JPH07754A - 超低露点空気発生装置 - Google Patents
超低露点空気発生装置Info
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- JPH07754A JPH07754A JP5171036A JP17103693A JPH07754A JP H07754 A JPH07754 A JP H07754A JP 5171036 A JP5171036 A JP 5171036A JP 17103693 A JP17103693 A JP 17103693A JP H07754 A JPH07754 A JP H07754A
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- F24F2203/10—Rotary wheel
- F24F2203/1072—Rotary wheel comprising two rotors
-
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- F24F2203/10—Rotary wheel
- F24F2203/1088—Rotary wheel comprising three flow rotor segments
Abstract
を、冷却除湿能力の高い再生式除湿機(3、4)によ
り、例えば−70℃ないし−75℃の中間到達露点温度
にまで除湿した後、中間到達露点温度にまで除湿された
空気を、非再生式除湿機(12)により、例えば−90
℃以下の最終到達露点温度にまで除湿することが可能で
ある。この場合、前処理装置である再生式除湿機(3、
4)により大部分の湿分は予め除湿されているので、後
処理装置である非再生式除湿機においては少量の除湿剤
を用いれば良く、しかも再生処理は不要となる。その結
果、省設備費で省運転費の除湿機にて超低露点空気を発
生することが可能となる。
Description
り、特に半導体製造プロセスにおいて採用されるような
超低露点のドライエアを発生するための装置構成に関す
る。
うな半導体デバイスの高集積化に伴い、半導体製造プロ
セスを密閉環境にて実行することが要求されている。か
かる密閉環境には、従来より窒素やアルゴンなどのドラ
イガスを使用している。しかし、これらのドライガスは
安全性およびランニングコストの面で問題があり、ドラ
イエアを代替使用する方法が検討されている。
た除湿では、固定床式であろうと回転式であろうと、使
用される吸湿剤の到達乾燥度と超低露点温度操作との関
係に起因する再生系での装置上の制約があるため、残留
水分等の問題が生じ、到達露点温度としては、−70℃
〜−75℃が限界とされていた。
度操作において、除湿運転および再生運転が交互にまた
は連続的に行われた場合、再生系で生じた高湿分空気が
壁面吸着し、その湿分が除湿系へ混入し、最終出口湿分
を上昇させることは機構上回避することができない。そ
の結果、従来の再生式除湿機では−70℃〜−75℃の
露点温度のドライエアを供給できるに過ぎず、半導体製
造プロセスにおいて要求される基準には遥かに及ばない
ものであった。
機の配置構成の有する上記のような問題点に鑑みてなさ
れたものであり、したがって、その目的とするところ
は、安全性およびランニングコストに優れた−90℃以
下の露点温度を有する超低露点温度ドライエアを発生す
ることが可能な新規かつ改良された超低露点空気発生装
置を提供することである。
に本発明によれば、取り入れ空気を中間到達露点温度に
まで除湿するための1段または複数段の再生式除湿機
と、その再生式除湿機の下流側に直列設置され中間到達
露点温度にまで除湿された空気を最終到達露点温度にま
で除湿するための非再生式除湿機とを備えたことを特徴
とする超低露点空気発生装置が提供される。
として−70℃ないし−75℃に設定することが好まし
く、最終到達露点温度として−90℃以下に設定するこ
とが好ましい。さらに、非再生式除湿機に使用される乾
燥剤として、到達乾燥度の低いゼオライトを使用するこ
とが好ましい。
除湿能力の高い再生式除湿機により、例えば−70℃な
いし−75℃の中間到達露点温度にまで除湿することが
可能である。その際、この再生式除湿機を多段構成とす
ることにより、より効率的にかつ短時間で段階的に除湿
をすることができる。その後、例えば−70℃ないし−
75℃の中間到達露点温度にまで除湿された空気を、非
再生式除湿機により、例えば−90℃以下の最終到達露
点温度にまで除湿することが可能である。この場合、前
処理装置である再生式除湿機により大部分の湿分は予め
除湿されているので、後処理装置である非再生式除湿機
においては少量の除湿剤を用いれば良く、しかも再生処
理は不要となる。その結果、省設備費で省運転費の除湿
