JPS5953494A - 光硬化性ケイ素化合物組成物 - Google Patents
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- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
- C08G77/382—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
- C08L83/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、新規な光硬化性ケイ素、化合#h/JIII
b’v、 ’l’21に関し、更に詳しくは、光、特
にUV光によってシラノール化合物を遊離し、該化合物
がシラノール縮合触媒の存在1で重合する光硬化性シリ
コーン組成物に関する。
b’v、 ’l’21に関し、更に詳しくは、光、特
にUV光によってシラノール化合物を遊離し、該化合物
がシラノール縮合触媒の存在1で重合する光硬化性シリ
コーン組成物に関する。
従来、光硬化性ケイ素化合物組成物として幻、ビニル基
、メタクリル酸エステル又はアクリル酸エステル等の基
がケイ素川t−7に1自1七糸1−合して成るオルガノ
ポリシロキサンを一成分とする組成物がよく知られてい
る(例えば、特IJ11昭55−121161 り号、
特開昭55−125123号、lF’i開11i’t
55−137129号、米国特許第3,726.71
(l弓、米国特FF第3,873,499号、米国性i
′1. II、4.064,027号の明#Jl+ ’
14: )。
、メタクリル酸エステル又はアクリル酸エステル等の基
がケイ素川t−7に1自1七糸1−合して成るオルガノ
ポリシロキサンを一成分とする組成物がよく知られてい
る(例えば、特IJ11昭55−121161 り号、
特開昭55−125123号、lF’i開11i’t
55−137129号、米国特許第3,726.71
(l弓、米国特FF第3,873,499号、米国性i
′1. II、4.064,027号の明#Jl+ ’
14: )。
しかし、用いられるオルガノポリシロキサンは、光硬化
反応性に乏しいため、 IHに、ベンゾフエノン、アセ
トフェノン、ベンゾインエーテル等の光増感剤と併用さ
れていた。その結果、これらを成分とする組成物は、比
較的長波長の光によっても硬化反応を起こすという利点
を有する。しかしながら、この利点は全て、光増感剤に
起因するものであって、オルガノポリシロキサン自体が
寄与するものではない。また、得られる硬化物は、耐熱
性等に劣るという欠点があった。
反応性に乏しいため、 IHに、ベンゾフエノン、アセ
トフェノン、ベンゾインエーテル等の光増感剤と併用さ
れていた。その結果、これらを成分とする組成物は、比
較的長波長の光によっても硬化反応を起こすという利点
を有する。しかしながら、この利点は全て、光増感剤に
起因するものであって、オルガノポリシロキサン自体が
寄与するものではない。また、得られる硬化物は、耐熱
性等に劣るという欠点があった。
本発明は、光増感剤を用いることなく、比較的的時間で
硬化する光硬化性ケイ素化合物組成物を提供することを
目的とするものである。
硬化する光硬化性ケイ素化合物組成物を提供することを
目的とするものである。
本発明の光硬化性ケイ素化合物組成物は、次式:(式中
、R’、Iζ2.R3及びR’ Fi同一でも異々つで
いてもよく、各々、水素原子、)・ログン原子。
、R’、Iζ2.R3及びR’ Fi同一でも異々つで
いてもよく、各々、水素原子、)・ログン原子。
ニトロ基、シアノ基、炭素数1〜5の置換もしくは非置
換アルキル基、炭素数1〜5のアシルオキシ基、置換も
しくは非置換アリール基、アリールオキシ基、炭素数1
〜5のアシルオキシ基、ヒドロキシル基、メルカプト基
、アセチル基、アリル基を表わす。) テ示すれる0−ニトロベンジルオキシ基が、ケイ素原子
に内接結合しているケイ累化合物又は前症ケイ素化合物
とシラノール縮合触媒とから成ることを特徴とする。
換アルキル基、炭素数1〜5のアシルオキシ基、置換も
しくは非置換アリール基、アリールオキシ基、炭素数1
