JPS5960343A - 光学式欠陥検査装置 - Google Patents
光学式欠陥検査装置Info
- Publication number
- JPS5960343A JPS5960343A JP17200782A JP17200782A JPS5960343A JP S5960343 A JPS5960343 A JP S5960343A JP 17200782 A JP17200782 A JP 17200782A JP 17200782 A JP17200782 A JP 17200782A JP S5960343 A JPS5960343 A JP S5960343A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beams
- 10mum
- reflected light
- defective
- defect
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
- G01N21/8901—Optical details; Scanning details
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は平面上の微小欠陥を光学的に検査する装置に係
り、特に一度のトレースで欠陥サイズの測定を行うこと
のできる光学式欠陥検査装置に関するものである。
り、特に一度のトレースで欠陥サイズの測定を行うこと
のできる光学式欠陥検査装置に関するものである。
従来技術と問題点
従来光ディスクの記録媒体面等の平面上の欠陥を光学的
に検査する場合は、１本のレーザビームによる１つのス
ポットのみで検査を行っていたので、欠陥サイズの測定
を１度のトレースで行うことは困難であった。
に検査する場合は、１本のレーザビームによる１つのス
ポットのみで検査を行っていたので、欠陥サイズの測定
を１度のトレースで行うことは困難であった。
発明の目的
本発明は上述の欠点を解決するだめのもので、１度のト
レースで欠陥サイズの測定を行うことのできる光学式欠
陥検査装置を提供することを目的としている。
レースで欠陥サイズの測定を行うことのできる光学式欠
陥検査装置を提供することを目的としている。
発明の構成
本発明では、上述の目的を達成するため、スポットサイ
ズの異なる複数のレーザビームを、該レーザビームに対
し相対的に移動する平面上の同一点または同一直線上に
照射するとともにそれぞれの反射光を各レーザビームの
照射光路から外れた位置に導く光学系と、該６反射光の
光量変化を検出して欠陥サイズを決定する信号処理系と
よυ構成している。
ズの異なる複数のレーザビームを、該レーザビームに対
し相対的に移動する平面上の同一点または同一直線上に
照射するとともにそれぞれの反射光を各レーザビームの
照射光路から外れた位置に導く光学系と、該６反射光の
光量変化を検出して欠陥サイズを決定する信号処理系と
よυ構成している。
発明の実施例
以下、図面に関連して本発明の詳細な説明する。
スポットサイズの異なる複数のレーザビームを平面上の
同一点または同一直線上に照射してそれぞれの反射光を
検出する場合、欠陥部の全面または一部を照射するレー
ザビームの反射光景は極端に低下する。本発明はこの現
像を利用してただちに欠陥サイズを決定するものである
。
同一点または同一直線上に照射してそれぞれの反射光を
検出する場合、欠陥部の全面または一部を照射するレー
ザビームの反射光景は極端に低下する。本発明はこの現
像を利用してただちに欠陥サイズを決定するものである
。
本発明に係る光学式欠陥検査装置は、スポットサイズの
異なる複数のレーザビームを、該レーザビームに対し相
対的に移動する平面」二の同一点または同一直線上に照
射するとともに、それぞれの反射光を各レーザビームの
照射光路から外れた位置に導く光学系と、該６反射光の
光！ｉ変化を検出して欠陥サイズを決定する信号処理系
とよシ構成されている。次に各基の詳細を説明する。
異なる複数のレーザビームを、該レーザビームに対し相
対的に移動する平面」二の同一点または同一直線上に照
射するとともに、それぞれの反射光を各レーザビームの
照射光路から外れた位置に導く光学系と、該６反射光の
光！ｉ変化を検出して欠陥サイズを決定する信号処理系
とよシ構成されている。次に各基の詳細を説明する。
第１図に光学式欠陥検査装置の光学系を示す。
光学系１０は、スポットサイズの異なる６本のレーザビ
ーム１，２．３を出射する光源（図示せず）と、該各レ
ーザビーム１．２．３をスポット径５μ漢、１０μ情、
１５μｍのサイズで平面４の同一直線上に結像させる対
物レンズ５と、各レーザビーム１．２．３の平面４での
反射光をレーザビームの照射光路から外れだ位置に導く
ハーフミラ６とを備えている。
ーム１，２．３を出射する光源（図示せず）と、該各レ
ーザビーム１．２．３をスポット径５μ漢、１０μ情、
１５μｍのサイズで平面４の同一直線上に結像させる対
物レンズ５と、各レーザビーム１．２．３の平面４での
反射光をレーザビームの照射光路から外れだ位置に導く
ハーフミラ６とを備えている。
この光学系を矢印Ａ方向（スポット並列方向）にトレー
スするかまたは平面４を反対の矢印Ｂ方向に移動させる
と、スポット並列線上に例えば幅１０７＋ｍの欠陥７が
ある場合、各スポットがこの欠陥７上を通る場合の反射
光量が、レーザビーム１゜２では極端に低下しレーザビ
ーム６では僅かに低下する。
スするかまたは平面４を反対の矢印Ｂ方向に移動させる
と、スポット並列線上に例えば幅１０７＋ｍの欠陥７が
ある場合、各スポットがこの欠陥７上を通る場合の反射
光量が、レーザビーム１゜２では極端に低下しレーザビ
ーム６では僅かに低下する。
これらのレーザビーム１，２．３の反射光は、第２図に
示す信号処理系３０の検知器１１．１２．１３にそれぞ
れ入射する。検知器１１．１２．１３に入った反射光信
号は、ディレィ回路１４．１５により位相を整えられ、
コンパレータ１６．１７．１８により設定閾値ＶＴ＋（
α５％）で比較される。これにより上述のように欠陥７
