JPS5950374B2 - アンテイカホトクロミツクブツシツリユウシノセイホウ - Google Patents
アンテイカホトクロミツクブツシツリユウシノセイホウInfo
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- JPS5950374B2 JPS5950374B2 JP50150701A JP15070175A JPS5950374B2 JP S5950374 B2 JPS5950374 B2 JP S5950374B2 JP 50150701 A JP50150701 A JP 50150701A JP 15070175 A JP15070175 A JP 15070175A JP S5950374 B2 JPS5950374 B2 JP S5950374B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はホトクロミック(吸光変色性)組成物7の分野
に関連する。
に関連する。
本発明は特に無機物質で被覆され、かつホトクロミック
染料と樹脂物質とからなる粒状ホトクロミック物質を目
的とするものである。ホトクロミック物質と樹脂物質と
を組合わせるフことは公知で、例えば米国特許第376
1442号明細書には、ジフェニルチオカルバゾンの金
属錯塩を含有しかつフィルムに形成されるホトクロミツ
クプラスチゾル組成物の製法が記載されている。
染料と樹脂物質とからなる粒状ホトクロミック物質を目
的とするものである。ホトクロミック物質と樹脂物質と
を組合わせるフことは公知で、例えば米国特許第376
1442号明細書には、ジフェニルチオカルバゾンの金
属錯塩を含有しかつフィルムに形成されるホトクロミツ
クプラスチゾル組成物の製法が記載されている。
米国特許第3565814号の発明は種々のベンゾスピ
口iピラン化合物を全体に分散したメタクリル酸ラウリ
ルの重合体を含み、速い速度で変色するホトクロミック
組成物に関連する。米国特許第3666352号の発明
はガラス層又はプラスチック層間に積層された、水銀ジ
チオゾネート化合物を含有する塩ノ化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体のシートを含むホトクロミックレンズに関連
する。又大気中の酸素に対してホトクロミック物質を保
護する必要性は迅速な作用と長期間の可逆性を保持する
手段として従来認められており、例えば米国特許第37
16489号明細書には迅速に作用するホトクロミック
フィルターの製法が示され、この方法ではホトクロミッ
ク物質は光学的に透明な固体エポキシ重合体、又はポリ
カーボネート重合体マトリツタスの固溶体の形で存在す
る。
口iピラン化合物を全体に分散したメタクリル酸ラウリ
ルの重合体を含み、速い速度で変色するホトクロミック
組成物に関連する。米国特許第3666352号の発明
はガラス層又はプラスチック層間に積層された、水銀ジ
チオゾネート化合物を含有する塩ノ化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体のシートを含むホトクロミックレンズに関連
する。又大気中の酸素に対してホトクロミック物質を保
護する必要性は迅速な作用と長期間の可逆性を保持する
手段として従来認められており、例えば米国特許第37
16489号明細書には迅速に作用するホトクロミック
フィルターの製法が示され、この方法ではホトクロミッ
ク物質は光学的に透明な固体エポキシ重合体、又はポリ
カーボネート重合体マトリツタスの固溶体の形で存在す
る。
本発明の目的は無機物質外殼で保護され、かつ樹脂物質
混合ホトクロミツタ染料を含むホトクロミツク粒状物質
を提供することにあり、この粒状物質は眼鏡及び他の光
学装置の製造に使用される種々のプラスチツク材料に容
易に導入でき、有効に、かつ長期間継続して可逆的に変
色し、光に曝露されるとこれに応じて透光度を変えるホ
トトロピツク特性を有するホトクロミツク物品を作るこ
1とができる。
混合ホトクロミツタ染料を含むホトクロミツク粒状物質
を提供することにあり、この粒状物質は眼鏡及び他の光
学装置の製造に使用される種々のプラスチツク材料に容
易に導入でき、有効に、かつ長期間継続して可逆的に変
色し、光に曝露されるとこれに応じて透光度を変えるホ
トトロピツク特性を有するホトクロミツク物品を作るこ
1とができる。
本発明の他の目的は、無機質外部被覆を有する包被ホト
クロミツク粒状物質の製造法を提供することにあり、こ
の外部被覆は合成プラスチツク物質の生成に使用される
単量体及び触媒、及び眼鏡,又は光学装置に使用された
場合にホトタロミツク物質の所望性質に悪影響を及ぼす
酸素、湿気又は大気変化による有害な影響からホトクロ
ミツク物質を保護する。
クロミツク粒状物質の製造法を提供することにあり、こ
の外部被覆は合成プラスチツク物質の生成に使用される
単量体及び触媒、及び眼鏡,又は光学装置に使用された
場合にホトタロミツク物質の所望性質に悪影響を及ぼす
酸素、湿気又は大気変化による有害な影響からホトクロ
ミツク物質を保護する。
本発明は粒度が約30人−1μの被覆ホトクロミリツク
粒子を目的とするものである。
粒子を目的とするものである。
無機物質の保護被覆はホトクロミツク粒子の表面に設け
られる。この被覆厚は、被覆の内部からホトクロミツク
物質が拡散することを防止し、かつ該ホトクロミツタ物
質が被覆を通して反応性化学薬品、酸,素、湿気、及び
ホトタロミツク物質の迅速作用性とを低下させる別の大
気汚染物を吸収することを防止する適当な厚さである。
ホトクロミツク物質粒子の保護に好適な被覆物質は無機
ガラス、結晶性無機酸化物、−非酸化物質及びそれらの
混合物である。特に好適な被覆物質は酸化亜鉛、二酸化
チタン、酸化アルミニウム、酸化アンチモン及び二酸化
ケイ素のような無機物質である。本発明の方法は下記の
ような操作手順によつて無機質の薄い保護フイルムで包
被するのに適したホトクロミツク物質粒子の使用法に関
連する:ホトクロミツク染料と樹脂物質との組合せは任
意の方法が用いられ、例えば染料と樹脂物質とを共通溶
媒に溶解し、この混合物を噴霧乾燥し次にこの粒子を捕
集する。
られる。この被覆厚は、被覆の内部からホトクロミツク
物質が拡散することを防止し、かつ該ホトクロミツタ物
質が被覆を通して反応性化学薬品、酸,素、湿気、及び
ホトタロミツク物質の迅速作用性とを低下させる別の大
気汚染物を吸収することを防止する適当な厚さである。
ホトクロミツク物質粒子の保護に好適な被覆物質は無機
ガラス、結晶性無機酸化物、−非酸化物質及びそれらの
混合物である。特に好適な被覆物質は酸化亜鉛、二酸化
チタン、酸化アルミニウム、酸化アンチモン及び二酸化
ケイ素のような無機物質である。本発明の方法は下記の
ような操作手順によつて無機質の薄い保護フイルムで包
被するのに適したホトクロミツク物質粒子の使用法に関
連する:ホトクロミツク染料と樹脂物質との組合せは任
意の方法が用いられ、例えば染料と樹脂物質とを共通溶
媒に溶解し、この混合物を噴霧乾燥し次にこの粒子を捕
集する。
有用な樹脂物質を下記に例示するがこれらには限定され
ない:ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルピロリドン、商標1レキサン(Le
xan)″″のポリカーボネート、商標−プレキジガラ
ス(Plexiglass)″″のポリメタクリル酸メ
