JPS596322A - Fe−Cr−Co系磁性材料の製造方法 - Google Patents

Fe−Cr−Co系磁性材料の製造方法

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JPS596322A
JPS596322A JP57113273A JP11327382A JPS596322A JP S596322 A JPS596322 A JP S596322A JP 57113273 A JP57113273 A JP 57113273A JP 11327382 A JP11327382 A JP 11327382A JP S596322 A JPS596322 A JP S596322A
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JP
Japan
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producing
alloy
annealing
carried out
item
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JP57113273A
Other languages
English (en)
Inventor
Akio Kobayashi
明男 小林
Norio Toyosaki
豊崎 則男
Katsuhei Abe
阿部 克平
Koichi Oda
光一 小田
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Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D8/00Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
    • C21D8/12Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はFe 1Cr 、Goを主成分とづるスピノー
ダル分解型磁性材料を製造する方法、特に工業的規模で
効率よく生産するための製造方法に関づるものひある。
Fe 1Cr 、Goを主成分とするF e−Or−C
系磁性合金およびその製造方法は数多く紹介され(いる
が、その代表例は特公昭49−20451号である。
これにはOr3〜50%、co15〜35%残Feから
なる合金で、製造方法として合金を溶解−鋳造後、溶体
化処理−磁場中時効および最終時効する方法が開示され
ている。さらに特公昭50−37011号には、溶体化
処理後磁場中時効を行い次いで冷間加工を行った後、多
段時効する方法が開示されている。
また特公昭56−21049号には、冷間加工前の処理
法として 850〜1085℃に加熱する方法、特開昭
51−130897号には磁場中時効後、所望の形状に
成形し詩効処理覆る方法、特開昭53−109816号
には溶解、鋳造、塑性加工、切断、軟化処理、成形、溶
体化処理、時効処理する方法、特開昭53−14022
0号には溶j解、鋳造、剪断、切断、溶体化処理、時効
処理する方法等が開示されている。
以上のようにFe SCr 、Goを主成分とする磁性
材料の製造方法に関する特許公報は多数あるが、成分を
限定した条件下で溶解、鋳造時の雰囲気条件に言及し、
さらに熱間、冷間加工時の温度条件および焼鈍条件(温
度、冷却速度、雰囲気)を追求検討し、溶解から製品ま
での最適な製造方法に関づる一連の工程、手順などを具
体的に詳述した事例は見当らない。
本発明は上記実情に鑑み、F e−Cr−G o基磁性
材料を工業上量も効率的に製造づる方法を提供すること
を目的とするものである。
−[記目的を達成づるために本発明の製造方法はF e
−Cr−G o基磁性材料を大気中で溶解、鋳造し、一
定形状のインゴットを得た後に熱間での鍛造、圧延加工
を施し、ざらに焼鈍および冷間加工の組み合せを行い、
最後に磁性を付与づるための熱処理を行うものである。
本発明り法におけるF e−Cr−Co基磁性材料は、
重量比でCr2O〜35%、004〜20%、−riO
,1−1,5%、3 i 0.1〜1.5%、A(10
,005〜0.15%でさらに総量が10%以下のCe
、3111.Zr。
V、MO,W、Mr+、Ni 、およびCuの副成分元
素を含み、残部がFeからなることが望ましい。
Cr2O〜35%の限定理由は、20%以下では非磁性
相の析出が著しく溶体化処理が困難であり、35%以上
では磁気特性(Br )および加工性が低下づるためで
ある。Go4〜20%は、4%以下ではスピノーダル分
解が著しく起り難り、20%以上では溶体化処理が困難
なためである。T’i0,1〜1.5%は大気中で溶解
、鋳造および加熱処理を実施するための必須条件で、T
i無添加では大気中溶解は磁気特性的に不可能となる。
1.5%以上では溶湯の流動性および得られる磁気特性
が低下づることの他に鋳造時の鋳物欠陥が増大するため
である。前記T1と共存するSlおよびAαは溶湯の脱
酸、溶体化処理条件の容易化を目的とづると同時に、T
1元素の効果を最大限に発揮せしめる目的もある。従っ
て、Ti、3iおよびA(lは3元素が前記含有量の範
囲で共存した時、その効果を大ならしめるものである。
なお、上記成分に副成分として総量が10%以下のce
、smXzrSv。
