JPS59501642A - 塗布用組成物ならびにそれを写真要素の修復処理および/または保護処理に使用する方法 - Google Patents
塗布用組成物ならびにそれを写真要素の修復処理および/または保護処理に使用する方法Info
- Publication number
- JPS59501642A JPS59501642A JP58502881A JP50288183A JPS59501642A JP S59501642 A JPS59501642 A JP S59501642A JP 58502881 A JP58502881 A JP 58502881A JP 50288183 A JP50288183 A JP 50288183A JP S59501642 A JPS59501642 A JP S59501642A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- radiation
- photographic
- composition
- photographic element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- 230000008439 repair process Effects 0.000 title description 6
- 238000011282 treatment Methods 0.000 title description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 97
- -1 acrylic compound Chemical class 0.000 claims description 47
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 46
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 46
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 45
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 39
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 39
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 38
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 38
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 30
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 22
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 22
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 21
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 claims description 15
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical group O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 claims description 15
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 15
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 13
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 13
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 13
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims description 12
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000001723 curing Methods 0.000 claims description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims description 8
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims description 8
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims description 8
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims description 8
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims description 8
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 8
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 claims description 5
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000006748 scratching Methods 0.000 claims description 2
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 claims 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 11
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 11
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 11
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 11
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 10
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 6
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 5
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 4
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 241000894007 species Species 0.000 description 4
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 3
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 3
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 3
