管であり、こ
の放電管ｌ内では、ガス循ａｍ路に設けられたブロワ２
によって、ガス供給口３から供給されるＣｏｇ 、 Ｎ
！ 、 Ｈｅを混合して、仁の混合ガスがｊ８１のガス
流入口４と第２のガス流入口５を通って、ガス流出口６
に向って循環している。このように構成される装置のガ
ス循環流路のブロワ２とガス流出口６との間に、吸着剤
を収納したガス浄化装置７を設置する。このガス浄化装
置７には、吸着剤を再生するための吸着剤再生装［５０
の一構成である加熱装置例えばヒータ８が取付けられて
いる。さらに、ガス流出口６とガス浄化装置７との間、
またはガス浄１Ｇ装置７とブロワ２との間に分岐流路９
を設けて、これにバルブ１０と吸着剤再生装置゛５０の
一構成である排気装置例えば真空ポンプｉ１とが直列に
接続されており、真空ポンプ１１にはガス排出口２２が
設けられている。なお、吸着剤再生装置５０は、例えば
ヒータ８と真空ポンプ１１とから構成される。
置の概略図であって、図において１は放電管であり、こ
の放電管ｌ内では、ガス循ａｍ路に設けられたブロワ２
によって、ガス供給口３から供給されるＣｏｇ 、 Ｎ
！ 、 Ｈｅを混合して、仁の混合ガスがｊ８１のガス
流入口４と第２のガス流入口５を通って、ガス流出口６
に向って循環している。このように構成される装置のガ
ス循環流路のブロワ２とガス流出口６との間に、吸着剤
を収納したガス浄化装置７を設置する。このガス浄化装
置７には、吸着剤を再生するための吸着剤再生装［５０
の一構成である加熱装置例えばヒータ８が取付けられて
いる。さらに、ガス流出口６とガス浄化装置７との間、
またはガス浄１Ｇ装置７とブロワ２との間に分岐流路９
を設けて、これにバルブ１０と吸着剤再生装置゛５０の
一構成である排気装置例えば真空ポンプｉ１とが直列に
接続されており、真空ポンプ１１にはガス排出口２２が
設けられている。なお、吸着剤再生装置５０は、例えば
ヒータ８と真空ポンプ１１とから構成される。
以下に、この装置の動作について説明する。
先ず、吸着剤によりガスを浄化する場合は、バルブ１０
を閉じた状態にする。放電管ｌ内で発生するグロー放電
による生成物すなわちＧＯ。
を閉じた状態にする。放電管ｌ内で発生するグロー放電
による生成物すなわちＧＯ。
ＮＯ、Ｎｏ、 、 Ｎ、０と大気中の水分の混入によ訊
２０とが、吸着剤を収納したガス浄化装置７を通過する
ときに吸着される。ここで浄化されたガスは、ブロワ２
によって再び放電管ｌに戻される。
２０とが、吸着剤を収納したガス浄化装置７を通過する
ときに吸着される。ここで浄化されたガスは、ブロワ２
によって再び放電管ｌに戻される。
次に、吸゛着効果の減少した吸着剤を再生する場合は、
レーザ発振を停止した後に、バルブ１０を開いた状態に
して、吸着剤再生装置５ｏの一構成であるヒータ８によ
りガス浄化装置７内の吸着剤を加熱すると、吸着剤から
不純ガスが脱離し、このガスは吸着剤再生装置５ｏの一
構成である真空ポンプ１１ ＩＣよりガス排出口２２か
ら外気へ排出される。
レーザ発振を停止した後に、バルブ１０を開いた状態に
して、吸着剤再生装置５ｏの一構成であるヒータ８によ
りガス浄化装置７内の吸着剤を加熱すると、吸着剤から
不純ガスが脱離し、このガスは吸着剤再生装置５ｏの一
構成である真空ポンプ１１ ＩＣよりガス排出口２２か
ら外気へ排出される。
第２図は本発明による第２の実施例を示すガス循Ｊｌｌ
ｆＩ！炭酸ガスレーザ装置の概略図であって、第１図と
同一の構成部分は同一符号を付している。ガス循環流路
にガス流出口６とブロク２との間からブロワ２とガス供
給口３との間までをバイパスするガス浄化用のバイパス
流路１２を設ける。ガス流出口６とブロワ２との間に設
けたバイパス人口１３に続けて、第１のオリフィス１４
．第１の真空ポンプ１５．第１のバルブ１６、ガス浄化
装置７．第２のバルブ１７および第２のオリフィス１８
を、ブロワ２とガス供給口３との間に設けたバイパス出
口１９に直列接続する。さらに、第１のバルブ１６とガ
ス浄化装置７との間、またはガス浄化装置７と第２のバ
ルブ１７との間に排気用の分岐流路９を設ける。これに
は直列接続される第３のバルブ２０と第２の真空ポンプ
