JPS5961759A - 発光分光分析装置 - Google Patents
発光分光分析装置Info
- Publication number
- JPS5961759A JPS5961759A JP17302282A JP17302282A JPS5961759A JP S5961759 A JPS5961759 A JP S5961759A JP 17302282 A JP17302282 A JP 17302282A JP 17302282 A JP17302282 A JP 17302282A JP S5961759 A JPS5961759 A JP S5961759A
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- JP
- Japan
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- data
- sample
- specimen
- analysis
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- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/66—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light electrically excited, e.g. electroluminescence
- G01N21/67—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light electrically excited, e.g. electroluminescence using electric arcs or discharges
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は目視によらずに試料分析点の傷あるいけピンホ
ールなどの分析上不都合な欠陥部位を口１避することが
できる発光分光分析装置に関するものである。
ールなどの分析上不都合な欠陥部位を口１避することが
できる発光分光分析装置に関するものである。
従来火花放電を用いた固体試料の発光分光分析において
は、試料面の分析位置を目視によって検査し発光分析上
不具合なきすとか割れのような欠陥のない点を選択して
分析を行っていたので、金属工業等における生産工程で
の分析操作の完全自動化が困難であるという問題があっ
た。本発明は上記の問題を解消するもので、分析点の位
置を連続的または断続的に移動して分光分析を行い、得
られた複敬個の分析値から予め設定された変動範囲内の
データを選別することによシ欠陥部分において得られた
分析データの除去を行うことにより多数の試料の分析を
自動化することを目的とするものである。
は、試料面の分析位置を目視によって検査し発光分析上
不具合なきすとか割れのような欠陥のない点を選択して
分析を行っていたので、金属工業等における生産工程で
の分析操作の完全自動化が困難であるという問題があっ
た。本発明は上記の問題を解消するもので、分析点の位
置を連続的または断続的に移動して分光分析を行い、得
られた複敬個の分析値から予め設定された変動範囲内の
データを選別することによシ欠陥部分において得られた
分析データの除去を行うことにより多数の試料の分析を
自動化することを目的とするものである。
以下実施例に基づいて本発明を詳述する。第１図は本発
明装置の一実施例をブロック図で示したもので、試料移
動装置１は試料２を試料面を一定に保ったまま平行に移
動或は回転させるものであり、３は試お１面に対向して
設置されたスパーク電極である。４はスパーク電極３と
試料２との間に高電圧の繰返しパルスを発生させるだめ
の発光制御装置である。スパーク放電によシ発生した光
は分光器５で分散され、各分析元素の代表輝線波長位置
に設けられた複数個の光電子倍増管６によって検出され
る。′７は積分器、８はアナログマルチプレクサ、９は
Ａ ／ Ｄ変換器、１０はＣＰＵ、１１は記憶素子であ
る。
明装置の一実施例をブロック図で示したもので、試料移
動装置１は試料２を試料面を一定に保ったまま平行に移
動或は回転させるものであり、３は試お１面に対向して
設置されたスパーク電極である。４はスパーク電極３と
試料２との間に高電圧の繰返しパルスを発生させるだめ
の発光制御装置である。スパーク放電によシ発生した光
は分光器５で分散され、各分析元素の代表輝線波長位置
に設けられた複数個の光電子倍増管６によって検出され
る。′７は積分器、８はアナログマルチプレクサ、９は
Ａ ／ Ｄ変換器、１０はＣＰＵ、１１は記憶素子であ
る。
まず試料２が試料移動装置１によって断続的に移動する
場合について説明すると、試料２は断続的に移動しなが
ら仮数箇所（ｎ−５〜２０）の分析位置で停止し、各分
析位置で発光制御装置４により複数回（２００回程度）
の高電圧パルスがスパーク電極３と試ｆ；１．２との間
に印加される。複数回のスパーク放電によって各光電子
倍増管６から出力される光電流はそれぞれ積分器′Ｉで
積分さＩｔ、アナログマルチプレクサ８を介して順次Ａ
／ Ｄ変換器９によりディジタル値に変換されたのち
記憶素子１１に格納される。次に試料移動装置によって
分析位置を移動したのち上記と同様な動作が繰返される