チル、ポリエステル樹脂、アミノプラスチツク樹脂、酢
酸セルロース、アセチルブチリルセルロース、ニトセル
ロース、のようなセルロースプラスチツタ、エポキシ樹
脂等。
ない:ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルピロリドン、商標1レキサン(Le
xan)″″のポリカーボネート、商標−プレキジガラ
ス(Plexiglass)″″のポリメタクリル酸メ
チル、ポリエステル樹脂、アミノプラスチツク樹脂、酢
酸セルロース、アセチルブチリルセルロース、ニトセル
ロース、のようなセルロースプラスチツタ、エポキシ樹
脂等。
適当なホトクロミツク染料の例として、スピロピラン、
スピロオキサジン、フエノジン、フエノチアジン、及び
金属ジチゾネート(DithizOnates)を本発
明に使用した場合について説明する。
スピロオキサジン、フエノジン、フエノチアジン、及び
金属ジチゾネート(DithizOnates)を本発
明に使用した場合について説明する。
この方法でシ用する金属ジチゾネートは従来公知である
。
。
これらの金属ジチゾネートは次の一般式を有する水銀ジ
チゾネートで示される:ここでRはアリール基、R1は
ハロゲン、アリール基、アルキル基又はこれらの結合で
ある。
チゾネートで示される:ここでRはアリール基、R1は
ハロゲン、アリール基、アルキル基又はこれらの結合で
ある。
この化合物は、例えばWOblingandSteig
erの論文、Z.angew.Chem46,279(
1933)に記載されている方法で作られる。特に有用
な水銀ジチゾネートはビス(ジフエニルチオカルバゾネ
ート)水銀、ジフエニルチオカルバゾノ第二水銀の塩化
物、フツ化物、ヨウ化物又は臭化物、ジナフチルチオカ
ルバゾノ第二水銀の塩化物、フツ化物、ヨウ化物、又は
臭化物、ジトリルチオカルバゾノ第二水銀の塩化物、又
はフツ化物、ビス(ジナフチルチオカルバゾネート)水
銀、ビス(ジトリルチオカルバゾネート)水銀、ジフエ
ニルチオカルバゾネートエチル第二水銀、及びジフエニ
ルチオカルバゾネートフエニル水銀である。スピロピラ
ンホトクロミツク物質は本発明に有用である。
erの論文、Z.angew.Chem46,279(
1933)に記載されている方法で作られる。特に有用
な水銀ジチゾネートはビス(ジフエニルチオカルバゾネ
ート)水銀、ジフエニルチオカルバゾノ第二水銀の塩化
物、フツ化物、ヨウ化物又は臭化物、ジナフチルチオカ
ルバゾノ第二水銀の塩化物、フツ化物、ヨウ化物、又は
臭化物、ジトリルチオカルバゾノ第二水銀の塩化物、又
はフツ化物、ビス(ジナフチルチオカルバゾネート)水
銀、ビス(ジトリルチオカルバゾネート)水銀、ジフエ
ニルチオカルバゾネートエチル第二水銀、及びジフエニ
ルチオカルバゾネートフエニル水銀である。スピロピラ
ンホトクロミツク物質は本発明に有用である。
本発明に有用なベンゾスピロピランホトクロミツク染料
は従来公知で次の一般式を有する:上式中の置換基は下
記に示される。
は従来公知で次の一般式を有する:上式中の置換基は下
記に示される。
これらの化合物はその製法と同様に当業者には公知であ
る。
る。
例えば、米国特許第2953454号及び第30223
18号の明細書には種々の化合物とその製法が示されて
いる。有用なベンゾスピロピランは次の通りである:6
−ニトロ−8−メトキシー丁,3’,3’一トリメチル
スピロ〔2H−1−ベンゾピラン一2,一2’−インド
リン〕6−ニトロ−8−メトキシ−5’−クロロー丁,
3’,3’一トリメチルスピロ 〔2H−1−ベンゾピ
ラン一2,2’−インドリン〕6−ニトロ−8−メトキ
シ− 5−ブロモ−,3’,3’一トリメチルスピロ〔
2H−1−ベンゾピラン一2,2’−インドリン6−ニ
トロ−8−メトキシ−5−ブロモ−5’ークロロー丁,
3’,3−トリメチノレスピロ 〔2H=l−ベンゾピ
ラン一2−2’−インドリン〕6,5’−ジニトロ−8
−メトキシー丁,3’,.3’一トリメチルスピロ〔2
H−l−ベンゾピラン一2,2’−インドリン〕6−ニ
トロ, 8−エトキシー丁,3’,3’一トリメチルス
ピロ 〔2H−l−ベンゾピラン一2,2’−インドリ
ン〕本発明に有用な他のスピロピランは次の種類の化合
物の誘導体である:スピロ 〔2H−1−ベンゾピラン
一2,2’〔l川−ベンゾ〔g〕インドリン〕 スピロ〔2H−ベンゾピラン一2,2’−〔IH〕−ベ
ンゾ〔e〕インドリン〕スピロ 〔インドリン− 2,
3’−〔3H〕−ナフト 〔2,1−b〕 ピラン〕ス
ピロ〔2H−l−ベンゾピラン一2,2’−ベンゾチア
ゾリン〕スピロ〔ベンゾチアゾリン一 2,3’−〔3
H〕−ナフト 〔2,1−b〕 ピラン〕2,2’−ス
ピロビ〔2H−l−ベンゾピラン〕3,3’−スピロビ
〔3H−ナフト 〔2,1一b〕 ピラン〕2,2’−
スピロビ〔2H−ナフト 〔1,2一b〕 ピラン〕ス
ピロ 〔2H−1−ベンゾピラン一 2,3’−〔3H
〕−ナフト 〔2,1−b〕 ピラン〕スピロ 〔2H
−1−ベンゾピラン一 2,2’一〔2H〕−ナフト
〔1,2−b〕 ピラン〕スピロ 〔4H−1−ベンゾ
ピラン一 4,3’−〔3H〕−ナフト 〔2,1−b
〕 ピラン〕スピロ〔2H−ナフト 〔1,2−b〕
ピランー2,3’一〔3H〕−ナフト 〔2,1−b〕
ピラン〕スピロ〔インドリン−2,2’−ピラノ 〔
3,2−H〕 キノリン〕スピロ 〔2H−l−ベンゾ
ピラン一 2,2’一〔2H〕 キノリン〕他のホトク
ロミツク染料は次の通りである:トリアリールメタン染
料、カチオンポリメタン染料、インデノンオキシド、ニ
トロン、ビス−イミダゾール、へキサアリールエタン、
b−テトラクロロケトジヒドロナフタレン、ヒドラジン
、ニトロソ−ダイマー、二硫化アリール、スチルベン、
インジゴイド、アゾ化合物、ポリエン、シアニン染料、
不飽和アジン、P−フエニルケトン、ニトロピリジン、
ニトロフエニルメタン、P−ニトロベンジル化合物、ジ
ヒドロキサンテノン、ビアントロン、トランス−15,
16−ジアルキルジヒドロピレン、2H−ピラン、2H
−チオピラン、及びシス一l−アリール−2−ニトロア
レン。
18号の明細書には種々の化合物とその製法が示されて
いる。有用なベンゾスピロピランは次の通りである:6
−ニトロ−8−メトキシー丁,3’,3’一トリメチル
スピロ〔2H−1−ベンゾピラン一2,一2’−インド
リン〕6−ニトロ−8−メトキシ−5’−クロロー丁,
3’,3’一トリメチルスピロ 〔2H−1−ベンゾピ
ラン一2,2’−インドリン〕6−ニトロ−8−メトキ
シ− 5−ブロモ−,3’,3’一トリメチルスピロ〔
2H−1−ベンゾピラン一2,2’−インドリン6−ニ
トロ−8−メトキシ−5−ブロモ−5’ークロロー丁,
3’,3−トリメチノレスピロ 〔2H=l−ベンゾピ
ラン一2−2’−インドリン〕6,5’−ジニトロ−8
−メトキシー丁,3’,.3’一トリメチルスピロ〔2
H−l−ベンゾピラン一2,2’−インドリン〕6−ニ
トロ, 8−エトキシー丁,3’,3’一トリメチルス
ピロ 〔2H−l−ベンゾピラン一2,2’−インドリ
ン〕本発明に有用な他のスピロピランは次の種類の化合
物の誘導体である:スピロ 〔2H−1−ベンゾピラン
一2,2’〔l川−ベンゾ〔g〕インドリン〕 スピロ〔2H−ベンゾピラン一2,2’−〔IH〕−ベ
ンゾ〔e〕インドリン〕スピロ 〔インドリン− 2,
3’−〔3H〕−ナフト 〔2,1−b〕 ピラン〕ス