〜5のアシルオキシ基、ヒドロキシル基、メルカプト基
、アセチル基、アリル基を表わす。) テ示すれる0−ニトロベンジルオキシ基が、ケイ素原子
に内接結合しているケイ累化合物又は前症ケイ素化合物
とシラノール縮合触媒とから成ることを特徴とする。
上記式中、R’、 R2,R3及びR4で表わされる炭
素数1〜5の置換アルキル基及びfff pf+アリー
ル、j、l−の置換基としては、例えば、カルボニル基
、1・、チオカルがキシルス(゛、ジチオカルyIjキ
シル基、炭素数1〜5のアルコキシカル、l?ニル)−
1、シアノノー、ホルミル基、カルボニル基、ヒドロキ
シル基、(1、メルカ7’)基、炭素数1〜5のアルコ
キシ力、ノ・ログン原子、ニトロ基、アリル基、トリフ
ルオロメチル基があげられる。
素数1〜5の置換アルキル基及びfff pf+アリー
ル、j、l−の置換基としては、例えば、カルボニル基
、1・、チオカルがキシルス(゛、ジチオカルyIjキ
シル基、炭素数1〜5のアルコキシカル、l?ニル)−
1、シアノノー、ホルミル基、カルボニル基、ヒドロキ
シル基、(1、メルカ7’)基、炭素数1〜5のアルコ
キシ力、ノ・ログン原子、ニトロ基、アリル基、トリフ
ルオロメチル基があげられる。
R’、 R2,R3及びR4で表わされる炭素オl/】
・〜5の置換もしくけ非置換アルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピ
ル基、n−ブチル基、5ec−ブチル基、n−4ンチル
基、イソブチル基、t−ブチル基、インインチル基、ネ
オペンチル基、t−Rメチル基、メトキシメチル基、シ
アノメチル基、ニトロメチル基、クロロメチル基、トリ
フルオロメチル基、2−エトキシエチル基、2−エトキ
シカルがニルエチル基、3−メルカプトゾロビル基、2
−ニトロペンチル基があげられる。
・〜5の置換もしくけ非置換アルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピ
ル基、n−ブチル基、5ec−ブチル基、n−4ンチル
基、イソブチル基、t−ブチル基、インインチル基、ネ
オペンチル基、t−Rメチル基、メトキシメチル基、シ
アノメチル基、ニトロメチル基、クロロメチル基、トリ
フルオロメチル基、2−エトキシエチル基、2−エトキ
シカルがニルエチル基、3−メルカプトゾロビル基、2
−ニトロペンチル基があげられる。
炭素数1〜5のアルコキシ基としては、例えば、メトキ
シ基、エトキシ基、fロポキシ基、イソプロポキシ基、
ブトキシ基、イソブトキシ基、aec−プトキシ基、t
−エトキシ基、ペントキシ基、イン4ントキシ基、ネオ
硬ントキシ基、t−ペントキシ基があげられる。
シ基、エトキシ基、fロポキシ基、イソプロポキシ基、
ブトキシ基、イソブトキシ基、aec−プトキシ基、t
−エトキシ基、ペントキシ基、イン4ントキシ基、ネオ
硬ントキシ基、t−ペントキシ基があげられる。
直換もしくけ非置換アリール基としては、例えハ、フェ
ニル基、0−メチルフェニル基、m−メチルフェニル基
、p−メチルフェニル基、O−メトキシフェニル1p:
、 −メトキシフェニル基% 0−ニトロフェニル部、m−
ニトロフェニル基、p−ニトロフェニルジ、l−10−
シアノフェニル基、m−シアノフェニルス1%pーシア
ノフェニル基,o−クロロフェニル基、m−クロロフェ
ニル基.p−クロロフェニル邦、0 ”− 7 ミ/フ
ェニル基、m−アミノフェニル環、p−アミノフェニル
基があけられる。
ニル基、0−メチルフェニル基、m−メチルフェニル基
、p−メチルフェニル基、O−メトキシフェニル1p:
、 −メトキシフェニル基% 0−ニトロフェニル部、m−
ニトロフェニル基、p−ニトロフェニルジ、l−10−
シアノフェニル基、m−シアノフェニルス1%pーシア
ノフェニル基,o−クロロフェニル基、m−クロロフェ
ニル基.p−クロロフェニル邦、0 ”− 7 ミ/フ
ェニル基、m−アミノフェニル環、p−アミノフェニル
基があけられる。
アリールオキシ基としては、611えば,フェノキシ基
、o−1チルフエノキシ基、m−メチルフェノキシ基、
p−メチルフェノキシバ、0−メトキシフェノキシ%,
m−メトキシフェノキジノ、18、p−メトキシフェノ