MOlW、Mn、NiおよびCLIを含有しても本発明
の目的とする効果は失われない。
上記合金を第一工程において、溶解、鋳造し所定のイン
ゴットを作成するに際し、大気中雰囲気あるいは不活性
気体の雰囲気のいづれにおいても、上記成分組成の範囲
でおれば問題は無い。大気中雰囲気であれば生産効率が
高いことは言うまでもない。
第二工程はインゴットを鍛造し、さらに圧延する熱間加
工であり、熱間鍛造の加工温度領域は、1300〜75
0℃好ましくは1300〜900℃が良い。熱間圧延′
の加工温度領域は熱間鍛造のそれより低温度ぐ良く、1
100〜900℃が良い。750℃以下では加工性を低
下せしめるσ相が生成しやすく加工温度としては不適当
である。
第三工程は焼鈍および冷間加工であり、焼鈍条件として
は、750〜1000℃に加熱保持し、自然冷N1 (
約1℃/5ee)以上の冷却速度で冷却することが望ま
しい。750℃以下では、前述のσ相が生成しやすいこ
と、1000℃以上では結晶粒の粗大化が生じやすく、
σ相の生成および粒成長はどもに加工性を低下せしめる
ためである。自然冷却以上の速度で冷却づる理由は、α
相からの2相分離変態およびその時効が進み、合金の加
工性が低下するためである。また冷間加工する加工温度
領域は、450℃から常温の領域が良い。450℃以上
では、前述の時効現象が進み加工性が低下するためであ
る。時効の進行に伴い、引張り強度、硬さは増大するも
のの伸びは低下し、延性破壊から脆性破壊に進むことが
、機械的強度試験によって確認されている。なお、第三
工程の冷間加工は、圧延、押出し、引き抜き、転造など
のいづれでも良い。
第四工程の機械的加工手段は、プレス打ら抜き切断、成
形、転造、研削、剪断、切削、穿孔、ネジ加工などのい
づれでも良い。
第五工程の磁性を付与するだめの熱処理は、必要ならば
α単相化貫るための溶体化処理と、磁界中で時効する磁
場中時効処理および最終的に特性〈保磁力)を向上せし
める必須工程の時効処理を行えば良い。この熱処理およ
び前記焼鈍処理の加熱処理は、還元性ガスあるいは、不
活性ガス中で行っても良く、何ら磁気特性を損ねること
はない。
酸化皮膜の生成を防止することにより、熱処理後の製品
仕上加工の一部あるいは全部を省略することも可能であ
る。
以下、本発明の実施例につい(説明づる。
実施例1 重量比でCr28%、CO8%、3i  0.6%、「
io、3%、Ni  1%、CIJ  O,5%、/n
o、07%残1−eなる合金を人気中で溶解、鋳造しI
OK Uのφ90インゴッ1−を作成した。このインボ
ッ1へを1200℃に加熱し、1200〜900℃間で
熱間鍛造し、φ20(mm)に仕上げた。熱間圧延は、
1050〜900℃間で行い、φ20をφ10に仕上げ
た。次に焼鈍を900℃ IHr加熱後水冷し、冷間線
引きを200℃から常温で行い、φ10をφ5に仕上げ
た。この線材から試料(φ5x io)を切断採取し、
F記熱処理を行い磁気測定に供した。へ条件として、7
00°C〜45℃間を3℃/1」rで、連続冷却により
を時効したものは、磁気特性Br =81000.  
sHc =35008を示し、B条件として620℃2
Hrの磁場中時効(30000e ) L/、さらに6
00℃から450℃間を3℃/)lrで時効処理したも
のは、3r=12300G、  eHc = 5600
e、(BH)IIlax=5.3MGOeを示した。
実施例2 重量比でOr  27%、C010%、3i  0.4
%、TiO,5%、V O,7%、Ce  O,5%、
Mn  098%、AQ 0.05%残Feなる合金を
大気中で溶解後、アルゴン雰囲気下で鋳造し、インゴッ
ト(φ90)を作成した。このインゴットを1200℃
に加熱保持後、1200〜900℃間で熱間鍛造し、2
0tに仕上げた。熱間圧延は1050〜900℃で行い
、20tを101に仕上げた。次に焼鈍をH2気流中で
900°CIHr加熱後水冷し、冷間圧延(常温)を行
い、10[〜5tに仕上げた。この板材から試料(IO
X IOX5【)を切断および切削採取し、1−12気
流中で、900℃ +Hrの軟化処理および溶体化処理
後、630℃で1l−1rの磁場中時効し、さらに60
0℃〜450℃間を4℃/Hrで時効処理したものは、
3r=12500G、  eHc = 6300e 、
  (BH) tnax = 5.6M G OBを示
した。
実施例3 重量比でCr25%、0012%、St  0.5%、
Ti0.6%、MO0,8%、5IIlO34%、A(
IL  o、。
4%残F eなる合金を、Ar中溶解し鋳造は人気中で
行いインボッ1−(φ90)を作成した。このインボッ
1〜を1230℃に加熱保持後1200℃〜950℃間
で、熱間鍛造し20tに仕上げた。熱間圧延は、110
0℃〜950℃間で行い、20(〜10【に仕上げた。
次に焼鈍を850℃1l−1r加熱後水冷し、冷間圧延
(100℃〜常温)を行い、10tから5tに仕上げた
。この板材から試料(10x 10x 5t)を切断お
よび切削採取し、1200℃IHrの溶体化処理後、6
40℃で1l−1rの磁気中時効と、600℃〜450
°C間を4℃/Hrの荷揚処理を行った。得られた特性
は、Br = 13000G1eHc = 6700e
、(B H)max =  6.6MGOeであった。
実施例4 重量比で、Cr25%、C015%、3i0,5%、1
−io、3%、WO17%、7r0.4%、AQ、0.