。別表はこのようにして得られたｎ個の分析位置におけ
る分析データを示したもので、鉄をモニタ元素とし、炭
素、燐およびアルミニウムを分析元素としたデータ例で
ある。各元素の輝線強度を示すｎ個のデータの平均値が
ＣＰＵ（１０）によって計算され、各元素毎に予め設定
され記憶素子１１に保持されていた係数係を上記平均値
に掛けて各元素の輝線強度の上限値および下限値を求め
て、この上下限範囲外のデータは欠陥部分のデータとし
てこれを除外する。この場合、成る元素において範囲外
のデータが検出されたら、その回における各元素のデー
タを除去する。別表の実施例では第１番目、第４番目、
第７番目および第９番目のデータが除外される。こうし
て選別された各分析元素とモニタ元素との強度比を各回
毎に求め、その平均値を測定値とするのである。
場合について説明すると、試料２は断続的に移動しなが
ら仮数箇所（ｎ−５〜２０）の分析位置で停止し、各分
析位置で発光制御装置４により複数回（２００回程度）
の高電圧パルスがスパーク電極３と試ｆ；１．２との間
に印加される。複数回のスパーク放電によって各光電子
倍増管６から出力される光電流はそれぞれ積分器′Ｉで
積分さＩｔ、アナログマルチプレクサ８を介して順次Ａ
／ Ｄ変換器９によりディジタル値に変換されたのち
記憶素子１１に格納される。次に試料移動装置によって
分析位置を移動したのち上記と同様な動作が繰返される
。別表はこのようにして得られたｎ個の分析位置におけ
る分析データを示したもので、鉄をモニタ元素とし、炭
素、燐およびアルミニウムを分析元素としたデータ例で
ある。各元素の輝線強度を示すｎ個のデータの平均値が
ＣＰＵ（１０）によって計算され、各元素毎に予め設定
され記憶素子１１に保持されていた係数係を上記平均値
に掛けて各元素の輝線強度の上限値および下限値を求め
て、この上下限範囲外のデータは欠陥部分のデータとし
てこれを除外する。この場合、成る元素において範囲外
のデータが検出されたら、その回における各元素のデー
タを除去する。別表の実施例では第１番目、第４番目、
第７番目および第９番目のデータが除外される。こうし
て選別された各分析元素とモニタ元素との強度比を各回
毎に求め、その平均値を測定値とするのである。
次に試料２が連続的に移動する場合について説明すると
、この場合には発光制御装置４によってスパーク電極３
に連続的に高電圧パルスが印加され、一定のスパーク放
電回１３．（例えば２００回）４ｕに積分器７の出力が
Ａ ／ Ｄ変換器９に読み込まれると共に積分器７に充
電された電荷が放電されリセットされる。その後のデー
タの処理は断続的な移動の場合と全く同様に行われる。
、この場合には発光制御装置４によってスパーク電極３
に連続的に高電圧パルスが印加され、一定のスパーク放
電回１３．（例えば２００回）４ｕに積分器７の出力が
Ａ ／ Ｄ変換器９に読み込まれると共に積分器７に充
電された電荷が放電されリセットされる。その後のデー
タの処理は断続的な移動の場合と全く同様に行われる。
本発明は上述のように構成されたもので、従来のように
試料面の欠陥を目視で検査して分析位置を選択する代シ
に、試料を移動させて欠陥箇所も含めて複数個の分析位
置でデータの採集を行い、予め設定されている変動範囲
を超えたデータを除外することによって、結果的に試料
分析面の欠陥を避けた分析データを採取するものである
から、従来自動化が困難とされていた試料面の欠陥の検
出が可能となる上に、複数回の分析データの平均値を用
いるので分析精度も向上するという利点がある。
試料面の欠陥を目視で検査して分析位置を選択する代シ
に、試料を移動させて欠陥箇所も含めて複数個の分析位
置でデータの採集を行い、予め設定されている変動範囲
を超えたデータを除外することによって、結果的に試料
分析面の欠陥を避けた分析データを採取するものである
から、従来自動化が困難とされていた試料面の欠陥の検
出が可能となる上に、複数回の分析データの平均値を用
いるので分析精度も向上するという利点がある。
図は本発明の一実施例装置の概略ブロック図である。
１・・・試別移動装置、２・・・試別、３・・・スパー
ク電極、５・・・分光器、６・・・光電子倍増管、マ・
・・積分器、８・・・アナログマルチプレクサ、９・・
・Ａ ／ Ｄ変換器、１０・・・ＣＰＵ、１１・・・記
憶素子。 代理人 弁理士 蒜 浩 介
ク電極、５・・・分光器、６・・・光電子倍増管、マ・
・・積分器、８・・・アナログマルチプレクサ、９・・
・Ａ ／ Ｄ変換器、１０・・・ＣＰＵ、１１・・・記
憶素子。 代理人 弁理士 蒜 浩 介
Claims (3)
- （１）試料を移動させスパーク電極と対向する試料面の
分析位置を順次移動せしめる手段と、−諭料劣″ °
高電圧パルスを上記スパーク電極に印加せしめる
手段と、上記分析位置で毎スパーク毎に発生した光を分
光し所定波長毎に得られる光電流を所定スパーク回数ず
つ積分して所定スパーク回数毎に分析データを得る手段
と、上記各分析データが予め定められた変動範囲内に入
るかどうかを選別し範囲外のものを除外して平均化する
演説一手段とを具えたことを特徴とする発光分光分析装
置。 - （２）試料を連続的に平行移動させスパーク電極と対向
する試料面の分析位置を連続的に移動せしめるようにし
た特許請求の範囲第１項記載の発光分光分析装置。 - （３）試料を断続的に移動させ、試料が停止している間