キシ基、0−ニトロフェノキシ基1m−ニトロフェノキ
シ基、p−ニトロフェノキシ基、0−シアノフェノキシ
基、m−シアノフェノキシ基、p−シアノフェノキシ基
,)、O−クロロフェノキシ基、m−クロロフ!ノキシ
茫,pークロロフェノキシ基.0−アミノフェノキジノ
講、m−アミノフェノキシ基、p−アミノフェノキシ基
があけられる。
、o−1チルフエノキシ基、m−メチルフェノキシ基、
p−メチルフェノキシバ、0−メトキシフェノキシ%,
m−メトキシフェノキジノ、18、p−メトキシフェノ
キシ基、0−ニトロフェノキシ基1m−ニトロフェノキ
シ基、p−ニトロフェノキシ基、0−シアノフェノキシ
基、m−シアノフェノキシ基、p−シアノフェノキシ基
,)、O−クロロフェノキシ基、m−クロロフ!ノキシ
茫,pークロロフェノキシ基.0−アミノフェノキジノ
講、m−アミノフェノキシ基、p−アミノフェノキシ基
があけられる。
炭素数1〜5のアシルオキシ基としては、例え1j゛、
ホルミルオキシ基、アセトキシ基、グロビオニルオキシ
茫、ブチリルオキシ茫、ワレリルオキシ基、イソワレリ
ルオキシ基、ピパロイルオキシ基があげられる。
ホルミルオキシ基、アセトキシ基、グロビオニルオキシ
茫、ブチリルオキシ茫、ワレリルオキシ基、イソワレリ
ルオキシ基、ピパロイルオキシ基があげられる。
−また、前記した0−ニトロベンツルオキシカ2を有す
るケイ素原子に直接結合するノ、tとしては、例えば、
水非原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10の買換もしく
は非置換アルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、
置換もしくは非置換アリール基、アリールオキシ基、ビ
ニル基、アリル基があげられる。
るケイ素原子に直接結合するノ、tとしては、例えば、
水非原子、ハロゲン原子、炭素数1〜10の買換もしく
は非置換アルキル基、炭素数1〜10のアルコキシ基、
置換もしくは非置換アリール基、アリールオキシ基、ビ
ニル基、アリル基があげられる。
上記した〃、のうち、炭素数1〜10のアルキル1i、
及びアリール基の直換基としては、例えば、カルボキシ
ル基、チオカルボキシル基、ソチオカルホキシルM 、
炭素数1〜5のアルコキシカルボニル基、シアン、t
、(、ホルミル基、カルボニル基、ヒドロキシル基、メ
ルカプト基、炭素数1〜5のアルコキシル基、ハロゲン
原子、ニトロ基、アリル基、トリフルオロメチル基があ
げられる。
及びアリール基の直換基としては、例えば、カルボキシ
ル基、チオカルボキシル基、ソチオカルホキシルM 、
炭素数1〜5のアルコキシカルボニル基、シアン、t
、(、ホルミル基、カルボニル基、ヒドロキシル基、メ
ルカプト基、炭素数1〜5のアルコキシル基、ハロゲン
原子、ニトロ基、アリル基、トリフルオロメチル基があ
げられる。
炭素数1〜10の直換もしくけ非W1″換アルキル基と
しては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基
、イソゾロビル基、n−ブチル基、5ee−ブチル基、
t−ブチル基、n−ペンチル基。
しては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基
、イソゾロビル基、n−ブチル基、5ee−ブチル基、
t−ブチル基、n−ペンチル基。
ネオペンチル基、イソ被ンチル基、t−硬ンチル基、ヘ
キシル、7.t; 、イソヘキシル基、ヘゾチル基。
キシル、7.t; 、イソヘキシル基、ヘゾチル基。
オクチル基、ノニル基、デシル基、メトキシメチル):
” 、シアンメチル基、ニトロメチル基、クロロメチル
i%、2−1−リフルオロメチルエチル茫、2−エトキ
シエチル基、2−ニトロ4ンチル基、3−クロロヘキシ
ル、#こ、S−シアノヘン0チル基があげられる。
” 、シアンメチル基、ニトロメチル基、クロロメチル
i%、2−1−リフルオロメチルエチル茫、2−エトキ
シエチル基、2−ニトロ4ンチル基、3−クロロヘキシ
ル、#こ、S−シアノヘン0チル基があげられる。
炭素数1〜10のアルコキシ基としては、例えば、メト