06%残りFeなる合金を大気中で溶解、鋳造しインボ
ッ1〜(φ90)を作成した。このインゴットを125
0′Gに加熱保持後、約1000℃までの温度領域で鍛
造後φ20に仕上げた。圧延は、1150℃・〜100
0℃間で行いφ20をφ10に仕上げた。次に焼鈍を8
00 ’CIHrの加熱処理後、水冷し、常温で冷間線
引きを行いφ10をφ 5に仕上げた。この線材から試
料くφ5X 10)を切断採取し、1200℃1日rの
溶体化処理後、650℃で30分の磁場中時効と、60
0 ’C〜450℃間を4℃/l−1rの時効処理を行
った。得られた特性は、Br =  13500G、 
 eHc = 6900e 、  (B H) max
 =  7.0MGOeであった。
以上説明したように本発明のFe−0r−co系磁性材
判の製造方法は、工業的に効率よく、しかも祠質特有の
塑性加工性を最大限に発揮させ得ることができ、産業上
の効果大なるものがある。
手続補正書(方式) %式% 事件の表示 昭和57年特許願第 113273  壮発明の名称 Fe−Qr−QO系磁性材料の製造方法補1にをする台 名 h  +5o+n  [4立金属株式会社代II河
野 典夫 代   理   人 二 居  所   東京都千代■1区丸の白昼下目1番2号
補正の対象 明細書 11

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 重量比で0r20〜35%、004〜20%、Ti
    O,i 〜1.5%、3 i 0,1〜1.5%、AQ
    、o、oo5〜0.15%F、さらに総量が10%iX
    下(7)Ce 、 Sm、Zr 、V、MO、W、Mn
     、Ni 、eJ:cFcu (1)副成分を含み、残
    部がFeからなる合金を大気中で溶解、鋳造し、一定形
    状のインゴットを作る第一工程と、前記インゴットに熱
    間鍛造および熱間圧延を行う第二工程と、さらに焼鈍お
    よび冷間加工の繰り返し処理を行い一次素材を得る第三
    工程と、前記−沃素材から製品形状に近い二次素材を機
    械的加工手段によって得る第四工程と、前記二次素材に
    磁性を付与するための熱処理を行う第五工程とからなる
    ことを特徴とするF e−Cr−G o系磁性拐料の製
    造方法。 2 第一工程の溶解を不活性気体の雰囲気下で行う第1
    項記載のF e−Cr−G o光磁性材料の製造方法。 3 第一工程の鋳造を不活性気体の雰囲気下で行う第1
    項記載のF e−Cr−G O光磁性材料の製造方法。 4 第二工程におりる鍛造J3よび圧延を1300〜7
    50℃で行う第1項記載のFe−0r−co系磁性材料
    の製造方法。 5 第三工程にお()る冷間加工を450℃から室温0
    行う第1項記載のF e−Cr−G o光磁性材料の製
    造方法。 6 冷間前1前後の焼鈍処理として750〜1000℃
    に加熱保持し自然冷却以上の冷却速度で冷却覆る第1項
    記載のF e−Or−co系磁性祠料の製造方法。 7 焼鈍処理および熱処理を還元性ガスあるいは不活性
    ガス中で行う第1項記載のFe−Cr−Q o光磁性材
    料の製造方法。
JP57113273A 1982-06-30 1982-06-30 Fe−Cr−Co系磁性材料の製造方法 Pending JPS596322A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US10534183B2 (en) 2013-02-22 2020-01-14 Sony Corporation Head-mounted display

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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