２１とがあり、第２の真空ポンプ２１にはガス排出口２
２が設けられている。なお、吸着剤再生装置５０は、例
えばヒータ８と第２の真空ポンプ２１とから構成される
。
ｆＩ！炭酸ガスレーザ装置の概略図であって、第１図と
同一の構成部分は同一符号を付している。ガス循環流路
にガス流出口６とブロク２との間からブロワ２とガス供
給口３との間までをバイパスするガス浄化用のバイパス
流路１２を設ける。ガス流出口６とブロワ２との間に設
けたバイパス人口１３に続けて、第１のオリフィス１４
．第１の真空ポンプ１５．第１のバルブ１６、ガス浄化
装置７．第２のバルブ１７および第２のオリフィス１８
を、ブロワ２とガス供給口３との間に設けたバイパス出
口１９に直列接続する。さらに、第１のバルブ１６とガ
ス浄化装置７との間、またはガス浄化装置７と第２のバ
ルブ１７との間に排気用の分岐流路９を設ける。これに
は直列接続される第３のバルブ２０と第２の真空ポンプ
２１とがあり、第２の真空ポンプ２１にはガス排出口２
２が設けられている。なお、吸着剤再生装置５０は、例
えばヒータ８と第２の真空ポンプ２１とから構成される
。
以下に、この装置の動作について説明する。
先ず、吸着剤によりガスを浄化する場合は、第３のバル
ブ２０を閉じ、第１のバルブ１６およびｊ８２のバルブ
１７を開いた状態にして、第１の真空ポンプ１５により
抽気されたガスは第１のオリフィス１４で適正な流源に
され、第１のバルブ１６を経てガス浄化装置７に至る。
ブ２０を閉じ、第１のバルブ１６およびｊ８２のバルブ
１７を開いた状態にして、第１の真空ポンプ１５により
抽気されたガスは第１のオリフィス１４で適正な流源に
され、第１のバルブ１６を経てガス浄化装置７に至る。
このガス浄化装置７はグロー放電による生成物すなわち
ＧＯ、ＮＯ、Ｎｏ、 、 Ｎ２０とＨ！０とを吸着して
、ここで浄１Ｌされたガスは第２のバルブ１７を経て、
第２のオリフィス１８で適正な流鰍にされて再び元のガ
ス循環流路に戻される。
ＧＯ、ＮＯ、Ｎｏ、 、 Ｎ２０とＨ！０とを吸着して
、ここで浄１Ｌされたガスは第２のバルブ１７を経て、
第２のオリフィス１８で適正な流鰍にされて再び元のガ
ス循環流路に戻される。
次に、吸着効果の減少した吸着剤を再生する場合は、第
１のバルブ１６および９１６２のバルブ１７を閉じ、第
３のバルブ２０を開いた状態にして、ヒータ８によりガ
ス浄化装置７内の吸着剤を加熱すると、吸着剤から不純
ガスが脱離し、このガスは第２の真空ポンプ２１により
ガス排出口２２から外気へ排出される。
１のバルブ１６および９１６２のバルブ１７を閉じ、第
３のバルブ２０を開いた状態にして、ヒータ８によりガ
ス浄化装置７内の吸着剤を加熱すると、吸着剤から不純
ガスが脱離し、このガスは第２の真空ポンプ２１により
ガス排出口２２から外気へ排出される。
第３図は本発明による第３の実施例を示すガス循環型炭
酸ガスレーザ装置の概略図であって、第２図と異なると
ころは、第１のバルブ１６とガス浄化装置７との間に排
気用の分岐流路９を設け、さらにガス浄化装置７と第２
のバルブ１７との間に別の分岐流路２３を設けて、これ
に直列接続されるｓ４のバルブ２４と不純ガス排出用ガ
ス供給装置２５とを設置する。また、上記の配置とは逆
に、排気用の分岐流路９をガス浄化装置７と第２のバル
ブ１７との間に設け、さらに分岐流路２３を第１のバル
ブ１６とガス浄化装置７との間に設けて、これに直列接
続される第４のバルブ２４と不純ガス排出用ガス供給装
置２５とを設置するようにしてもよい。しかし、一般的
には前者の方が好ましい。また、第３の実施例では、不
純ガス排出用ガス供給装置２５から供給される乾燥ガス
の流速番こよって発生した不純ガスを排出できるので、
ｊ８２の真空ポンプ２１を省略すること力（できる。な
お、吸着剤再生装置５０は、例え＆ぼヒータ８と不純ガ
ス排出用ガス供給装置２５と力）ら構成される。
酸ガスレーザ装置の概略図であって、第２図と異なると
ころは、第１のバルブ１６とガス浄化装置７との間に排
気用の分岐流路９を設け、さらにガス浄化装置７と第２
のバルブ１７との間に別の分岐流路２３を設けて、これ