ギ、シ基、エトキシ基、グロポキシ基、イソゾロビル基
、ブトキシ基、イソブトキシ基。
ギ、シ基、エトキシ基、グロポキシ基、イソゾロビル基
、ブトキシ基、イソブトキシ基。
5ec−ブトキシ基、L−ブトキシ基、ペンチルオキシ
基、イソインチルオキシ基、ネオインチルオキシ基、t
−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシカ、ヘプチルオキ
シカ(1、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシル
オキシ基があげられる。
基、イソインチルオキシ基、ネオインチルオキシ基、t
−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシカ、ヘプチルオキ
シカ(1、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシル
オキシ基があげられる。
置換もしくは非置換アリール基及びアリールオキシ基は
、前6シシした0−ニトロペンツルオキシ基において、
Rで表わされたこれらの基と各々同様の茫が例示される
。
、前6シシした0−ニトロペンツルオキシ基において、
Rで表わされたこれらの基と各々同様の茫が例示される
。
また、0−ニトロベンツルオキシ基が直接結合したケイ
素原子は、酸素原子;メチレン、エチレン等のアルキレ
ン基;フェニレン等のアリール基などを奴介として、2
個以上結合されていてもよい。
素原子は、酸素原子;メチレン、エチレン等のアルキレ
ン基;フェニレン等のアリール基などを奴介として、2
個以上結合されていてもよい。
0−ニトロペンツルオキシ基が、ケイ素原子に内接結合
して成るケイ素化合物を以下に例示する。。
して成るケイ素化合物を以下に例示する。。
化合物番号 化 合 物 名1、
)!JメーF−ル(0−ニトロペンツルオキシ)シラン 2 ツメチル(0−ニトロベンツルオキシ)フェニ
ルシラン 3 ソフェニルメチル(0−ニトロペンツルオキシ
)シラン 4 トリフェニル(0−二トロペンジルオキシ)シ
ラン 5 トリエチル(0−ニトロベンジルオキシ)シラ
ン 6 トリ(2−クロロエチル)0−二ト「1ベンジ
ルオキシシラン 7、 ’) (o−ニトロペンツルオキシ)ソフ
ェニルシラン 8 ジ(0−ニトロベンジ/lオキシ)メチルフェ
ニルシラン 9 ソエチルソ(0−ニトロベンツル調キシ〕シラ
ン 10 ソメチルソ(0−ニトロベンジルオキシ)
シラン 11、 )’j(o−ニトロベンジルオキシ)フ
ェニルシラン 12、 )!J(o−ニトロベンジルオキシ)メチ
ルシラン 13 ジ(p−メトキシフェニル)ジ(o−ニトロ
ペンツルオキシ)シラン 14 ジ(p−クロロフェニル)ジ(0−ニトロペ
ンツルオキシ)シラン 15 ノ(p−シアノフェニル)ソ(0−ニトロペ
ンノルオキシ)シラン 16. ) I) (p−トリフルオロメチルフ
ェニル)o−ニトロベンジルオキシシラン 17、 ソ(0−ニトロベンシルオキシ)p−メチ
ルフェニルメチルシラン 18、トリフェニル(2,6−ゾニトロペンソルオキシ
)シラン 19 ツメチル(4−メトキシ−2−ニトロベンジ
ルオキシ)フェニルシラン 20、トリメチル(4,5−ジメトキシ−2−ニトロペ
ンツルオキシ)シラン 21、 ツメチル(4,5−ジメトキシ−2−二ト
ロペンソルオキシ)フェニルシラ ン 22 ジフェニルメチル(4,5,6−)ジメト
キシ−2−ニトロペンツルオキシ)シラン 23 ジフェニルメチル(3,4,5−)ジメトキ
シ−2−ニトロベンツルオキシ)シラン 24 ノ(p−クロロ−0−ニトロベンシルオキ
シ)メチルフェニルシラン 25、トリフェニル(p−フェノキシ−〇−ニトロペン
ツルオキシ)シラン 26トリエチル(3,4−ツメチル−2−ニトロベンジ
ルオキシ)シラン 27、 ソ(4,5−ジクロロ−2−ニトロペンツ
ルオキシ)ツメチルシラン 28 ノ(3,4−ペンツルオキシ−2−二トロペ
ンジルオキシ)ジメチルシラン 29、 ソ(4,5−ジメトキシ−2−ニトロペン
ツルオキシ)ジメチルシラン 30 ノ(4−シアノ−2−ニトロペンツルオキシ
)ツメチルシラン 31、 N(4−エトキシ−2−二トロペンジルオ