ピロ〔2H−l−ベンゾピラン一2,2’−ベンゾチア
ゾリン〕スピロ〔ベンゾチアゾリン一 2,3’−〔3
H〕−ナフト 〔2,1−b〕 ピラン〕2,2’−ス
ピロビ〔2H−l−ベンゾピラン〕3,3’−スピロビ
〔3H−ナフト 〔2,1一b〕 ピラン〕2,2’−
スピロビ〔2H−ナフト 〔1,2一b〕 ピラン〕ス
ピロ 〔2H−1−ベンゾピラン一 2,3’−〔3H
〕−ナフト 〔2,1−b〕 ピラン〕スピロ 〔2H
−1−ベンゾピラン一 2,2’一〔2H〕−ナフト
〔1,2−b〕 ピラン〕スピロ 〔4H−1−ベンゾ
ピラン一 4,3’−〔3H〕−ナフト 〔2,1−b
〕 ピラン〕スピロ〔2H−ナフト 〔1,2−b〕
ピランー2,3’一〔3H〕−ナフト 〔2,1−b〕
ピラン〕スピロ〔インドリン−2,2’−ピラノ 〔
3,2−H〕 キノリン〕スピロ 〔2H−l−ベンゾ
ピラン一 2,2’一〔2H〕 キノリン〕他のホトク
ロミツク染料は次の通りである:トリアリールメタン染
料、カチオンポリメタン染料、インデノンオキシド、ニ
トロン、ビス−イミダゾール、へキサアリールエタン、
b−テトラクロロケトジヒドロナフタレン、ヒドラジン
、ニトロソ−ダイマー、二硫化アリール、スチルベン、
インジゴイド、アゾ化合物、ポリエン、シアニン染料、
不飽和アジン、P−フエニルケトン、ニトロピリジン、
ニトロフエニルメタン、P−ニトロベンジル化合物、ジ
ヒドロキサンテノン、ビアントロン、トランス−15,
16−ジアルキルジヒドロピレン、2H−ピラン、2H
−チオピラン、及びシス一l−アリール−2−ニトロア
レン。
又スピロオキサジンは本発明のホトクロミツク染料とし
て有用である。このホトクロミツク染料の一般式は次の
通りである:ここでR,Rl及びR2はアリール基、又
は炭素原子1−20個を有する同一又は異なるアルキル
基を示し、R1及びR2は協力して飽和炭素環を形成し
、R3は水素又は炭素原子1−20個を有するアルキル
基で、X,Xl,X2,X3,Y,Yl,Y2及びY3
は水素、アリール基、シアノ基又はカルボキシシアノ基
、炭素原子1−4個を有するアルコキシ基、炭素原子1
−20個を有するアルキル基又はカルボキシアルキル基
、ニトロ基又はハロゲン基である。
て有用である。このホトクロミツク染料の一般式は次の
通りである:ここでR,Rl及びR2はアリール基、又
は炭素原子1−20個を有する同一又は異なるアルキル
基を示し、R1及びR2は協力して飽和炭素環を形成し
、R3は水素又は炭素原子1−20個を有するアルキル
基で、X,Xl,X2,X3,Y,Yl,Y2及びY3
は水素、アリール基、シアノ基又はカルボキシシアノ基
、炭素原子1−4個を有するアルコキシ基、炭素原子1
−20個を有するアルキル基又はカルボキシアルキル基
、ニトロ基又はハロゲン基である。
これらの化合物の製法は例えば米国特許第,35621
72号及び第3578602号の明細書に記載されてい
る。
72号及び第3578602号の明細書に記載されてい
る。
有用なスピロオキサジンは次の通りである:1,3,3
−トリメチルスピロ〔インドリノ2,3″−ナフト 〔
2,1−b〕 (1,4)−オキ,サジン〕1,3,3
,5−テトラメチルスピロ〔インドリノ一2,3″−ナ
フト 〔2,1−b〕 (1,4)−オキサジン〕5−
メトキシ−1,3,3−トリメチルスピロ〔インドリノ
一2,3″−ナフト 〔2,1〕 (1,4)−オキサ
ジン〕1−β一カノレボキシエチル一3,3−ジメチル
スピロ〔インドリノ一2,3″−ナフト 〔2,1b′
) (1,4)オキサジン〕1−β一カノレボキシエチ
ノレ一3,3,5−トリメチルスピロ〔インドリノ一2
,3″−ナフト〔2,1−b〕 (1,4)オキサジン
〕1−カノレボキシエチル3,3−ジメチノレ一5メト
キシスピロ〔インドリノ一2,3″−ナフト〔2,1−
b〕 (1,4)オキサジン〕1−α−シアノプロピル
−3,3−ジメチル−5−クロロースピロ〔インドリノ
一2,3″−ナフト 〔2,1−b〕 (1,4)オキ
サジン〕上記のホトクロミツク物質のほかに、本発明の
方法は例えば下記の操作手順によつて保護用無機物質で
被覆される他のホトクロミツク物質に適用できる。
−トリメチルスピロ〔インドリノ2,3″−ナフト 〔
2,1−b〕 (1,4)−オキ,サジン〕1,3,3
,5−テトラメチルスピロ〔インドリノ一2,3″−ナ
フト 〔2,1−b〕 (1,4)−オキサジン〕5−
メトキシ−1,3,3−トリメチルスピロ〔インドリノ
一2,3″−ナフト 〔2,1〕 (1,4)−オキサ
ジン〕1−β一カノレボキシエチル一3,3−ジメチル
スピロ〔インドリノ一2,3″−ナフト 〔2,1b′
) (1,4)オキサジン〕1−β一カノレボキシエチ
ノレ一3,3,5−トリメチルスピロ〔インドリノ一2
,3″−ナフト〔2,1−b〕 (1,4)オキサジン
〕1−カノレボキシエチル3,3−ジメチノレ一5メト
キシスピロ〔インドリノ一2,3″−ナフト〔2,1−
b〕 (1,4)オキサジン〕1−α−シアノプロピル
−3,3−ジメチル−5−クロロースピロ〔インドリノ
一2,3″−ナフト 〔2,1−b〕 (1,4)オキ
サジン〕上記のホトクロミツク物質のほかに、本発明の
方法は例えば下記の操作手順によつて保護用無機物質で
被覆される他のホトクロミツク物質に適用できる。
例えば、フエナジン染料とフエノチアジン染料が感光性
を示すことは公知で、下記の方法で適当に被覆できる。
このフエナジンホトクロミツク染料の一般式は次の通り
である:ここでxは負イオン、例えばハロゲン化物を示
し;Rl,R2,R3,R4,R5,R6,R7,R8
及びR9はハロゲン、短鎖アルキル基、アミノ基、アル
キルアミノ基、アゾ基、置換アゾ基、通常アリール置換
基等でよい。
を示すことは公知で、下記の方法で適当に被覆できる。
このフエナジンホトクロミツク染料の一般式は次の通り
である:ここでxは負イオン、例えばハロゲン化物を示
し;Rl,R2,R3,R4,R5,R6,R7,R8
及びR9はハロゲン、短鎖アルキル基、アミノ基、アル
キルアミノ基、アゾ基、置換アゾ基、通常アリール置換
基等でよい。
フエナジニウム(Phenaziniunl)イオンに
対する置換基は1,2又はそれ以上でよく、異なる色を
与える。
対する置換基は1,2又はそれ以上でよく、異なる色を
与える。
R5置換基は通常アリール基であるが水素等でもよい。
R5がフエニル基の場合には、この種類の染料はフエニ
ルフエナジニウム塩、即ちサフラニン染料として公知で
ある。これらのフエナジンホトクロミツク染料の製法と
このホトタロミツク物質の光学的及び眼鏡使用法は米国
特許第3660299号明細書に記載されている。
R5がフエニル基の場合には、この種類の染料はフエニ
ルフエナジニウム塩、即ちサフラニン染料として公知で
ある。これらのフエナジンホトクロミツク染料の製法と
このホトタロミツク物質の光学的及び眼鏡使用法は米国
特許第3660299号明細書に記載されている。
有用なフエナジンは次の通りである:3−アミノーJメ
[ジメチルアミノ一5−フエニルフエナジニウム塩化物
2−メチル−3−アミノーJメ[ジメチルアミノ5−フエ
ニルフエナジニウム塩化物3,7−ジアミノ−5−フエ
ニルフエナジニウム塩化物3−アミノ−2,8−ジメチ
ルーJヨ黶i2−オキシ−1−ナフチルアゾ)−5−フエ
ニルフエナジニウム塩化物3−アミノーJヨ黶iP−ジメ
チルアミノフエニルアゾ)−5−フエニルフエナジニウ