の幅が１０ノ＋ｍの場合は１０μｍの信号がＯＮに他の
５μｍ、１５μ毒の信号がＯＦＦになって、１０μｍ幅
の欠陥であることが決定される。１９．２Ｊよインバー
タ、２１，２２．２３はアンド回路である。また、検知
器１１からの信号をコンパレータ２４によシ設定閾値Ｔ
’Ｔ２（５０％）で比較し１、その時間を測定器２５で
測定することにより欠陥長を決定することができる。
示す信号処理系３０の検知器１１．１２．１３にそれぞ
れ入射する。検知器１１．１２．１３に入った反射光信
号は、ディレィ回路１４．１５により位相を整えられ、
コンパレータ１６．１７．１８により設定閾値ＶＴ＋（
α５％）で比較される。これにより上述のように欠陥７
の幅が１０ノ＋ｍの場合は１０μｍの信号がＯＮに他の
５μｍ、１５μ毒の信号がＯＦＦになって、１０μｍ幅
の欠陥であることが決定される。１９．２Ｊよインバー
タ、２１，２２．２３はアンド回路である。また、検知
器１１からの信号をコンパレータ２４によシ設定閾値Ｔ
’Ｔ２（５０％）で比較し１、その時間を測定器２５で
測定することにより欠陥長を決定することができる。
上述の説明では６本のレーザビームを平面４の同一直線
上に並列して結像するように設ける例について述べたが
、各レーザビームの波長を異ならせ、該各レーザビーム
を平面４上の同一点に重なシ合って結像するように配置
して測定を行うことも可能である。この場合、反射光は
フィルタにより６つの光に分離することができ、また信
号処理系の２τ、τのディレィ回路を省略することが可
能である。なお、光学系と被検査物との間の相対移動は
周知の任意の手段によシ実現可能である。
上に並列して結像するように設ける例について述べたが
、各レーザビームの波長を異ならせ、該各レーザビーム
を平面４上の同一点に重なシ合って結像するように配置
して測定を行うことも可能である。この場合、反射光は
フィルタにより６つの光に分離することができ、また信
号処理系の２τ、τのディレィ回路を省略することが可
能である。なお、光学系と被検査物との間の相対移動は
周知の任意の手段によシ実現可能である。
発明の効果
以上述べたように、本発明によれば、１回のトレースで
欠陥サイズをただちに決定することができ、欠陥検査時
間の短縮が可能になる。
欠陥サイズをただちに決定することができ、欠陥検査時
間の短縮が可能になる。
図面は本発明に係る光学式欠陥検査装置の実施例を示す
もので、第１図は光学系の概要図、第２図は信号処理系
の回路図でろる。 図中、１，２．３はレーザビーム、４は欠陥を有する検
査平面、５は対物レンズ、６は）・−フミン、７は欠陥
、１０は光学系、１１．１２．１３は検知器、１４、１
５はディレィ回路、１６．１７□１Ｂ、２１Ｊニコンパ
レータ、１ν、 ２０１よインバータ、 ２１，２２
．２３はアンド回路、６（１す、信−′Ｉ」処理系であ
る。 特許出願人富士通株式会社 代Ｉ’ｌ１人弁理士玉蟲久五部 （外６名）
もので、第１図は光学系の概要図、第２図は信号処理系
の回路図でろる。 図中、１，２．３はレーザビーム、４は欠陥を有する検
査平面、５は対物レンズ、６は）・−フミン、７は欠陥
、１０は光学系、１１．１２．１３は検知器、１４、１
５はディレィ回路、１６．１７□１Ｂ、２１Ｊニコンパ
レータ、１ν、 ２０１よインバータ、 ２１，２２
．２３はアンド回路、６（１す、信−′Ｉ」処理系であ
る。 特許出願人富士通株式会社 代Ｉ’ｌ１人弁理士玉蟲久五部 （外６名）
Claims (1)
- スポットサイズの異なる複数のレーザビームを被検査物
の検査平面上の同一点または同一直線上に照射するとと
もにそれぞれの検査平面での反射光を前記各レーザビー
ムの照射光路から外れた位置に導く光学系と、該６反射
光の光ｌ：変化を検出して欠陥サイズを決定する信号処
理系と、１回のトレースで前記各レーザビームによる同
一欠陥に対する照射が行われるように前記光学系と前記
被検査物との間に相対移動を行わせる駆動機溝とよυな
ることを特徴とする光学式欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17200782A JPS5960343A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 光学式欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17200782A JPS5960343A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 光学式欠陥検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5960343A true JPS5960343A (ja) | 1984-04-06 |
Family
ID=15933786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17200782A Pending JPS5960343A (ja) | 1982-09-30 | 1982-09-30 | 光学式欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5960343A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110823902A (zh) * | 2018-08-14 | 2020-02-21 | 由田新技股份有限公司 | 光源模块及光学检测系统 |
-
1982
- 1982-09-30 JP JP17200782A patent/JPS5960343A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110823902A (zh) * | 2018-08-14 | 2020-02-21 | 由田新技股份有限公司 | 光源模块及光学检测系统 |
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