キシ)ツメチルシラン 32、 &(4−フルオロ−2−ニトロペンツルオ
キシ)ジメチルシラン 33、 p−ビス(0−ニトロペンツルオキシツメ
チルシリル)ベンゼン 34、 1,1,3,3,5.5−へキサメチル−1
,5−ジ(2−ニトロベンジル オキシ)シロキサン 35、 1 、1 、3 、3−テトラフェニル−1
゜3−ノ(2−ニトロペンシルオキシ) シロキサン 36、 l 、 1 、3 、3 、5 、5−ヘ
キサフェニル−1,5−ソ(2−ニトロペンツ ルオキシ)シロキサン 37、 1.3 、5− トリメチル−1,3,5
−トリフェニル−1,5−ノ(2−ニ トロペンツルオキシ)シロキサン 38、 (o−ニトロペンノルオキシ)ビニルジ
フェニルシラン 39、 (o−ニトロペンノルオキシ)ビニルフェ
ニルメチルシラン 40、 ソ(0−ニトロベンジルオキシ)ビニルフ
ェニルシラン 41、 ソ(0−ニトロペンツルオキシ)フェニル
t−ブチルシラン 42、 ジ(3−メチル−2−ニトロ(シリルオキ
シ)ジフェニルシラン 43、 (5−メチル−2−ニトロベンジルオキシ
)トリフェニルシラン 44、 ヅ(3−メトキシ−2−ニトロペンツルオ
キシ)ジフェニルシラン 45、 ソ(2−クロロ−6〜ニトロベンジルオキ
シ)ジフェニルシラン 46、 (5−クロロ−2−ニトロベンシルオキシ
)トリフェニルシラン 47、 ソ(2,4−ソニトロペンソルオキシ)ジ
フェニルシラン 48、 (6−ニトロベンシルオキシ)トリフェニ
ルシラン 49、 ジフェニル(3−メチル−4−メトキシ−
2−ニトロベンジルオキシ)シラ ン 50、 (3、4−ジメトキシ−2−ニトロペンツ
ルオキシ)トリフェニルシラン 及び、 クロル化ケイ素含有シリコーン樹脂(例えば。
)!JメーF−ル(0−ニトロペンツルオキシ)シラン 2 ツメチル(0−ニトロベンツルオキシ)フェニ
ルシラン 3 ソフェニルメチル(0−ニトロペンツルオキシ
)シラン 4 トリフェニル(0−二トロペンジルオキシ)シ
ラン 5 トリエチル(0−ニトロベンジルオキシ)シラ
ン 6 トリ(2−クロロエチル)0−二ト「1ベンジ
ルオキシシラン 7、 ’) (o−ニトロペンツルオキシ)ソフ
ェニルシラン 8 ジ(0−ニトロベンジ/lオキシ)メチルフェ
ニルシラン 9 ソエチルソ(0−ニトロベンツル調キシ〕シラ
ン 10 ソメチルソ(0−ニトロベンジルオキシ)
シラン 11、 )’j(o−ニトロベンジルオキシ)フ
ェニルシラン 12、 )!J(o−ニトロベンジルオキシ)メチ
ルシラン 13 ジ(p−メトキシフェニル)ジ(o−ニトロ
ペンツルオキシ)シラン 14 ジ(p−クロロフェニル)ジ(0−ニトロペ
ンツルオキシ)シラン 15 ノ(p−シアノフェニル)ソ(0−ニトロペ
ンノルオキシ)シラン 16. ) I) (p−トリフルオロメチルフ
ェニル)o−ニトロベンジルオキシシラン 17、 ソ(0−ニトロベンシルオキシ)p−メチ
ルフェニルメチルシラン 18、トリフェニル(2,6−ゾニトロペンソルオキシ
)シラン 19 ツメチル(4−メトキシ−2−ニトロベンジ
ルオキシ)フェニルシラン 20、トリメチル(4,5−ジメトキシ−2−ニトロペ
ンツルオキシ)シラン 21、 ツメチル(4,5−ジメトキシ−2−二ト
ロペンソルオキシ)フェニルシラ ン 22 ジフェニルメチル(4,5,6−)ジメト
キシ−2−ニトロペンツルオキシ)シラン 23 ジフェニルメチル(3,4,5−)ジメトキ
シ−2−ニトロベンツルオキシ)シラン 24 ノ(p−クロロ−0−ニトロベンシルオキ
シ)メチルフェニルシラン 25、トリフェニル(p−フェノキシ−〇−ニトロペン
ツルオキシ)シラン 26トリエチル(3,4−ツメチル−2−ニトロベンジ
ルオキシ)シラン 27、 ソ(4,5−ジクロロ−2−ニトロペンツ
ルオキシ)ツメチルシラン 28 ノ(3,4−ペンツルオキシ−2−二トロペ
ンジルオキシ)ジメチルシラン 29、 ソ(4,5−ジメトキシ−2−ニトロペン
ツルオキシ)ジメチルシラン 30 ノ(4−シアノ−2−ニトロペンツルオキシ
)ツメチルシラン 31、 N(4−エトキシ−2−二トロペンジルオ
キシ)ツメチルシラン 32、 &(4−フルオロ−2−ニトロペンツルオ