ム塩化物3−ジエチルアミノーJヨ黶iP−ジメチルアミ
ノブエニルアゾ)−5−フエニルフエナジニウム塩化物
3−ジエチルアミノ− 7 −( P −オキシフエニ
ルアゾ)−5−フエニルフエナジニウム塩化物3,9−
ジメチルアミノ−6−メチル−5一(2−ナフチル)−
フエナジニウム塩化物3,7−ピス (ジメチルアミノ
)−5−フエニルフエナジニウム塩化物2,8−ジメチ
ル−3−アミノーJメ[メチルアミノ一5−フエニルフエ
ナジニウム塩化物3−アミノーJメ[ジメチルアミノフエ
ナジニウム塩化物1,3−ジアミノ−5−フエニルフエ
ナジニウム塩化物フエノチアジン染料の一般式は次の通
りである:(置換基は上記と同じ。
[ジメチルアミノ一5−フエニルフエナジニウム塩化物
2−メチル−3−アミノーJメ[ジメチルアミノ5−フエ
ニルフエナジニウム塩化物3,7−ジアミノ−5−フエ
ニルフエナジニウム塩化物3−アミノ−2,8−ジメチ
ルーJヨ黶i2−オキシ−1−ナフチルアゾ)−5−フエ
ニルフエナジニウム塩化物3−アミノーJヨ黶iP−ジメ
チルアミノフエニルアゾ)−5−フエニルフエナジニウ
ム塩化物3−ジエチルアミノーJヨ黶iP−ジメチルアミ
ノブエニルアゾ)−5−フエニルフエナジニウム塩化物
3−ジエチルアミノ− 7 −( P −オキシフエニ
ルアゾ)−5−フエニルフエナジニウム塩化物3,9−
ジメチルアミノ−6−メチル−5一(2−ナフチル)−
フエナジニウム塩化物3,7−ピス (ジメチルアミノ
)−5−フエニルフエナジニウム塩化物2,8−ジメチ
ル−3−アミノーJメ[メチルアミノ一5−フエニルフエ
ナジニウム塩化物3−アミノーJメ[ジメチルアミノフエ
ナジニウム塩化物1,3−ジアミノ−5−フエニルフエ
ナジニウム塩化物フエノチアジン染料の一般式は次の通
りである:(置換基は上記と同じ。
)色指数番号が指定されているフエノチアジン染料.の
例は次の通りである:AzureA(52005),A
zureB(52010),AzureC(3−アミノ
ーJメ[メチルアミノーフエノチアジン)、トルイジンブ
ル一O(52040)、メチレンブルー(52015)
及びチオニン.(52000)。
例は次の通りである:AzureA(52005),A
zureB(52010),AzureC(3−アミノ
ーJメ[メチルアミノーフエノチアジン)、トルイジンブ
ル一O(52040)、メチレンブルー(52015)
及びチオニン.(52000)。
本発明のホトクロミツク物質を無機保護物質、例えば二
酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム(Al2
O3)、酸化アンチモン及び酸化亜鉛で包被する方法は
次の通りである:ホトクロミツク染料と樹脂物質とを共
通溶媒に溶解し、次に溶媒の一部を蒸発して所望の染料
−樹脂結合物質を作り、次に公知の方法、例えば摩擦ミ
ル、コロイドミル、流体エネルギー利用粉砕機等で粉砕
する。
酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム(Al2
O3)、酸化アンチモン及び酸化亜鉛で包被する方法は
次の通りである:ホトクロミツク染料と樹脂物質とを共
通溶媒に溶解し、次に溶媒の一部を蒸発して所望の染料
−樹脂結合物質を作り、次に公知の方法、例えば摩擦ミ
ル、コロイドミル、流体エネルギー利用粉砕機等で粉砕
する。
(l)チタン塩、例えば塩化チタン、又は他の無機物質
を、前記のように得られたホトクロミツク物質粒子の表
面に沈殿させる。
を、前記のように得られたホトクロミツク物質粒子の表
面に沈殿させる。
約30λ−lμの範囲の粒子が得られる。沈殿は、ホト
クロミツク物質粒子が分散しかつチタン塩を溶解した水
性媒体中で行なわれる。次にチタン塩又は他の被覆物質
を、溶媒の蒸発、又は温度変化による溶解度の減少、更
に又化学的方法、例えばチタン塩を沈殿する塩基又は他
の陰イオンの添加によつてホトクロミツク物質粒子上に
沈殿させる。被覆粒子を分離し、次に所要に応じ加熱し
てチタン塩を酸化物にする。二酸化チタンのような物質
の顔料粒子表面上の沈殿はペイント及び他の被覆剤に使
用する顔料の調合技術で周知である。例えば、チタン−
カルシウム顔料は、30%ないし50%の二酸化チタン
含量を有する顔料を作るために二酸化チタンを硫酸カル
シウム粒子の表面に沈殿させることによつて作る。この
ように二酸化チタンの表面被覆によつて保護される場合
には、チタン−カルシウム顔料は水性ペイントに硫酸カ
ルシウムを使用することができ、もしこの被覆がなけれ
ば水に対する硫酸カルシウムの部分的溶解度のために、
カルシウムイオンが水性ペイント中に存在する物質、例
えばカゼインのような蚤白質物質と反応するので硫酸カ
ルシウムが使用できないであろう。従つて同様に、樹脂
物質に溶解したホトクロミツク染料を、例えば二酸化チ
タンの被覆で保護し、これをプラスチツク物質内に分散
して眼鏡又は光学装置に利用する場合には酸素、水蒸気
又はホトクロミツク物質に有害な化学薬品の悪影響を防
止することができる。フ)ホトクロミツク物質粒子に無
機物質を被覆する第2の方法では、樹脂に固溶したホト
クロミツク染料を最初に顔料工業に公知の方法、例えば
摩擦ミル、コロイドミル、流体エネルギー利用粉砕機等
によつて粒度約30入ないし1μに粉砕する。
クロミツク物質粒子が分散しかつチタン塩を溶解した水
性媒体中で行なわれる。次にチタン塩又は他の被覆物質
を、溶媒の蒸発、又は温度変化による溶解度の減少、更
に又化学的方法、例えばチタン塩を沈殿する塩基又は他
の陰イオンの添加によつてホトクロミツク物質粒子上に
沈殿させる。被覆粒子を分離し、次に所要に応じ加熱し
てチタン塩を酸化物にする。二酸化チタンのような物質
の顔料粒子表面上の沈殿はペイント及び他の被覆剤に使
用する顔料の調合技術で周知である。例えば、チタン−
カルシウム顔料は、30%ないし50%の二酸化チタン
含量を有する顔料を作るために二酸化チタンを硫酸カル
シウム粒子の表面に沈殿させることによつて作る。この
ように二酸化チタンの表面被覆によつて保護される場合
には、チタン−カルシウム顔料は水性ペイントに硫酸カ
ルシウムを使用することができ、もしこの被覆がなけれ
ば水に対する硫酸カルシウムの部分的溶解度のために、
カルシウムイオンが水性ペイント中に存在する物質、例
えばカゼインのような蚤白質物質と反応するので硫酸カ
ルシウムが使用できないであろう。従つて同様に、樹脂
物質に溶解したホトクロミツク染料を、例えば二酸化チ
タンの被覆で保護し、これをプラスチツク物質内に分散
して眼鏡又は光学装置に利用する場合には酸素、水蒸気
又はホトクロミツク物質に有害な化学薬品の悪影響を防
止することができる。フ)ホトクロミツク物質粒子に無
機物質を被覆する第2の方法では、樹脂に固溶したホト
クロミツク染料を最初に顔料工業に公知の方法、例えば
摩擦ミル、コロイドミル、流体エネルギー利用粉砕機等
によつて粒度約30入ないし1μに粉砕する。
次にこの粒子を無機物質の溶液、例えばTiOSO,と
して熱濃硫酸に溶解する二酸化チタン溶液に添加する。
次いで無機物質を、例えばこの溶液の…調節及び加水分
解によつてTiOSO。
して熱濃硫酸に溶解する二酸化チタン溶液に添加する。
次いで無機物質を、例えばこの溶液の…調節及び加水分
解によつてTiOSO。
からTiO。を生成して沈殿させる。この被覆法は加水
分解の際のホトクロミツク物質粒子の分解を避けるため