機にて超低露点空気を発生することが可能となる。
て構成された超低露点空気発生装置の好適な実施例につ
いて詳細に説明する。
ある2段式除湿機1と後処理装置である固定床式除湿機
2とから構成されている。図示の例では前処理装置1を
第1の回転式乾式除湿機3(DA1)および第2の回転
式乾式除湿機4(DA2)から成る2段構成としている
が、本発明はこれに限定されない。必要な到達露点温度
や処理速度に応じて、1段構成あるいは3段以上の多段
構成することも可能である。
れた外気(OA=必要空気量+再生排気風量)は、第1
の外気入口フィルタ6(f1)にて集塵濾過された後、
気密ダンパ7(V1)を介して外気処理空調機8(OA
C)に送られる。外気はこの外気処理空調機8により除
湿され、第1のプレクーラー9(PC1)にて温調さ
れ、第1の回転式乾式除湿機3において、第1の中間到
達露点温度、例えば−54℃にまで除湿される。
湿された空気は、第2の除湿送風機10(MF2)によ
り、次段に送られる。この第2段においても第1段と同
様に、第2のプレクーラー11(PC2)にて温調さ
れ、第2の回転式乾式除湿機4において、第2の中間到
達露点温度、例えば−75℃にまで除湿され、最終除湿
機である固定床式除湿機12(DA3)に送られる。
除湿で吸着された水分は、第1の再生送風機13(RF
1)により第2の外気入口フィルタ13(f2)を介し
て取り入れられ、第1の再生ヒータ15(HC1)によ
り加熱された再生用空気により除去される。この結果、
第1の回転式乾式除湿機3の図示しない除湿手段として
は連続的に再生され、一定の送風露点温度、例えば−5
4℃を維持することが可能である。
湿において吸着された水分は、第2の再生送風機16
(RF2)により再生系に取り入れられ、第2の再生ヒ
ータ17(HC2)により加熱された再生用空気により
除去される。この結果、第2の回転式乾式除湿機4の図
示しない除湿手段についても連続的に再生され、一定の
送風露点温度、例えば−75℃を維持することが可能で
ある。
のような前処理装置1である回転式乾式除湿機では再生
系における高湿の空気が壁面吸着により除湿手段に付着
し、それが除湿系へと混入し、最終出口湿分を上昇させ
ることが構造上回避することができないため、到達露点
温度としては−70℃ないし−75℃が限界とされてい
る。そこで、本発明装置においては、前処理装置1の下
流側に後処理装置2として非再生式の除湿機を直列配置
することにより、ドライエアの到達露点温度の限界を−
90℃にまで下げることを可能にしている。
機を出た送風露点−75℃の空気はアフタークーラー1
8(AC)において温調され、ダンパ19(V3)を介
して最終除湿機である固定床式除湿機12に送られ、そ
こで最終到達露点温度である−90℃以下にまで除湿さ
れ、ダンパ20(V5)およびファイナルフィルタ21
(ff)を介して所望の温調空間に供給される。
を得るためには、固定床式除湿機12において到達乾燥
度の低い吸湿剤、例えばゼオライトなどを使用すること
ができる。ただし、本発明装置において使用される吸湿
剤はゼオライトに限定されず、所望の最終到達露点温度
に応じて各種吸湿剤を使用することが可能である。
2の形状としては、ゼオライトなどの使用吸湿剤がペレ
ット状であるため、空気流速や接触時間を調整すること
により吸湿効率を高める構造を採用することが好まし
い。
1である2段式除湿機において中間到達露点温度とし
て、例えば−75℃程度まで除湿されているので、最終
到達露点温度として、例えば−90℃以下に設定した場
合であっても、後処理装置2である固定床式除湿機12
の吸湿剤にかかる負荷を軽減し、ゼオライトなどの吸湿
剤による除湿水分量を、一般領域の除湿水分量に比較し
て著しく小さく抑えることができる。
れる水分量に相当する使用吸湿剤の量を小さくすること
ができ、しかも、その吸湿剤の破過時間を長くすること
が可能である。本発明装置によれば後処理装置2におけ
る吸湿剤を例えば前処理装置1における吸湿剤と同量と
した場合であっても、後処理装置2における吸湿剤を例
えば1年程度使用することが可能である。また、上記理
由より後処理装置2における吸湿剤は再生処理の必要が
なく、設備費および運転費を大幅に節約することが可能
である。
クリーンドライエアと、本発明装置によるクリーンドラ
イエアとのランニングコストを比較すれば、クリーンド
ライエアが1.5(円/m3)であるのに対して、クリ
ーンドライ窒素ガスが16(円/m3)となり、本発明
装置によるクリーンドライエアはランニングコストに関
して格段に優れていることが分かる。しかもクリーンド
ライエアはクリーンドライガスに比較して、安全性およ
び取り扱いにおいても優れており、半導体製造プロセス
などの各種分野において応用することが可能である。
全体が低露点で操作されるため、いくつかの点に留意す