キシ)ジメチルシラン 33、 p−ビス(0−ニトロペンツルオキシツメ
チルシリル)ベンゼン 34、 1,1,3,3,5.5−へキサメチル−1
,5−ジ(2−ニトロベンジル オキシ)シロキサン 35、 1 、1 、3 、3−テトラフェニル−1
゜3−ノ(2−ニトロペンシルオキシ) シロキサン 36、 l 、 1 、3 、3 、5 、5−ヘ
キサフェニル−1,5−ソ(2−ニトロペンツ ルオキシ)シロキサン 37、 1.3 、5− トリメチル−1,3,5
−トリフェニル−1,5−ノ(2−ニ トロペンツルオキシ)シロキサン 38、 (o−ニトロペンノルオキシ)ビニルジ
フェニルシラン 39、 (o−ニトロペンノルオキシ)ビニルフェ
ニルメチルシラン 40、 ソ(0−ニトロベンジルオキシ)ビニルフ
ェニルシラン 41、 ソ(0−ニトロペンツルオキシ)フェニル
t−ブチルシラン 42、 ジ(3−メチル−2−ニトロ(シリルオキ
シ)ジフェニルシラン 43、 (5−メチル−2−ニトロベンジルオキシ
)トリフェニルシラン 44、 ヅ(3−メトキシ−2−ニトロペンツルオ
キシ)ジフェニルシラン 45、 ソ(2−クロロ−6〜ニトロベンジルオキ
シ)ジフェニルシラン 46、 (5−クロロ−2−ニトロベンシルオキシ
)トリフェニルシラン 47、 ソ(2,4−ソニトロペンソルオキシ)ジ
フェニルシラン 48、 (6−ニトロベンシルオキシ)トリフェニ
ルシラン 49、 ジフェニル(3−メチル−4−メトキシ−
2−ニトロベンジルオキシ)シラ ン 50、 (3、4−ジメトキシ−2−ニトロペンツ
ルオキシ)トリフェニルシラン 及び、 クロル化ケイ素含有シリコーン樹脂(例えば。
エポキシ変性シリコーン+1脂)とo−ニトロペンツル
アルコールとの反応により得られるケイ素化合物等があ
げられる。このような化合物としては、例えば、前記し
た0−ニトロベンジルオキシ基を分子鎖両末端に有し、
主鎖がポリシロキサン、ポリオキシアルキレン等から成
るものがあげられる。
アルコールとの反応により得られるケイ素化合物等があ
げられる。このような化合物としては、例えば、前記し
た0−ニトロベンジルオキシ基を分子鎖両末端に有し、
主鎖がポリシロキサン、ポリオキシアルキレン等から成
るものがあげられる。
尚、主鎖には、メチル基、フェニル基等の側鎖が結合し
ていてもよい。
ていてもよい。
生成するシラノールは、通常すぐに縮合反応をおこすが
、場合によっては、その縮合速度を増大さ・せるために
、縮合触媒を添加してもよい。
、場合によっては、その縮合速度を増大さ・せるために
、縮合触媒を添加してもよい。
本発明に用いられるシラノール縮合触媒は、次の反応式
: (式中、Rは、アルキル基等を表わす。)で示される反
応を活性化する化合物であり、このような触媒機能を有
するものであればいかなるものであってもよい。
: (式中、Rは、アルキル基等を表わす。)で示される反
応を活性化する化合物であり、このような触媒機能を有
するものであればいかなるものであってもよい。
シラノール縮合触媒の具体例としては、例え?J’ジブ
チルスズソラウレート、ソアセチルアセトナトソクロル
スズ、オクテン酸鉛、ナフテン酸鉛、ナフテン酸第−ス
ズ、ナフテン酸第二スズ、オクテン酸亜鉛、トリフェニ
ルホスフィン、Bli’3・モノエチルアミン% BF
、・ピペリジン錯体、トリスアセチルアセトナト鉄があ
げられる。
チルスズソラウレート、ソアセチルアセトナトソクロル
スズ、オクテン酸鉛、ナフテン酸鉛、ナフテン酸第−ス
ズ、ナフテン酸第二スズ、オクテン酸亜鉛、トリフェニ
ルホスフィン、Bli’3・モノエチルアミン% BF
、・ピペリジン錯体、トリスアセチルアセトナト鉄があ
げられる。
上記したシラノールIri金触媒の添加配合!、’、
f:F、、ケイ素化合物に対して重用チで、5〜11.
01であル、好ましくは2〜0.1である1、 以上に説明した本発明の光硬化性シリコーン組成物は、
光、特VCUV光の照射によって6す1化反応を起こす
。光照射時間は組成物により変動するため、一義的には
定められない。また、反応湯層についても同様である。
f:F、、ケイ素化合物に対して重用チで、5〜11.