できるだけ迅速に行うべきである。樹脂物質に溶解した
ホトクロミツク染料は、加水分解したオルトケイ酸テト
ラエチル水溶液中に懸濁することによつて保護無機質層
が得られる。
分解の際のホトクロミツク物質粒子の分解を避けるため
できるだけ迅速に行うべきである。樹脂物質に溶解した
ホトクロミツク染料は、加水分解したオルトケイ酸テト
ラエチル水溶液中に懸濁することによつて保護無機質層
が得られる。
水を蒸発後、残留粒子を加熱すると、二酸化ケイ素の透
明層で被覆された粒子が得られる。(3)包被ホトクロ
ミツク物質粒子を得る第3の方法では、気相被覆法、例
えば化学的蒸気析出法jが有用である。
明層で被覆された粒子が得られる。(3)包被ホトクロ
ミツク物質粒子を得る第3の方法では、気相被覆法、例
えば化学的蒸気析出法jが有用である。
金属化合物は反応性ガス雰囲気中では陰極蒸着できる。
例えば酸化物フイルムは酸素雰囲気中の金属の陰極蒸着
、硫化物フイルムは硫化水素ガス中の陰極蒸着、窒化物
フイルムは窒素ガス中の蒸着によつて作ることがでlき
る。反応性ガス分子は上記工程の放電で活性化されるの
で、金属と化学反応して金属化合物のフイルムを形成す
る。無機物質保護被覆に関連して使用される用語ゝ金属
7はメタロイド、例えばケイ素、ゲルマニウム、ホウ素
及びリンlを包含し、これらは真の意味では非金属であ
るが、多くの点で金属のように作用しかつ反応するので
ホトクロミツク物質の保護被覆に有用である。上記の方
法によつて、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミ
ニウム、酸化アンチモ2ン及び酸化亜鉛のフイルムをホ
トクロミツク物質粒子表面に作ることができる。又、被
覆化合物は真空蒸着又は化学的蒸気析出法で付着できる
。被覆工程間、ホトクロミツク物質粒子は機械2的攪拌
等が行われるから粒子表面にほぼ均一な被覆が得られる
。
例えば酸化物フイルムは酸素雰囲気中の金属の陰極蒸着
、硫化物フイルムは硫化水素ガス中の陰極蒸着、窒化物
フイルムは窒素ガス中の蒸着によつて作ることがでlき
る。反応性ガス分子は上記工程の放電で活性化されるの
で、金属と化学反応して金属化合物のフイルムを形成す
る。無機物質保護被覆に関連して使用される用語ゝ金属
7はメタロイド、例えばケイ素、ゲルマニウム、ホウ素
及びリンlを包含し、これらは真の意味では非金属であ
るが、多くの点で金属のように作用しかつ反応するので
ホトクロミツク物質の保護被覆に有用である。上記の方
法によつて、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミ
ニウム、酸化アンチモ2ン及び酸化亜鉛のフイルムをホ
トクロミツク物質粒子表面に作ることができる。又、被
覆化合物は真空蒸着又は化学的蒸気析出法で付着できる
。被覆工程間、ホトクロミツク物質粒子は機械2的攪拌
等が行われるから粒子表面にほぼ均一な被覆が得られる
。
無機物質で被覆されたホトクロミツク物質は、ホスト物
質として使用される物質によつて種々な方法でプラスチ
ツクホスト物質中に分散!される。
質として使用される物質によつて種々な方法でプラスチ
ツクホスト物質中に分散!される。
例えば商標℃R39″で市販されている炭酸アリルジグ
リコールを使用する場合には、この粒子は適当な触媒量
で単量体中に分散し、この混合物を、米国特許第327
8654号;第3469928号;第3211811号
;第2964501号及び第.3605195号の明細
書に記載されているような技術によつてレンズ成形型に
注入する。この粒子は重合前に他の単量体中に分散して
もよい。又上記の被覆ホトクロミツク物質は、ポリメタ
クリル酸メチル、アセチルブチリルセルロ一・ス、トリ
アセチノレセノレロース及び゛ポリカーボネート、例え
ば商標″Lexan″のポリ (4,4″−ジオキシジ
フエノーノレ一2,2−プロパン)力ーボネートのよう
な熱可塑性樹脂に混合する。この包被ホトクロミツク物
質粒子を、例えばポリカーボネート樹脂粉末と混合し、
次に射出成形によつて眼鏡レンズ又は他の光学装置を作
る。フイルムは、包被ホトクロミツク物質粒子と、適当
な溶媒の樹脂溶液、例えばトルエンに溶解したポリメタ
クリル酸メチル溶液との混合溶液の注型によつて作るこ
とができる。眼鏡又は他の光学装置の製造でプラスチツ
クホスト物質と組合わせて使用する本発明の包被ホトク
ロミツク物質の比率は約0.01ないし80重量%で、
勿論、選択された包被粒子のホトクロミツク性と所望の
光学密度によつて変わる。
リコールを使用する場合には、この粒子は適当な触媒量
で単量体中に分散し、この混合物を、米国特許第327
8654号;第3469928号;第3211811号
;第2964501号及び第.3605195号の明細
書に記載されているような技術によつてレンズ成形型に
注入する。この粒子は重合前に他の単量体中に分散して
もよい。又上記の被覆ホトクロミツク物質は、ポリメタ
クリル酸メチル、アセチルブチリルセルロ一・ス、トリ
アセチノレセノレロース及び゛ポリカーボネート、例え
ば商標″Lexan″のポリ (4,4″−ジオキシジ
フエノーノレ一2,2−プロパン)力ーボネートのよう
な熱可塑性樹脂に混合する。この包被ホトクロミツク物
質粒子を、例えばポリカーボネート樹脂粉末と混合し、
次に射出成形によつて眼鏡レンズ又は他の光学装置を作
る。フイルムは、包被ホトクロミツク物質粒子と、適当
な溶媒の樹脂溶液、例えばトルエンに溶解したポリメタ
クリル酸メチル溶液との混合溶液の注型によつて作るこ
とができる。眼鏡又は他の光学装置の製造でプラスチツ
クホスト物質と組合わせて使用する本発明の包被ホトク
ロミツク物質の比率は約0.01ないし80重量%で、
勿論、選択された包被粒子のホトクロミツク性と所望の
光学密度によつて変わる。
前述のレンズ注型法で作つたレンズ及び光学装置は常法
通り研摩及び精密研摩されるが、レンズ等の内部に分散
された包被粒子のホトクロミツク性には悪影響はない。
勿論、ホトクロミツク物質粒子の包被は100%の完全
性では行われないが、プラスチツクホスト物質に配合し
た場合には無包被ホトクロミツク物質より大幅にホトク
ロミツク性が改善される。
通り研摩及び精密研摩されるが、レンズ等の内部に分散
された包被粒子のホトクロミツク性には悪影響はない。
勿論、ホトクロミツク物質粒子の包被は100%の完全
性では行われないが、プラスチツクホスト物質に配合し
た場合には無包被ホトクロミツク物質より大幅にホトク
ロミツク性が改善される。
この重要な基準は全体としてホトクロミツク物質粒子が
被覆され、この被覆粒子をプラスチツクホスト物質中に
混合した場合に、酸素、湿気、触媒又はホトクロミツク
物質の機能を低下する化学的成分の影響に十分耐えられ
るようにすることである。無機保護物質で被覆された上
記の新規なホトクロミツク物質粒子は、プラスチツク窓
ガラス、天窓、自動車用風防ガラス、カメラフイルタ、
壁板、宝石類、玩具、広告用物品等は勿論、眼鏡及び他
の光学装置を作るのに使用できる。透明物品、例えばレ
ンズに利用される被覆ホトクロミツク物質粒子の粒度分
布は、半透明又は反射性の物品、例えば壁板等に使用さ
れる被覆粒子の粒度分布に比べて狭い。
被覆され、この被覆粒子をプラスチツクホスト物質中に
混合した場合に、酸素、湿気、触媒又はホトクロミツク
物質の機能を低下する化学的成分の影響に十分耐えられ