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 3
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 3
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 235000019645 odor Nutrition 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUENMJOAENOPRH-UHFFFAOYSA-K [O-]P([O-])([O-])=O.c1ccc(cc1)[S+](c1ccccc1)c1ccccc1.c1ccc(cc1)[S+](c1ccccc1)c1ccccc1.c1ccc(cc1)[S+](c1ccccc1)c1ccccc1 Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O.c1ccc(cc1)[S+](c1ccccc1)c1ccccc1.c1ccc(cc1)[S+](c1ccccc1)c1ccccc1.c1ccc(cc1)[S+](c1ccccc1)c1ccccc1 TUENMJOAENOPRH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 2
- 125000004970 halomethyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 230000000246 remedial effect Effects 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical class CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYTWCOHEMFJPFE-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis[2-(bromomethyl)phenyl]benzene Chemical compound BrCC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1CBr DYTWCOHEMFJPFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Butyleneglycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CCOC(=O)C(C)=C VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEFYJVFBMNOLBK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxy]ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCCOCC1CO1 SEFYJVFBMNOLBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UODZKAAILJVZGF-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropane-1,2,3-tricarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)CC(O)(CC(Cl)=O)C(Cl)=O UODZKAAILJVZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGSFVBRPCKXYDI-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCOC(=O)C(C)=C FGSFVBRPCKXYDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUJVPKZRXOTBGA-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCOC(=O)C=C BUJVPKZRXOTBGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGRBZHPJKWFAFZ-UHFFFAOYSA-N 3,4-bis(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(OC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C GGRBZHPJKWFAFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CCOC(=O)C=C FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101100006370 Arabidopsis thaliana CHX2 gene Proteins 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 206010008631 Cholera Diseases 0.000 description 1
- 244000085692 Cordia alliodora Species 0.000 description 1
- 235000004258 Cordia alliodora Nutrition 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- 241001082241 Lythrum hyssopifolia Species 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000061176 Nicotiana tabacum Species 0.000 description 1
- 235000002637 Nicotiana tabacum Nutrition 0.000 description 1
- 241000287462 Phalacrocorax carbo Species 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 102100038043 Roquin-1 Human genes 0.000 description 1