に直列接続されるｓ４のバルブ２４と不純ガス排出用ガ
ス供給装置２５とを設置する。また、上記の配置とは逆
に、排気用の分岐流路９をガス浄化装置７と第２のバル
ブ１７との間に設け、さらに分岐流路２３を第１のバル
ブ１６とガス浄化装置７との間に設けて、これに直列接
続される第４のバルブ２４と不純ガス排出用ガス供給装
置２５とを設置するようにしてもよい。しかし、一般的
には前者の方が好ましい。また、第３の実施例では、不
純ガス排出用ガス供給装置２５から供給される乾燥ガス
の流速番こよって発生した不純ガスを排出できるので、
ｊ８２の真空ポンプ２１を省略すること力（できる。な
お、吸着剤再生装置５０は、例え＆ぼヒータ８と不純ガ
ス排出用ガス供給装置２５と力）ら構成される。
以下に、この装置の動作番こつむ）て説明する。
先ず、吸着剤によりガスを浄イヒする場合ｉｔ、第２図
と全く同様であり、ただ追加した第４のノ（ルブ２４を
閉じた状態にすれ＆２、浄１１１．されたガスは再び元
の循環流路番こ戻される。
と全く同様であり、ただ追加した第４のノ（ルブ２４を
閉じた状態にすれ＆２、浄１１１．されたガスは再び元
の循環流路番こ戻される。
次に、吸着効果の減少した吸着剤１を再生する場合ハ、
第１のバルブ１６および第２のノクルブ１７を閉じ、第
３のノクルブ２０および第４の）（ルブ２４を開いた状
態にして、ヒータ８Ｉこよりガス浄化装置７内の吸着剤
を加熱し、力）つ不純ガス排出用ガス供給装置２５番こ
より乾燥したＮ。
第１のバルブ１６および第２のノクルブ１７を閉じ、第
３のノクルブ２０および第４の）（ルブ２４を開いた状
態にして、ヒータ８Ｉこよりガス浄化装置７内の吸着剤
を加熱し、力）つ不純ガス排出用ガス供給装置２５番こ
より乾燥したＮ。
などの不活性なガスを吸着方向と逆の方向薯こ流すと、
吸着剤から不純ガス力（脱離し、このガスはガス排出口
２２から外気へ排気される。
吸着剤から不純ガス力（脱離し、このガスはガス排出口
２２から外気へ排気される。
以上の説明において、各バルブの開閉、各真空ポンプの
作動時間、ヒータの通電時間および不純ガス排出用ガス
供給装置の作動時間はすべて制御装置２６によってシー
ケンス制御される。
作動時間、ヒータの通電時間および不純ガス排出用ガス
供給装置の作動時間はすべて制御装置２６によってシー
ケンス制御される。
以上のように、本発明によれば、高価で保守が面倒な触
媒の代りに吸着剤を用いてガスを浄化することにより、
？−ザ出力の時間的な減少を防止することができ、さら
に吸着剤を再生して使用するため吸着剤を交換する必要
がないので、保守が容易となる。
媒の代りに吸着剤を用いてガスを浄化することにより、
？−ザ出力の時間的な減少を防止することができ、さら
に吸着剤を再生して使用するため吸着剤を交換する必要
がないので、保守が容易となる。
第１図は本発明によるガス循環型炭酸ガスレーザ装置の
概略図、第２図は本発明による第２の実施例を示すガス
循環型炭酸ガスレーザ装置の概略図、第３図は本発明に
よる第３の実施例を示すガス循環型炭酸ガスレーザ装置
の概略図である。 ７・・・ガス浄化装置、８・・・ヒータ、１１・・・真
空ポンプ、１２・・・バイパス流路、２１・・・第２の
真空ポンプ、２５・・・不純ガス排出用ガス供給装置、
５０・・・吸着剤再生装置。 代理人 弁理士 中井 宏 手続補正書（自発） 昭和５７年８月５日 １、事件の表示 昭和５７年特許願第１１５７９０号 ２、発明の名称 炭酸ガスレーザ装置 ３、補正する者 事件との関係 特 許 出 願 人 大阪市淀用区田用２丁目１番１１号 （０２６） 大阪変圧器株式会社 ４、代理人 住 所 〒５３２ 大阪市淀用区田用２丁目１番１
１号３９９−
概略図、第２図は本発明による第２の実施例を示すガス
循環型炭酸ガスレーザ装置の概略図、第３図は本発明に
よる第３の実施例を示すガス循環型炭酸ガスレーザ装置
の概略図である。 ７・・・ガス浄化装置、８・・・ヒータ、１１・・・真
空ポンプ、１２・・・バイパス流路、２１・・・第２の
真空ポンプ、２５・・・不純ガス排出用ガス供給装置、