るようにすることである。無機保護物質で被覆された上
記の新規なホトクロミツク物質粒子は、プラスチツク窓
ガラス、天窓、自動車用風防ガラス、カメラフイルタ、
壁板、宝石類、玩具、広告用物品等は勿論、眼鏡及び他
の光学装置を作るのに使用できる。透明物品、例えばレ
ンズに利用される被覆ホトクロミツク物質粒子の粒度分
布は、半透明又は反射性の物品、例えば壁板等に使用さ
れる被覆粒子の粒度分布に比べて狭い。
次の例は本発明の実施例で限定を意味するものではない
。
。
特記しなければ、すべての部及びパーセントは重量によ
り、又すべての温度は摂氏温度である。列 1 適当な大きさのホトクロミツタ粒子を、10gの?セチ
ルブチリルセルロース、1gのフタル酸ジメチル、2g
の紫外線吸収剤、2,2″−ジオキシ4−メトキシベン
ゾフエノン及び0.15gのフ工ニル第二水銀ジチゾネ
ートを500m1の塩化メチレンに溶解して作る。
り、又すべての温度は摂氏温度である。列 1 適当な大きさのホトクロミツタ粒子を、10gの?セチ
ルブチリルセルロース、1gのフタル酸ジメチル、2g
の紫外線吸収剤、2,2″−ジオキシ4−メトキシベン
ゾフエノン及び0.15gのフ工ニル第二水銀ジチゾネ
ートを500m1の塩化メチレンに溶解して作る。
次にこの溶液を、加圧下で微細ノズルを通して清浄空気
を導入するためフイルタ付出入管を備えた捕集室に噴霧
して溶媒を蒸発する。約13gの極微プラスチツク粒子
を蒸発室から捕集し、30gの硫酸チタニルを含有する
500m1の水溶液中に懸濁する。
を導入するためフイルタ付出入管を備えた捕集室に噴霧
して溶媒を蒸発する。約13gの極微プラスチツク粒子
を蒸発室から捕集し、30gの硫酸チタニルを含有する
500m1の水溶液中に懸濁する。
次にこの水性懸濁液に100m1の20%水酸化ナトリ
ウム溶液を添加する。最初に生成する水酸化チタンがプ
ラスチツク粒子を被覆し、次に懸濁液の分離後下記の反
応によつて二酸化チタンになる:2Ti(0H)3→2
Ti02+2H20+H2上記のように作られた0.5
g量の粒子を、5gの過酸化イソプロピルを含有する9
5gのアリルジクリコールカーボネートプレポリマ一に
分散する。
ウム溶液を添加する。最初に生成する水酸化チタンがプ
ラスチツク粒子を被覆し、次に懸濁液の分離後下記の反
応によつて二酸化チタンになる:2Ti(0H)3→2
Ti02+2H20+H2上記のように作られた0.5
g量の粒子を、5gの過酸化イソプロピルを含有する9
5gのアリルジクリコールカーボネートプレポリマ一に
分散する。
次にこのプレポリマー混合物をガラスレンズ成形型に注
入する。常法通り重合と硬化を行つた後、プラスチツク
レンズを型から取り出す。このレンズは淡色のコハク色
で、強い太陽光線で灰黒色に変色する。このレンズを屋
内に入れると10一30分で元の不活性色に戻る。例2 10gの酢酸セルロースと200mgのホトクロミツク
染料、スピロ 〔インドリン− 2,3’−〔3H〕
.−ナフト 〔2,1−b〕−1,4−オキサジン〕を
100m1のクロロホルムに溶解する。
入する。常法通り重合と硬化を行つた後、プラスチツク
レンズを型から取り出す。このレンズは淡色のコハク色
で、強い太陽光線で灰黒色に変色する。このレンズを屋
内に入れると10一30分で元の不活性色に戻る。例2 10gの酢酸セルロースと200mgのホトクロミツク
染料、スピロ 〔インドリン− 2,3’−〔3H〕
.−ナフト 〔2,1−b〕−1,4−オキサジン〕を
100m1のクロロホルムに溶解する。
この溶媒を淡いトレーで完全に蒸発する。得られたプラ
スチツク物質を大きさ約1.3cmに破砕し、次にコロ
イドミル(例えばPremierMillCOrpOr
atiOn社.製)で適当な大きさのホトクロミツクプ
ラスチツク粒子を作る。上記の粒子を100m1の3%
オルトケイ酸テトラエチル水溶液に懸濁し、4gの濃硫
酸を添加する。
スチツク物質を大きさ約1.3cmに破砕し、次にコロ
イドミル(例えばPremierMillCOrpOr
atiOn社.製)で適当な大きさのホトクロミツクプ
ラスチツク粒子を作る。上記の粒子を100m1の3%
オルトケイ酸テトラエチル水溶液に懸濁し、4gの濃硫
酸を添加する。
良好なプラスチツク粒子の懸濁液は機械的攪.拌器で急
速に攪拌することで得られる。溶媒を穏かな加熱で徐々
に蒸発し、次に捕集粒子を加熱して二酸化ケイ素の薄い
透明層で被覆されたホトクロミツクプラスチツク粒子を
作る。この被覆粒子0.7gを0.5重量%の過酸化ベ
ンゾイルを含有する100gのメタクリル酸メチル単量
体に懸濁する。この懸濁粒子含有プレポリマー混合物を
長方形のガラス型に注入し、重合で扁平なホトクロミツ
ク板が得られる。この厚さは約0.3cmである。この
板は本質的に無色で、強い太陽光線に曝露すると淡色の
青色に変わる。太陽光線がないと、室温で約1分内に元
の無色状態に戻る。例3 3.0gのホトクロミツク染料、6−ニトロ−8−メト
キシー丁,3’,3’一トリメチノレスピロ 〔2H−
1−ペンソー2,2’−インドリン〕 をポリメタクリ
ル酸メチルの塩化メチレン20重量%溶液100gに溶
解する。
速に攪拌することで得られる。溶媒を穏かな加熱で徐々
に蒸発し、次に捕集粒子を加熱して二酸化ケイ素の薄い
透明層で被覆されたホトクロミツクプラスチツク粒子を
作る。この被覆粒子0.7gを0.5重量%の過酸化ベ
ンゾイルを含有する100gのメタクリル酸メチル単量
体に懸濁する。この懸濁粒子含有プレポリマー混合物を
長方形のガラス型に注入し、重合で扁平なホトクロミツ
ク板が得られる。この厚さは約0.3cmである。この
板は本質的に無色で、強い太陽光線に曝露すると淡色の
青色に変わる。太陽光線がないと、室温で約1分内に元
の無色状態に戻る。例3 3.0gのホトクロミツク染料、6−ニトロ−8−メト
キシー丁,3’,3’一トリメチノレスピロ 〔2H−
1−ペンソー2,2’−インドリン〕 をポリメタクリ
ル酸メチルの塩化メチレン20重量%溶液100gに溶
解する。
機械的攪拌器で溶液を激しく攪拌しながら、11のエチ
ルアルコールを迅速に添加する。この添加で微細なホト
クロミツクプラスチツク粒子が生成され、この粒子を直
ちに分離して、50℃の空気循環炉で乾燥する。溶媒、
即ちこの場合はメタクリル酸重合体に対しては非溶媒で
あるエチルアルコール溶媒を迅速に添加すると多数のプ
ラスチツク粒子が大規模な核発生によつて得られる。最
初の溶液中のホトクロミツク染料の高濃度のため、一部
の染料は溶液からの分離操作問にプラスチツク粒子によ
つてエンドラップされる。上記のプラスチツクホトクロ
ミツク粒子は酸素雰囲気中でアルミニウムを蒸着して透
明な保護被覆が得られる。
ルアルコールを迅速に添加する。この添加で微細なホト
クロミツクプラスチツク粒子が生成され、この粒子を直
ちに分離して、50℃の空気循環炉で乾燥する。溶媒、
即ちこの場合はメタクリル酸重合体に対しては非溶媒で
あるエチルアルコール溶媒を迅速に添加すると多数のプ
ラスチツク粒子が大規模な核発生によつて得られる。最
初の溶液中のホトクロミツク染料の高濃度のため、一部
の染料は溶液からの分離操作問にプラスチツク粒子によ
つてエンドラップされる。上記のプラスチツクホトクロ
ミツク粒子は酸素雰囲気中でアルミニウムを蒸着して透
明な保護被覆が得られる。
従つてこの微細プラスチツクホトクロミツク粒子はAl
。O。で被覆される。上記の被覆粒子0.7gを90.