- 101710168637 Roquin-1 Proteins 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004902 Softening Agent Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 241001300059 Theba Species 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACIAHEMYLLBZOI-ZZXKWVIFSA-N Unsaturated alcohol Chemical compound CC\C(CO)=C/C ACIAHEMYLLBZOI-ZZXKWVIFSA-N 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSOXNXDUYPYGJO-UHFFFAOYSA-N [2-(chloromethyl)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZSOXNXDUYPYGJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPMVBRRUJBIJFC-UHFFFAOYSA-N [3,4-bis(bromomethyl)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=C(CBr)C(CBr)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CPMVBRRUJBIJFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAUCCOMRNBZGTG-UHFFFAOYSA-N [3,4-bis(dichloromethyl)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=C(C(Cl)Cl)C(C(Cl)Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CAUCCOMRNBZGTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 230000016571 aggressive behavior Effects 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 150000001495 arsenic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- LHQZPSHKKVHDTB-UHFFFAOYSA-N bis(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl) oxalate Chemical compound C1CC2OC2CC1COC(=O)C(=O)OCC1CC2OC2CC1 LHQZPSHKKVHDTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAGPJIIPJYBADN-ARJAWSKDSA-N bis[(3-methyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)methyl] (z)-but-2-enedioate Chemical compound C1C2OC2CC(C)C1COC(=O)\C=C/C(=O)OCC1CC2OC2CC1C MAGPJIIPJYBADN-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- USOTYNRYZSYLTN-UHFFFAOYSA-N bis[4-(chloromethyl)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(CCl)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(CCl)C=C1 USOTYNRYZSYLTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 1
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIXOAUAWLZKQKX-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;prop-1-ene Chemical compound CC=C.OC(O)=O SIXOAUAWLZKQKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- DMZWVCJEOLBQCZ-UHFFFAOYSA-N chloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[SiH2]C=C DMZWVCJEOLBQCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000000645 desinfectant Substances 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- RSJLWBUYLGJOBD-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 RSJLWBUYLGJOBD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000006735 epoxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 230000004313 glare Effects 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 1
- 229940093920 gynecological arsenic compound Drugs 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 238000012700 light induced cationic polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000005445 natural material Substances 0.000 description 1
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBQRJWBLUBDHAZ-UHFFFAOYSA-N phenacyl(triphenyl)phosphanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 CBQRJWBLUBDHAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 1
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-diol Chemical compound OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 238000007655 standard test method Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 210000002784 stomach Anatomy 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBUFXGVMAMMWSD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)propyl]silane Chemical compound C1C(CCC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DBUFXGVMAMMWSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C11/00—Auxiliary processes in photography
- G03C11/08—Varnishing, e.g. application of protective layers on finished photographic prints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