に所定回数のスノシークを行わせるようにした特許請求
の範囲第１項記載の発光分光分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17302282A JPS5961759A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 発光分光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17302282A JPS5961759A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 発光分光分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5961759A true JPS5961759A (ja) | 1984-04-09 |
| JPS642890B2 JPS642890B2 (ja) | 1989-01-19 |
Family
ID=15952751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17302282A Granted JPS5961759A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 発光分光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5961759A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0504933A2 (en) * | 1991-03-22 | 1992-09-23 | Shimadzu Corporation | Spectroscopic analyzing method and system |
| JPH04309848A (ja) * | 1991-04-08 | 1992-11-02 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 発光分光分析方法及び発光分光分析装置 |
| US7187444B2 (en) | 2001-11-12 | 2007-03-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Measuring method and apparatus using attenuation in total internal reflection |
| KR101027260B1 (ko) * | 2008-12-23 | 2011-04-06 | 주식회사 포스코 | 불연속 스파크형 슬라브 단면 개재물의 맵 획득시스템 및 획득방법 |
| KR101027278B1 (ko) * | 2008-12-23 | 2011-04-06 | 주식회사 포스코 | 연속 스파크형 슬라브 단면 개재물의 맵 획득시스템 및 획득방법 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5053093A (ja) * | 1973-09-07 | 1975-05-10 |
-
1982
- 1982-09-30 JP JP17302282A patent/JPS5961759A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5053093A (ja) * | 1973-09-07 | 1975-05-10 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0504933A2 (en) * | 1991-03-22 | 1992-09-23 | Shimadzu Corporation | Spectroscopic analyzing method and system |
| JPH04309848A (ja) * | 1991-04-08 | 1992-11-02 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 発光分光分析方法及び発光分光分析装置 |
| US7187444B2 (en) | 2001-11-12 | 2007-03-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Measuring method and apparatus using attenuation in total internal reflection |
| KR101027260B1 (ko) * | 2008-12-23 | 2011-04-06 | 주식회사 포스코 | 불연속 스파크형 슬라브 단면 개재물의 맵 획득시스템 및 획득방법 |
| KR101027278B1 (ko) * | 2008-12-23 | 2011-04-06 | 주식회사 포스코 | 연속 스파크형 슬라브 단면 개재물의 맵 획득시스템 및 획득방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS642890B2 (ja) | 1989-01-19 |
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