0gのアセチルブチリルセルロースと100gのフタル
酸ジオクチルとに十分に混合する。上記の被覆粒子を使
用して、射出成形で得られるプラノレンズは厚さ2mm
と6種の曲線のものが作られる。このレンズは活性化前
は無色であるが、2−3分間強い太陽光線に曝露すると
暗青色に変わる。強い太陽光線がないと約30分で完全
に無色状態に戻る。例4 20gのフエノチアジン染料、メチレンブルーを21の
メチルアルコールに溶解する。
。O。で被覆される。上記の被覆粒子0.7gを90.
0gのアセチルブチリルセルロースと100gのフタル
酸ジオクチルとに十分に混合する。上記の被覆粒子を使
用して、射出成形で得られるプラノレンズは厚さ2mm
と6種の曲線のものが作られる。このレンズは活性化前
は無色であるが、2−3分間強い太陽光線に曝露すると
暗青色に変わる。強い太陽光線がないと約30分で完全
に無色状態に戻る。例4 20gのフエノチアジン染料、メチレンブルーを21の
メチルアルコールに溶解する。
この暗青色溶液に25gの無水塩化第一スズを添加し、
次いでこの溶液を20℃で攪拌し、この染料の最初の青
色が消失するまで攪拌を継続し(約30分)、この青色
消失は酸化形の染料が下記の反応で旧イコ形に還元され
たことを示す:この得られた濃褐色溶液を脱色炭で数回
処理する。
次いでこの溶液を20℃で攪拌し、この染料の最初の青
色が消失するまで攪拌を継続し(約30分)、この青色
消失は酸化形の染料が下記の反応で旧イコ形に還元され
たことを示す:この得られた濃褐色溶液を脱色炭で数回
処理する。
30gのポリ塩化ビニルと40gのグリセリンとをこの
精製溶液に添加し、これを約1時間攪拌してすべての樹
脂を溶解する。
精製溶液に添加し、これを約1時間攪拌してすべての樹
脂を溶解する。
次に溶液を大きくかつ浅いトレーに注入して溶媒を蒸発
する。この溶媒は空気循環炉内で3時間加熱することで
完全に除去される。得られた重合体を小片に破砕し次い
で摩擦ミルを通じて所望の大きさのホトクロミツクプラ
スチツク粒子を得る。
する。この溶媒は空気循環炉内で3時間加熱することで
完全に除去される。得られた重合体を小片に破砕し次い
で摩擦ミルを通じて所望の大きさのホトクロミツクプラ
スチツク粒子を得る。
次にこのホトクロミツク粒子は例1の方法によつてTi
O2の保護層で被覆する。
O2の保護層で被覆する。
上記の被覆ホトクロミツク粒子0.2gをポリメタクリ
ル酸メチルの20%トルエン溶液に懸濁し、0.075
mm厚のマイラ支持体上でフイルム成形する。
ル酸メチルの20%トルエン溶液に懸濁し、0.075
mm厚のマイラ支持体上でフイルム成形する。
溶媒の蒸発でホトクロミツタフイルムが得られ、これは
本質的に無色であるが、紫色線ランプ又は太陽光線に曝
露すると急速に暗青色に変わる。活性化エネルギーがな
いとこのフイルムは約.1時間、21℃で最初の無色状
態に戻る。本発明の安定化ホトクロミツク物質粒子は、
無機物質の保護被覆により長時間の保存が可能であるの
みならず、光学プラスチツクに配合して成功しなかつた
従来の多種類のホトクロミツク染料を使用して安・定し
たホトクロミツタ粒子を作ることができる。即ち本発明
の粒子は、ホトクロミツク性物品製造時に任意の透光性
プレポリマ一に混合し、公知のキヤステイング工程によ
つて所望のホトクロミツタ性物品を作ることができる。
さらにこの粒子は立度を約30人−1μに限定すること
により光の散ξL量を最小限にし高い透過度の物品が得
られる効装を奏する。本発明の実施の態様を列挙すれば
下記の通りでbる。
本質的に無色であるが、紫色線ランプ又は太陽光線に曝
露すると急速に暗青色に変わる。活性化エネルギーがな
いとこのフイルムは約.1時間、21℃で最初の無色状
態に戻る。本発明の安定化ホトクロミツク物質粒子は、
無機物質の保護被覆により長時間の保存が可能であるの
みならず、光学プラスチツクに配合して成功しなかつた
従来の多種類のホトクロミツク染料を使用して安・定し
たホトクロミツタ粒子を作ることができる。即ち本発明
の粒子は、ホトクロミツク性物品製造時に任意の透光性
プレポリマ一に混合し、公知のキヤステイング工程によ
つて所望のホトクロミツタ性物品を作ることができる。
さらにこの粒子は立度を約30人−1μに限定すること
により光の散ξL量を最小限にし高い透過度の物品が得
られる効装を奏する。本発明の実施の態様を列挙すれば
下記の通りでbる。
1)有機ホトクロミツタ染料と樹脂物質とからなり、約
30人−1μの粒度を有するホトクロミツク物質粒子で
、該粒子は、大気中の酸素、湿気、単量体、触媒及び合
成プラスチツクの生成に使用される他の有害な化学薬品
の影響に対して不浸透性の無気保護被覆を全表面に有す
る安定化ホトクロミツク物質粒子。
30人−1μの粒度を有するホトクロミツク物質粒子で
、該粒子は、大気中の酸素、湿気、単量体、触媒及び合
成プラスチツクの生成に使用される他の有害な化学薬品
の影響に対して不浸透性の無気保護被覆を全表面に有す
る安定化ホトクロミツク物質粒子。
).)第1項記載の粒子で、ホトクロミツク物質は無機
酸化物の保護被覆で被覆され、又樹脂物質はビニル型熱
可塑性樹脂、セルロースプラスチツク、ポリエステル樹
脂、エボキシ樹脂及びアミノプラスチツク樹脂からなる
群から選択されるホトクロミツク物質粒子。
酸化物の保護被覆で被覆され、又樹脂物質はビニル型熱
可塑性樹脂、セルロースプラスチツク、ポリエステル樹
脂、エボキシ樹脂及びアミノプラスチツク樹脂からなる
群から選択されるホトクロミツク物質粒子。
0第2項記載の粒子で、ホトクロミツク染料は樹脂物質
に溶解され、又ホトクロミツク物質粒子は、二酸化ケイ
素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化アンチモン
、酸化亜鉛、無機ガラス及びこれらの混合物からなる群
から選択される無機物質酸化物で被覆されたホトクロミ
ツク物質粒子。
に溶解され、又ホトクロミツク物質粒子は、二酸化ケイ
素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化アンチモン
、酸化亜鉛、無機ガラス及びこれらの混合物からなる群
から選択される無機物質酸化物で被覆されたホトクロミ
ツク物質粒子。
)第3項記載の粒子で、染料はスピロピラン、スピロオ
キサジン、金属ジチゾネート、フエノチアジン染料、フ
エナジン染料、トリアリールメタン染料、カチオンポリ
メタン染料、インデノンオキシド、ニトロン、ビス−イ
ミダゾール、ヘキサアリールエタン、b−テトラクロロ
ケトジヒドロナフタレン、ヒドラジン、ニトロソ−ダイ
マー、二硫化アリール、スチルベン、インジゴイド、ア
ゾ化合物、ポリエン、シアニン染料、不飽和アジン、P
−フエニルケトン、ニトロビリデン、ニトロフエニルメ
タン、pニトロベンジル化合物、ジヒドロキサンテノン
、ビアントロン、トランス−15,16−ジアルキル−
ジヒドロピレン、2H−ピラン、2H−チオピラン、及
びシス一1−アリール−2−ニトロ−アルケンからなる