- C09D4/06—Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/139—Defect coating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/162—Protective or antiabrasion layer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31511—Of epoxy ether
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
塗布用組成物ならびにそれを写真要素の修復処理および/または保護処理に使用
する方法
技術分野
本発明は一般に塗布用組成物、特に写真要素の修復処理お上び/または保護処理
に用いられる組成物に関する。より詳細には本発明は外観や投影能を損う掻きき
す、磨耗きずなどの欠損を除くため、および/捷たけその後の引掻きゃ磨耗に対
して保護しうる保護用オーバーコート層を与えるために放射線硬化性(radi
ation−curable)組成物が施された写真要素、たとえばスチールフ
ィルム、映画フィルム、ペーパープリント、マイクロフィッシュなどに関する。
背景技術
保護用オーバーコート層を有する写真要素は周知であり、保護用オーバーコート
として使用するために多種多様な塗布用組成物がこれまでに提示されている。こ
の種のオーバーコートは多数の目的のため、たとえば指紋、磨耗および引掻きに
対して保護するため、水滴に対して保護するため、艶消面など特定の表面組織を
与えるため、粘着に対して保護するため、またまぶしさを少なくする反射防止層
として作用させるために有用である。目的を果たしたのち除去することを意図し
た一時的な層、および永久に写真要素に付着している層が先行技術に述べられて
いる。
写真要素上に保護用オーバーコートを形成させるために従来用いられている組成
物の多くはその有用性を大幅に制限している欠点をもつ。たとえば取扱いおよび
使用に際して一般に苛酷な条件下に置かれるマイクロフィッシュおよび映画フィ
ルムなどの写真要素に耐磨耗性および耐引掻き性を与える際に十分に満足すべき
組成物を配合することが特に困難であった。この種の要素のために保護用オーバ
ーコートは透明性および柔軟性ならびに耐磨耗性および耐引掻き註などの因子に
関して厳密な要件金満たさなければならず、また剥離の可能性を避けるために下
層材料にきわめて強固に付着しなければならない。
苛酷な使用条件下に置かれるマイクロフィッシュおよび映画フィルムなどの写真
要素に有用な保護用オーバーコートは米国特許第4.09’2,173号明細書
(1978年5月30日交付)に示されている。この明細書に記載されるように
、保護用オーバーコートは写真要素にアクリル化ウレタン、脂肪族エチレン性不
飽和カルボン酸、および多官能価アクリレートからなる放射線硬化性組成物を塗
布し、この被膜を照射して写真要素に付着させ、硬化させて透明かつ柔軟な、耐
引掻き注の架橋ポリマー層を形成させることによって写真要素上に形成される。
この保護用オーバーコート層は写真要素の画像保有面、または写真要素の支持体
面、筐たけ両面に施すことができる。さらに米国特許第4.171,979号明
細書(1979年10月23日交付)に記載されるように、米国特許第4.09
2,173号の組成物は。
写真要素の外観または投影能を損う引掻ききすや磨耗きずなどノ欠損をモつスチ
ールフィルム、映画フィルム、バーパー−j l)ントおよびマイクロフィンシ
ュなどの写真要素の処理における修復用組成物としても有用である。修復用組成
物として使用す3
る際には、放射線硬化性組成物を欠損部にのみ局所的に施して欠損を効果的に除
き、写真要素を実質的に欠損のない状態に修復することができる。あるいはこれ
を写真要素の全面に施して欠損を除き、かつその後の引掻き磨耗に対して保護し
うる保護用オーバーコート層全形成させることもできる。
米国特許第4,029,173号および第4,171,979号の放射線硬化[
生組成物に対する改良が、米国特許第4,333.998号明細書に記載されて
いる。その改良は、組成物にシロキシ含有ポリカルビノール、たとえばシロキサ
ン鎖にグラフトしたアルコール官能基全含有するポリジメチルシロキサンを添加
して、湿潤性、均展性2よび塗布性全改良すること、写真要素に対する付着性を
改良すること、ならびに硬度を改良し、耐引き掻き[−増大させ、磨擦係数を低
下させることに関する。
上記各特許の放射線硬化性塗布用組成物は写真要素に保護用オーバーコートおよ
び/または修復修理を施すことができるが、この種の組成物の改良はきわめて望
捷しいであろう。特に、処理された写真乳剤層に対し、捷た写真要素に一般に用
いられる支持体材料、たとえばアセチルセルロース系支持体材料およびホリエス
テル系支持体材料に対する優れた付着性を示す塗布用組成物を提供することは殊
に有利であろう。この方法では、種々の製品それぞれに使用するために適合させ
た別個の組成物を提供するといういっそう不利な方法と対比して、各種写真要素
を処理するために1種類の組成物を用いることができる。さらに、脂肪族エチレ
ン性不飽和カルボン酸の存在全必要としない塗布用組成物を提供することはきわ
めて有利であろう。これらの酸は不都合な臭気を生じ、保存寿命を低下させる原
因となり。
また写真要素のある種の成分に対し望ましくない化学的攻撃を生じる可能性があ
るからである。
発明の開示
本発明の課題は、放射線硬化性でちゃかつ上記の改良された特Plf示す塗布用
組成物全提供することである。この組成物は放射線硬化性であり、写真要素上に
保護被膜ないしは修復被膜を形成するために特に有用である。この課題は、(1
)重合性エポキシ化合物、
(2)エポキシ化合物の重合を開始するための陽イオン開始剤、(3)重合性ア
クリル系化合物、
(4) アクリル系化合物の重合を開始するためのハロアルキル化芳香族ケトン
からなる遊離基開始剤、および(5)重合性有機官能性シラン
の組合せからなる塗布用組成物によって解戻される。
エポキシ化合物は写真乳剤層、たとえば慣用されるゼラチン/写真用ハロゲン化
銀乳剤から形成される層の表面に対する優れた付着性を与えるという点で、上記
の配合物中において特に有利である。アクリル系化合物は写真用支持体材料、た
とえば写真工秦において一般に用いられるアセチルセルロース系およびホリエス
テル系の支持体の表面に対する優れた付着性を与えるという点で、上記の配合物
中において特に有利である。重合性有機官能性シランは、写真乳剤層および支持
体材料の双方に対する付着を促進するという重要な機能を果たす。上記の塗布用
配合物は重合が陽イオン開始剤によって開始される成分および重合が遊離基開始
剤によって開始される成分の双方を含み、従って2種の明瞭に異なる重合機構を
採用するので、以下これをn混成(hybrid)” 系と呼ぶ。この種の系に
は一般にそれらの成分の不相容性の問題、たとえば不完全な硬化−または短かい
保存寿命に導く早期重合捷たは成分間の望ましくない物理的もしくに化学的相互
作用の問題があるが、本発明によればノ・ロアルキル化芳香族ケトン系の遊離基
開始剤によって不相容性の問題が効果的に避けられることは予想外であった。本
発明の混成配合物はほとんど捷たは全く臭気を示さす;優れた保存寿命をもち;
処理済の写真乳剤層、セルロース系支持体および、d IJエステル系支持体(
たとえばポリエチレンテレフタレートから構成されるもの)にきわめて良好に付
着し;ゼラチンその他の慣用される写真要素を化学的に攻撃せず:透明度、柔軟
性および耐引掻き性に関して優れた特性をもつ被膜を与える。
本発明の詳細を添付の図面に関して述べる。第1図は、本発明に従って乳剤面に