01であル、好ましくは2〜0.1である1、 以上に説明した本発明の光硬化性シリコーン組成物は、
光、特VCUV光の照射によって6す1化反応を起こす
。光照射時間は組成物により変動するため、一義的には
定められない。また、反応湯層についても同様である。
光源としてVi篩F’E:水銀ランプ、カーボンアーク
ランプ、アルゴングロー1fJ電管等が用いられる。
ランプ、アルゴングロー1fJ電管等が用いられる。
硬化反応によシ得られた硬化物は、無臭で、優れた耐熱
性を有する。また、本発明組成物の一成分であるケイ素
化合物のケイ素原子に直接結合する基を種々選択するこ
とにより、任意の機械的特性を有する硬化物を得ること
が可能となる。
性を有する。また、本発明組成物の一成分であるケイ素
化合物のケイ素原子に直接結合する基を種々選択するこ
とにより、任意の機械的特性を有する硬化物を得ること
が可能となる。
実施例1
分子鎖両末端が2−ニトロベンツルオキシ基で封鎖され
、25℃における粘度が6,000センチストークスの
ツメチルポリシロキサン99重量%及びジブチルスズジ
ラウレート131i量チから成る組成物に、光源として
高圧水銀ランプ(IKW)を用いて、15ctnめ距離
から紫外線を照射したところ、20分間の照射によシェ
ラストマー(ゴム状弾性体)が得られた。
、25℃における粘度が6,000センチストークスの
ツメチルポリシロキサン99重量%及びジブチルスズジ
ラウレート131i量チから成る組成物に、光源として
高圧水銀ランプ(IKW)を用いて、15ctnめ距離
から紫外線を照射したところ、20分間の照射によシェ
ラストマー(ゴム状弾性体)が得られた。
実施例2
分子鎖両末端が4.5.6−)!jメトキシー2−ニト
ロペンソルオキシ基で封鎖され、25℃における粘度が
5,000センチストークスのツメチルポリシロキサン
を用いたこと以外は、実施例1と同様に紫外mを照射し
たところ、20分間の照射により、エラストマーが得ら
れた。
ロペンソルオキシ基で封鎖され、25℃における粘度が
5,000センチストークスのツメチルポリシロキサン
を用いたこと以外は、実施例1と同様に紫外mを照射し
たところ、20分間の照射により、エラストマーが得ら
れた。
実施例3
主鎖がIリオキシノロビレンで、その両末端がジフェニ
ル0−ニトロベンジルオキシシリルノ、(でtJ鎖され
、25℃における粘度が1.00(1センチストークス
のシリコーン樹脂を用いたこと以外は、実施例1と同様
に紫外線を照射」7たところ、約20分間の照射により
、エラストマーが得られた。
ル0−ニトロベンジルオキシシリルノ、(でtJ鎖され
、25℃における粘度が1.00(1センチストークス
のシリコーン樹脂を用いたこと以外は、実施例1と同様
に紫外線を照射」7たところ、約20分間の照射により
、エラストマーが得られた。
実施例4
末端がメチル(0−ニトロベンジルオキシ)フェニルシ
リル基で封鎖され、25℃における粘度が50.(10
0センチストークスのオルガノヂリシロキサン(メチル
基/フェニルノー、=1.5)のシリコーン樹脂を用い
たこと以外は、実施例1と同様に紫外線を照射したとこ
ろ、約20分間の照射により、厚さlll1lの硬化膜
が得られた。
リル基で封鎖され、25℃における粘度が50.(10
0センチストークスのオルガノヂリシロキサン(メチル
基/フェニルノー、=1.5)のシリコーン樹脂を用い
たこと以外は、実施例1と同様に紫外線を照射したとこ
ろ、約20分間の照射により、厚さlll1lの硬化膜
が得られた。
実施例5
実施例4で用いたシリコーン樹脂に、オクテン酸鉛2重
部%を混合し、光源と1.てメタル・・ライトランプ(
soW/crn)’を用いて、10t−rnの距P![
[から紫外線を照射したところ、10分間のI!(1射
によシェラ′ストマーが得られた。
部%を混合し、光源と1.てメタル・・ライトランプ(
soW/crn)’を用いて、10t−rnの距P![
[から紫外線を照射したところ、10分間のI!(1射
によシェラ′ストマーが得られた。
実施例6
実施例1で用いたシリコーン化合物に、オクテン版面S
t12重訂1%を混合し、実hib例5と同様に照射し
たところ、10分間の照射によりエラストマーが11妻
られた。
t12重訂1%を混合し、実hib例5と同様に照射し
たところ、10分間の照射によりエラストマーが11妻
られた。
実施例7
末Aa カo−ニトロベンジルオキシメチルフェニルシ
リル基で封蛸され、25℃における粘度が、30.0
(10センチストークスのオルガノポリシロキサン(メ
チル基/フェニル基=2.0)のシリコーン4tI J
JkTに、光源として80W/Crnのメタルハライド
ラン2を用いて、]Omの粗部、から紫外線を照射した
ところ、3()分間の照射によりエラストマーが得られ
た、7 実施例8 末端が、5−メチル−2−二トロペンジルオキシソメチ
ルシリル基で4り鎖され% 30 ’Cにおける粘度が
、20.000センチストークスのオルガノポリシロキ
サンに、光源として、実施例6で用いたランプを用い、
紫外線を照射したところ、30分間の照射によりエラス
トマーが得られた。
リル基で封蛸され、25℃における粘度が、30.0
(10センチストークスのオルガノポリシロキサン(メ
チル基/フェニル基=2.0)のシリコーン4tI J
JkTに、光源として80W/Crnのメタルハライド
ラン2を用いて、]Omの粗部、から紫外線を照射した
ところ、3()分間の照射によりエラストマーが得られ
た、7 実施例8 末端が、5−メチル−2−二トロペンジルオキシソメチ
ルシリル基で4り鎖され% 30 ’Cにおける粘度が
、20.000センチストークスのオルガノポリシロキ
サンに、光源として、実施例6で用いたランプを用い、
紫外線を照射したところ、30分間の照射によりエラス
トマーが得られた。
実施例9
末端が4,5−ジメトキシ−2−ニトロペンツルオキシ
ツメチルシリル基で封鎖され、30℃における粘度が、
20,000センチストークスのオルガノポリシロキサ
ンに、光源として、実施例6で用いたシン7°を用い、
紫外線を照射したところ、30分間の照射によりエラス
トマーが得られた。
ツメチルシリル基で封鎖され、30℃における粘度が、
20,000センチストークスのオルガノポリシロキサ
ンに、光源として、実施例6で用いたシン7°を用い、
紫外線を照射したところ、30分間の照射によりエラス
トマーが得られた。
尚、実施例1〜実施例9と同様の組成物に紫外線を照射
しない場合にはいずれの組成物も全く重合しなかった。
しない場合にはいずれの組成物も全く重合しなかった。
また、以上の実施例で得られたエラストマーは全て、無
臭で、しかも耐熱性試験によって、優れた耐熱性を有す
ることが確聞された。
臭で、しかも耐熱性試験によって、優れた耐熱性を有す
ることが確聞された。
本発明の光硬化性化合物組成物は、光増感剤を用いなく