群から選択されるホトクロミツク物質粒子。
キサジン、金属ジチゾネート、フエノチアジン染料、フ
エナジン染料、トリアリールメタン染料、カチオンポリ
メタン染料、インデノンオキシド、ニトロン、ビス−イ
ミダゾール、ヘキサアリールエタン、b−テトラクロロ
ケトジヒドロナフタレン、ヒドラジン、ニトロソ−ダイ
マー、二硫化アリール、スチルベン、インジゴイド、ア
ゾ化合物、ポリエン、シアニン染料、不飽和アジン、P
−フエニルケトン、ニトロビリデン、ニトロフエニルメ
タン、pニトロベンジル化合物、ジヒドロキサンテノン
、ビアントロン、トランス−15,16−ジアルキル−
ジヒドロピレン、2H−ピラン、2H−チオピラン、及
びシス一1−アリール−2−ニトロ−アルケンからなる
群から選択されるホトクロミツク物質粒子。
(5)第4項の安定化粒子を配合したプラスチツクホス
ト物質を含む眼鏡又は光学装置。
ト物質を含む眼鏡又は光学装置。
(6)第5項記載の物品で、安定化ホトクロミツク物質
粒子が該物品の約0.01−80重量%の割含で含まれ
、プラスチツタホスト物質はポリ (アリノレジクリコ
ーノレカーボネート)、ポリカーボネート、ポリメタク
リル酸メチル、アセチルブチリルセルロース、及びトリ
アセチルセルロースからなる群から選択され、又無機保
護被覆は二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化アルミニウ
ム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、無機ガラス及びこれら
の混合物からなる群から選択される物ロロo(7)特許
請求の範囲記載の方法で、ホトクロミツク物質粒子が:
(1)噴霧乾燥工程、 (2)前記溶液から前記粒子を沈殿させる工程、又は (3)前記溶媒を蒸発させ、前記染料と前記樹脂物質の
乾燥混合物を作り、この混合物を機械的に粉砕する工程
、によつて生成される方法。
粒子が該物品の約0.01−80重量%の割含で含まれ
、プラスチツタホスト物質はポリ (アリノレジクリコ
ーノレカーボネート)、ポリカーボネート、ポリメタク
リル酸メチル、アセチルブチリルセルロース、及びトリ
アセチルセルロースからなる群から選択され、又無機保
護被覆は二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化アルミニウ
ム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、無機ガラス及びこれら
の混合物からなる群から選択される物ロロo(7)特許
請求の範囲記載の方法で、ホトクロミツク物質粒子が:
(1)噴霧乾燥工程、 (2)前記溶液から前記粒子を沈殿させる工程、又は (3)前記溶媒を蒸発させ、前記染料と前記樹脂物質の
乾燥混合物を作り、この混合物を機械的に粉砕する工程
、によつて生成される方法。
(8)第7項記載の方法で、無機保護被覆が:(1)酸
素雰囲気中で金属又は他の陽イオンを陰極蒸着する工程
、又は(2)蒸気化学的蒸気析出工程、又は (3)非反応性蒸着工程、 によつてホトクロミツク物質粒子上に析出される方法。
素雰囲気中で金属又は他の陽イオンを陰極蒸着する工程
、又は(2)蒸気化学的蒸気析出工程、又は (3)非反応性蒸着工程、 によつてホトクロミツク物質粒子上に析出される方法。
(9)第7項記載の方法で、無機保護被覆が:(1)化
学的蒸気析出工程、又は (2)ホトクロミツク物質粒子上に溶解形無機被覆を沈
殿させ、次の処理でこの無機酸化物を生成する工程、に
よつてホトクロミツタ物質粒子上に析出される方法。
学的蒸気析出工程、又は (2)ホトクロミツク物質粒子上に溶解形無機被覆を沈
殿させ、次の処理でこの無機酸化物を生成する工程、に
よつてホトクロミツタ物質粒子上に析出される方法。
(10)第9項記載の方法で、ホトクロミツク染料がフ
エニル第二水銀ジチゾネートで、樹脂物質がアセチルブ
チリルセルロースで、更に無機保護被覆が二酸化ケイ素
である方法。
エニル第二水銀ジチゾネートで、樹脂物質がアセチルブ
チリルセルロースで、更に無機保護被覆が二酸化ケイ素
である方法。
Claims (1)
- 1 安定化ホトクロミック物質粒子の製法で:(1)共
通溶媒で有機ホトクロミック染料と樹脂物質との溶液を
作る工程、(2)前記溶媒を蒸発させ、上記有機ホトク
ロミック染料と樹脂物質との結合物質を作る工程、(3
)該結合物質を粉砕し、光の散乱量を最小限にして高い
透過度を得るため粒度約30Å−1μのホトクロミック
物質粒子を形成する工程、及び、(4)該ホトクロミッ
ク物質粒子の全表面に有効な厚さの無機保護被覆を設け
ることによつて、該ホトクロミック物質粒子を、酸素、
湿気に対して不浸透性にすると共に、合成プラスチック
の生成に使用される単量体、触媒、及び他の有害化学薬
品に対すて不浸透性にする工程、を含むことを特徴とす
る安定化ホトクロミック物質粒子の製法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/535,451 US4166043A (en) | 1974-12-23 | 1974-12-23 | Stabilized photochromic materials |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5187177A JPS5187177A (ja) | 1976-07-30 |
JPS5950374B2 true JPS5950374B2 (ja) | 1984-12-07 |
Family
ID=24134285
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP50150701A Expired JPS5950374B2 (ja) | 1974-12-23 | 1975-12-19 | アンテイカホトクロミツクブツシツリユウシノセイホウ |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4166043A (ja) |
JP (1) | JPS5950374B2 (ja) |
CA (1) | CA1094857A (ja) |
DE (1) | DE2553326C2 (ja) |
FR (1) | FR2295983A1 (ja) |
GB (1) | GB1505100A (ja) |
Cited By (2)
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JP2007154198A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-06-21 | Lg Chem Ltd | フォトクロミックナノ粒子の製法及び該製法により調製されるフォトクロミックナノ粒子 |
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