保護用オーバーコート’に有する写真フィルムおよびこの種のオーバーコートヲ
有しない同じフィルムの双方に関して、曇p(%)をテーパー磨耗サイクル数の
関数としてプロットしたグラフである。
第2図および第3図は、それぞれトリアセチルセルロース製オーヒホリエチレン
テレフタレート製支持体を有する写真フィルムD支持体面に塗布された同一オー
バーコートに関する、第1図と同様なグラフである。
第4図(は写真フィルムの乳剤面上の異なる組成のオーバーコートに関する、第
1図と同様なグラフである。
第5図および第6図は、それぞれトリアセチルセルロース製およびポリエチレン
テレフタレート製支持体を有する写真フィルムの支持体面上の同一オーバーコー
ト組成物に関する。第4図と同様なグラフである。
各図面において○印はオーバーコートされたもの、X印は塗布されていないもの
であろう
ここに記載する放射硬化性組成物は多種多様な写真要素において保護用オーバー
コートヲ与えるため、および/または掻ききす、磨耗きずなどの欠損を処理する
ために用いることができる。たとえば写真要素はスチールフィルム、映画フィル
ム、は−パープリント、またはマイクロフィッシュであってもよい。
これらは坏ガーポジ法においてネガから作成された黒白要素、カラー要素、るる
いは反転法により直接に作成されたカラー要素であってもよい。きわめて驚くべ
きことに、放射線硬化によってこれら種々の型の写真要素のすべてに対し、′そ
の要素自体に不都合な作用を及ぼすことなく強固な付着が得られる。写真要素は
広範な支持体のいずれから成っていてもよい。代表的な支持体KJ、ニトロセル
ロースフィルム、アセチルセルロースフィルム、ポリ(ビニルアセタール)フィ
ルム、ポリスチレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカー
ボ坏−トフィルム、ガラス、金属、紙およびポリマー加工紙が含まれる。写真要
素の画像保有層(単層または多層)の前駆体である画像形成層(単層または多層
)は一般に親水性の水透過性コロイド中に分散した放射線感受性薬剤(たとえば
・・ロゲン化銀)からなる。適切な親水性ビヒクルには、天然物質たとえば蛋白
7
質(たとえばゼラチン、ゼラテZ誘導体)、セルロース誘導体、多糖類(たとえ
ばデキストラン)、アラビアゴムなど、および合成高分子物質たとえば水溶性ポ
リビニル化合物(たとえばポリ(ビニルピロリドン)、アクリルアミドポリマー
など)の双方が含まれる、画像形成層の一般例はゼラチン/写真用ハロゲン化銀
乳剤層で−d、ここに記載した組成物はこの種の層に関する欠損を処理する際に
、また保護用オーバーコートを与える際に、優れた結果を与える。
本発明の一実施態様においては、保護用オーバーコートに写真要素の画像保有面
にのみ施す。第2の実施態様においては写真要素の支持体面にのみ保護用オーバ
ーコートに施す。他の実施態様においては、写真要素の両面に保護用オーバーコ
ートを施す。
ここに記載する修復処理法は映画フィルムに関して特に有利である。たとえば映
画プリントフィルムは映写機を多数回通過したのち著しく引掻かれた状態になる
ことがしばしばある。これはその場合他の性能はなお受容できるものであっても
廃棄されなければならない。ここに記載する修復のための塗布用組成物の使用は
、投影された画像を損う掻ききすを少なくするのにきわめて有効であり、従って
掻ききすを有するフィルムが修復されて有用に使用できる状態になる。本発明方
法は映画フィルムにおいて掻ききすが最も生じやすい支持体面の掻ききすに関し
て特に有効である。しかし、ここに記載する修復のための塗布用組成物は画像面
の掻ききすに関しても著しい改良を与える。
先きに説明したように、本発明の放射線硬化性塗布用組成物は混成系である。混
成の塗布用組成物はこれ1でにたとえば米国特許第3,753,755号、第3
.776.729号、第3.989゜610号、第4.025,348号、第4
.025.407号2よび第4.156,035号各明細書に記載されている。
しかし透明度。
柔軟性、耐引掻き性、耐磨耗性分よび付着性に関して特に厳格な拘束を課する写
真芸術の特殊な要求は必ずしも容易に満たされず、他の芸術((有用な塗布用組
成物がしばしば写真芸術においては不満足である。たとえば遊離基重合性のアク
リル系化合物および陽イオン重合性のエポキシ化合物を含有する混成系において
、ペンジノエノンおよびメチルジェタノールアミン(一般的な遊離基開始剤系)
の混合物全使用すると、この核性アミンとオキシラン環の置換反応のため系のエ
ポキシ部分の早期重合が起こり、このためこの組成物は写真要素上に保護用オー
バーコート全形成する際に使用するのには不満足なものとなる。
本発明の放射線硬化性組成物における第1の必須成分は重合性エポキシ化合物で
ある。この種のエポキシ化合物には1.2−エポキシ環すなわちオキシラン環1
個または2個以上全含有する化合物が含まれ、従ってエポキシモノマー、エポキ
シプレポリマー、およびオキシラン含有ポリマーが含まれる。本発明の方法およ
び組成物にはいかなる重合性エポキシ化合物も使用できるが、好ましい化合物は
脂肪族または脂環式の多官能価エポキシ化合物である。
本発明の目的に有用な重合性エポキシ化合物の例には下記のものが含まれる。
(1)脂肪族ポリオールのポリグリシジルエーテル、たとえば1.4−ブタンジ
オールジグリシジルエーテル。
1.6−ヘキサンシオールジグリシジルエーテル。
ジエチレングリコールジグリシジルエーテルおよびトリエチレンクリコールジグ
リシジルエーテル。
(2)ジカルボン酸エポキシシクロへキンルアルキル、たトエばヒ0メリン酸ヒ
ス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)。
マレイン酸ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)。
コハク酸ヒス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)。
7ユウ酸ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)。
セパ7ン酸ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキフルメチル)、およ
び
アジピン酸ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロベキ7(3) シクロは
ンテンオキシド基1個捷たは2個以上を含有するエポキシド、たとえば
ビス(2,3−エポキシシクロはメチル)エーテル、ジンクロバンクジエンジオ
キシド。
グリ7ジル2,3−エポキシシクロにメチルエーテル、および2.3−エポキシ
シクロはメチルシクロはメチルエーテル。
本発明の放射線硬化性1tfl成物の第2の必須成分は、重合性エポキシ化合物
の重合全開始するための陽イオン開始剤である。
本発明の目的のために特に有用な陽イオン開始剤は芳香族オニウム塩であり、こ
れにはVa族元素の塩、たとえばホスホニウム塩(たトエハヘキサフルオロリン
酸トリフェニルフェナシルホスホニウム)、■a族元素の塩、たとえばスルホニ
ウム塩(たとえばテトラフルオロホウ酸トリフェニルスルホニウム。
ヘキサフルオロリン酸トリフェニルスルホニウムおよびヘキサフルオロアンチモ
ン酸トリフェニルスルホニウム)、オヨヒ■a族元素の塩、たとえばヨードニウ
ム塩(たとえば塩化ジフェニルヨードニウム)が含まれる。
芳香族オニウム塩およびそれらをエポキ7〔ヒ合物の重合に際し陽イオン開始剤
として使用することは、米国特許第4.058゜401号C1977年11月1
5日交付)、第4.Q 69,055号(1978年1月17日交付)、第4.