とも、比較的短特開で硬化する。また、?υられた硬化
物V、1無臭で、優れた耐熱性を有する。
とも、比較的短特開で硬化する。また、?υられた硬化
物V、1無臭で、優れた耐熱性を有する。
このため、本発明組成物は、絶縁塗膜、注型、モールド
、?ツデイング等の用途に適用することができる。
、?ツデイング等の用途に適用することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (式中、Hl、 R2,R3及びR4は同一でも異なっ
ていてもよく、各々、水素原子、)10rン原子、ニト
ロ基、シアノ基、炭素数1〜5の置換もしくけ非置換ア
ルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、置換もしくは
非置換アリール基、アリールオキシ基、炭素数1〜5の
アシルオキシ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、アセ
チル基、アリル基を表わす。) テ示すれる0−ニトロベンツルオキシ基力(、ケイ素原
子に直接結合しているケイ素化合物又は前言上ケイ素化
合物とシラノール縮合触媒とから#3見ること全特徴と
する光硬化性ケイ素化合物組成物。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57162248A JPS5953494A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 光硬化性ケイ素化合物組成物 |
US06/532,903 US4476290A (en) | 1982-09-20 | 1983-09-16 | Photocurable silicon compound composition |
DE8383109331T DE3370882D1 (en) | 1982-09-20 | 1983-09-20 | Photocurable silicon compound composition |
EP83109331A EP0104590B1 (en) | 1982-09-20 | 1983-09-20 | Photocurable silicon compound composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57162248A JPS5953494A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 光硬化性ケイ素化合物組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5953494A true JPS5953494A (ja) | 1984-03-28 |
Family
ID=15750806
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57162248A Pending JPS5953494A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 光硬化性ケイ素化合物組成物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4476290A (ja) |
EP (1) | EP0104590B1 (ja) |
JP (1) | JPS5953494A (ja) |
DE (1) | DE3370882D1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4954534A (en) * | 1987-07-23 | 1990-09-04 | Ricoh Company, Ltd. | Photodecomposing organosilicon compounds and photopolymerizable epoxy resin compositions containing the organosilicon compounds |
US5246979A (en) * | 1991-05-31 | 1993-09-21 | Dow Corning Corporation | Heat stable acrylamide polysiloxane composition |
GB2280446A (en) * | 1993-07-29 | 1995-02-01 | Dow Corning | UV-curable organosiloxane compositions |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1062418A (en) * | 1964-01-27 | 1967-03-22 | Ici Ltd | New nitrogen-containing siloxanes |
FR2226407B1 (ja) * | 1973-04-17 | 1978-05-26 | Rhone Progil | |
GB2057476B (en) * | 1979-08-29 | 1983-06-22 | Shinetsu Chemical Co | Photocurable organopolysiloxane compositions |
FR2478641A1 (fr) * | 1980-03-24 | 1981-09-25 | Rhone Poulenc Ind | Nouveaux photosensibilisateurs, leur procede d'obtention et leur utilisation dans des compositions photoresists |
-
1982
- 1982-09-20 JP JP57162248A patent/JPS5953494A/ja active Pending
-
1983
- 1983-09-16 US US06/532,903 patent/US4476290A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-09-20 EP EP83109331A patent/EP0104590B1/en not_active Expired
- 1983-09-20 DE DE8383109331T patent/DE3370882D1/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4476290A (en) | 1984-10-09 |
EP0104590B1 (en) | 1987-04-08 |
EP0104590A1 (en) | 1984-04-04 |
DE3370882D1 (en) | 1987-05-14 |
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