５０・・・吸着剤再生装置。 代理人 弁理士 中井 宏 手続補正書（自発） 昭和５７年８月５日 １、事件の表示 昭和５７年特許願第１１５７９０号 ２、発明の名称 炭酸ガスレーザ装置 ３、補正する者 事件との関係 特 許 出 願 人 大阪市淀用区田用２丁目１番１１号 （０２６） 大阪変圧器株式会社 ４、代理人 住 所 〒５３２ 大阪市淀用区田用２丁目１番１
１号３９９−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 ガス循環型炭酸ガスレーザ装置において、ガス循
環流路に設置される吸着剤を収納したガス浄化装置と前
記吸着剤を再生する吸着剤再生装置とを具備した炭酸が
スレーザ装置。 ２、 ｎｅＪ記ガス循環流路にガス浄化用のバイパス
流路を設けた特許請求の範囲第１項に記載の炭酸ガスレ
ーザ装置。 ３、別記吸着剤再生装置は、加熱装置と排気装置とから
なる特許請求の範囲第１項に記載の炭酸ガスレーザ装置
。 ４、前記吸着剤再生装置は、加熱装置と不純ガス排出用
ガス供給装置とからなる特許請求の範囲第１項に記載の
炭酸ガスレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11579082A JPS596589A (ja) | 1982-07-03 | 1982-07-03 | 炭酸ガスレ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11579082A JPS596589A (ja) | 1982-07-03 | 1982-07-03 | 炭酸ガスレ−ザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS596589A true JPS596589A (ja) | 1984-01-13 |
Family
ID=14671129
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11579082A Pending JPS596589A (ja) | 1982-07-03 | 1982-07-03 | 炭酸ガスレ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS596589A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6297381A (ja) * | 1985-10-24 | 1987-05-06 | Komatsu Ltd | ガスレ−ザ装置 |
| JPH0343755U (ja) * | 1989-09-04 | 1991-04-24 | ||
| JPH0412582A (ja) * | 1990-05-01 | 1992-01-17 | Sangyo Souzou Kenkyusho | Ｃｏレーザー装置 |
| JP2010092920A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-22 | Ebara Corp | 不純物を除去する不純物除去装置およびその運転方法 |
-
1982
- 1982-07-03 JP JP11579082A patent/JPS596589A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6297381A (ja) * | 1985-10-24 | 1987-05-06 | Komatsu Ltd | ガスレ−ザ装置 |
| JPH0343755U (ja) * | 1989-09-04 | 1991-04-24 | ||
| JPH0412582A (ja) * | 1990-05-01 | 1992-01-17 | Sangyo Souzou Kenkyusho | Ｃｏレーザー装置 |
| JP2010092920A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-22 | Ebara Corp | 不純物を除去する不純物除去装置およびその運転方法 |
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