101,513号< 1978年7月18日交付)、および第4,161,47
8号(1979年6月17日交付)各明細書に詳述されている。
上記のほか他の陽イオン開始剤、たとえ灯フェニル基に置換基としてアルコキン
基また(はベンジルオキシ基を含むヘキサフルオロリン酸フェニルジアゾニウム
類(米国特許第4.000゜115号明細書(1976年12月28日交付)に
記載されたもの)も使用できる。
本発明の放射線硬化性組成物の第3の必須成分は重合性のアクリル系化合物であ
る。有用なアクリル系化合物には単官能性モノマーおよび多官能性モノマーが含
まれる。単官能性のアクリル系モノマーの例にはアクリルエステルおよびメクク
リルエステル、たとえばアクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−
ヒトゝ ロキシプロビル、アクリル酸シクロヘキンル。
11
アクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチルなど
が含まれる。多官能性アクリル系モノマーの例には下記のものが含まれる。
トリメチロールプロ7ミントリアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、1.3−ブチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレート、1.3−ブチレン グリコールジメタクリレート、エチ
レンクリコールジメタクリレート。
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、テトラエチレンクリコールジメタク
リレート、1.6−ヘキサンシオールジメタクリレート、クリセロールトリアク
リレート。
1.3−プロパンジオールジアクリレート。
1.3−プロパンジオールジメタクリレート。
1、2.4−ブタントリオールトリメタクリレート。
1.4−シクロヘキサンジオールジアクリレート。
1.4−シクロヘキサンジオールジアクリレート。
ペンタエリスリトールジアクリレート および□21積町59−50iG42
(5)1.5−ベンタンジオールジメタクリレート。
特に有用な多官能性アクリル系モノマーは次式のものである。
上記式中R1はそれぞれ無関係に水素原子または1〜2個の炭素原子全有するア
ルキル基であり R2はそれぞれ無関係に1〜6個の炭素原子を有するアルキル
基または次式(式中R3は水素原子または1〜2個の炭素原子を有するアルキル
基である)の基である。
本発明の放射線硬化性組成物の第4の必須成分は、重合はアクリル系化合物の重
合を開始するための遊離基開始剤である。
この目的のために有用な開始剤はハロアルキル化芳香族ケトンである。これらの
化合物は、それらが重合性アクリル系化合物の重合のためにきわめて有効な開始
剤であり、また混成系においてしばしば生じる不相容性の問題全避ける際((き
わめて有効であるという点で、ここに記載する混成系において特に有用であるこ
とが認められた。
ハロアルキル化芳香族ケトン會不飽和化合物の重合のための遊離基開始剤として
用いることは周知であシ、たとえば米国特許第3,686,084号、第3.9
88.228号および第4.043゜887号各明細書に記載されている。
本発明の放射線硬化性組成物に使用するために有用な一部の3
ハロアルキル化芳香族ケトンは、米国特許第3,686,084号のハロメチル
化ベンゾフェノンである。これらの化合物1は次式の構造をもつ。
上記式中R1はCH2X、CHX2またはCX3 であり、R2はH1CH3、
CH2X、 CHX 2 ”1 fl’d CX3 f h ’)、ここでXU
塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。これらの化合物の例には、下記の
具体的な種類が含まれる。
4.4’−ビス−トリクロルメチルベンゾフェノン、4.4’−ビスーゾロムメ
チルベンゾフエノン、4.4’−ビス−ジノロムメチルベンゾフェノン。
4.41−ビス−トリブロムメチルベンゾフェノン、および。−ペンゾイルベ/