る必要がある。例えば、運転停止時には外気を遮断して
結露を防止することが好ましい。さらに、立ち上がり時
には後処理装置2である固定床式除湿機12に中間露点
温度の空気を送るタイミングを調整し、後処理装置2の
除湿剤にかかる負荷を軽減する必要がある。
を2段の回転式乾式除湿機およびゼオライトを吸湿剤と
して用いた固定床式除湿機に関連して説明したが、本発
明はかかる構成に限定されない。本発明装置は、特許請
求の範囲に記載された技術的思想の範囲内で、各種除湿
機の配置構成について適用することが可能である。
ば、従来の再生式除湿機では不可能であった例えば−9
0℃以下の超低露点空気を効率的に形成することができ
る。その際、本発明装置によれば、取り入れ空気を前処
理装置である再生式除湿機にて一旦、−70℃ないし−
75℃の中間到達露点温度にまで除湿するので、後処理
装置として少量の除湿剤を備えた非再生式除湿機を用い
て、所望の超低露点温度、例えば−90℃以下にまで除
湿することができる。その結果、従来のドライガスに比
較して安全性およびランニングコストに優れる超露点温
度のドライガスを形成することができる。
装置の系統図である。
Claims (3)
- 【請求項1】取り入れ空気を中間到達露点温度にまで除
湿するための1段または複数段の再生式除湿機と、その
再生式除湿機の下流側に直列設置され中間到達露点温度
にまで除湿された空気を最終到達露点温度にまで除湿す
るための非再生式除湿機とを備えたことを特徴とする超
低露点空気発生装置。 - 【請求項2】前記中間到達露点温度が−70℃ないし−
75℃であり、前記最終到達露点温度が−90℃以下で
あることを特徴とする、請求項1に記載の超低露点空気
発生装置。 - 【請求項3】前記非再生式除湿機が、ゼオライトを乾燥
剤として含有することを特徴とする、請求項1また2に
記載の超低露点空気発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05171036A JP3105382B2 (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 超低露点空気発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05171036A JP3105382B2 (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 超低露点空気発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07754A true JPH07754A (ja) | 1995-01-06 |
JP3105382B2 JP3105382B2 (ja) | 2000-10-30 |
Family
ID=15915906
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP05171036A Expired - Lifetime JP3105382B2 (ja) | 1993-06-16 | 1993-06-16 | 超低露点空気発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3105382B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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EP3945253A4 (en) * | 2019-03-29 | 2022-05-18 | Nihon Spindle Manufacturing Co., Ltd. | DEHUMIDIFICATION DEVICE FOR DEW POINT TEMPERATURE ADJUSTMENT |
-
1993
- 1993-06-16 JP JP05171036A patent/JP3105382B2/ja not_active Expired - Lifetime
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US11874019B2 (en) | 2019-03-29 | 2024-01-16 | Nihon Spindle Manufacturing Co., Ltd. | Dehumidifying device for dew point temperature adjustment |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3105382B2 (ja) | 2000-10-30 |
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