シトリクロリド。
本発明の放射線硬化性組成物に用いるために有用な第2群の7、ロアルキル什芋
禾鹿ケトンVi栄国特許第4.043.887号の3.4−ビス(ハロメチル)
ベンゾフェノンである。こレラの化合物は次式の構造をもつ。
上記式中Rは水素原子、塩素原子、メトキシカルボニル基、メチル基または1−
ブチル基であシ R1およびR2は同一または異なり、それぞれCH2X、CH
X2またはCX3であり、ここでX:は塩素原子または臭素原子である。これら
の化合物の例には下記の具体的な種類が含まれる。
3.4−ヒス(クロルメチル)ベンゾフェノン。
3.4−ヒス(クロルメチル)−4/−カルボメトキシベンゾフェノン、3.4
−ビス(クロルメチル)−4’−クロルベンゾフェノン、3.4−ビス(ブロム
メチル)ベンゾフェノン および3.4−ビス(ジクロルメチル)ベンゾフェノ
ン。
特に以上に述べたハロメチル化ベンゾフェノンのほかに、他〕多種のハロアルキ
ル化芳香族ケトンも、本発明の放射線硬化三組酸物に用いることができる。この
種の化合物の例には米国特許第3,988,228号のビス(a−クロルトルイ
ル)べ/ゼンおよびビス(α−ブロムトルイル)ベンゼンが含まれる。
本発明の放射線硬化性組成物の第5の必須成分は、重合性有機官能i主シランで
ある。これらの化合物は有効な付着促進剤である。これらのシランは混成系の陽
イオン重合した成分の一部として用いられるエポキシンランであるか、あるいは
混成系の遊離基重合した成分の一部として中いられるアクリル化ゾラン15
である。最適な程度の付着促進能を得るためにはエポキシシランおよびアクリル
化シランの双方を用いることがしばしば有利であり、双方の使用は本発明の好ま
しい特色である。
用いられるエポキシシランは、脂肪族、芳香族または混合脂肪族−芳香族の2価
の炭化水素残基介して連結した末端重合性エポキシ基および末端シラン基金有す
る化合物であることが好ましい。特に有用なシランは次式の化合物である。
上記式中mは1〜6の整数、nは1〜6の整数であシ、Rは1〜6個の炭素原子
を有するアルキル基−!たは次式(式中mは1〜6の整数、nは1〜6の整数で
あJ、Rは1〜6個の炭素原子を有するアルキル基である)の基である。
エポキシシランの例には下記の具体的な種類が含まれる。
γ−クリシトオキシプロビルトリメトキシシラン。
γ−クリシトオキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドオキシエチルト
リメトキシシラン。
γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシランおよびβ
−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン。
用いられるアクリル化シランは、脂肪族、芳香族、または混合脂肪族−芳香族の
2価の炭化水素残基金倉して連結した末端重合性アクリルオキシ基もしく(ハメ
タクリルオキシ基および末端シラン基を有する化合物であることが好ましい。特
に有用なアクリル化シランは次式の化合物である。
上記式中R1は水素原子またはメチル基であり、nは1〜6の整数であり、Rは
1〜6個の炭素原子を有するアルキル基である。
アクリル化7ランの例に1は下記の具体的な種類が含1れる。
β−アクリルオキシエチルトリメトキシシラン、β−メタクリルオキシエチルト
リメトキシ7ラン。
β−メタクリルオキシエチルトリエトキシシラン、γ−人クりルオキシプ口ピル
トリメトキシプラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン およ
びγ−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン。
以上に述べたエポキシシランまたはアクリル化シラン以外のシランも所望により
本発明の組成物に用いることができる。たとえば他の有用なシラン化合物にはビ
ニルシラン、たとえばビニルクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニル
トリメトキシシン、およびビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シランが含ま
れる。
上記のように本発明の放射線硬化性組成物は(1) 重合性エポキシ化合物、
(2)エポキシ化合物の重合を開始するための陽イオン開始剤、(3)重合腎ア
クリル系化合物。
(4)アクリル系化合物の重合を開始するためのハロアルキル化芳香族ケトン、
および
7
(5)重装置有機官能性シラン
からなる組成物である。2種以上の重合性エポキシ化合物、2種以上の陽イオン
開始剤、2種以上の重合性アクリル系化合物、または2種以上のハロアルキル化
芳香族ケトンの混合物も所望により用いることができ、これらは特定の場合には
有利であろう。以下に述べるように本発明の放射線硬化性組成物には他の多種の
成分を含有させることもできる。
放射源硬化性組成物の5種の必須成分それぞれの割合は希望に応じ広範に変える
ことができる。一般に重合性エポキシ化合物は組成物全体の5〜50重量%の量
用いられ、陽イオン開始剤は組成物全体の0.5〜10重量%の量用いられ、重
合i生アクリル系化合物は組成物全体の20〜50重量%の量用いられ、ハロア
ルキル化芳香族ケトンは組成物全体の0.5〜10重量%の量用いられ、重合性
有機官能性7ランは組成物全体の5〜40重量%の量用いられる。個々の場合に
使用する最適量は用いられる個々の化合物、およびその放射線硬化性配合物を塗
布される写真要素の特性により左右されるであろう。
本発明の放射線硬化性組成物にはシロキン含有ポリカルビノールが含まれていて
もよい。/ロキン含有ポリカルビノール(有機官能性シリコーンとも記載できる
)は周知の材料である。
この類の市販されている材料の例にはダウ・コーニング(DowCorning
) l 93界面活性剤、ダウ・コーニング1248液。
ダウ・コーニングXF4−3557 液、fつ・コーニングQ4−3667 L
およびダウ・コーニングQ2−8026 液(これらはすべてダウ・コーニング
社(米国ミシガン州ミツドランド)から入手される)が含まれる。これらの材料
はシロキサン鎖にグラフトしたアルコール官能基を含むポリジメチルシロキサン
である。シロキシ含有ポリカルビノールの具体的な構造式は下記のとおりである
。
これらの式中Rは炭化水素残基(一般に1〜10個の炭素原子を有するもの)−
であり、XおよびYIi一般千2〜100の範囲の値をもつ整数である。この種
のシロキン含有ポリカルビノールは米国特許第4,130,708号明細書(1
978年12月19日交付)に詳述されている。
本発明の放射線硬化1住組成物は、この種の組成物から形成される層に柔軟性を
与える柔軟剤として作用する樹脂を含有してもよい。この目的に有用な樹脂に(
ζアクリル化エポキシ樹脂、たとえばエピクロルヒドリン、ビスフェノール−A
およびアクリル系モノマーの反応により製造されるもの、ならびにアクリル化ウ
レタン樹脂、たとえばジインンアオ’h(rvとえばトリレンジイソンアイ’−
−ト)k飽和脂肪族ジオール(fcとえば1.419
一ブタンジオールまたはイ・オRンチルグリコール)と反応させ。
次いで不飽和アルコール(たとえばアクリル酸2−ヒドロキシエチル)と反応さ
せることにより製造されるものが含まれる。
本発明の放射線硬化性組成物は、これから形成される層に粘着防止性を与える艶
消剤を含有してもよい。有用な艶消剤には二酸化チタン、酸化亜鉛、炭酸カル7
ウム、硫酸バリウム、コロイドシリカ、および架橋ポリマーから形成されるポリ
マービーズが含まれる。粒径4μm−30μm’tもつコロイドシリカが特にこ
の目的に有用である。ンリカ粒子がこの塗布用組成物中において沈降する傾向を
少なくするため、これを均質化処理することができる。あるいは架橋ポリマービ
ーズ、たとえば架橋アクリル系ポリマーから製造されるビーズは沈降する傾向が
少ないので、/リカ粒子の代わりに用いることができる。
本発明全実施するに際し、最良の結果を与えると思われる塗布用組成物中の個々
の成分および成分の割合は、写真要素の組成により左右さγしる。たとえば最適
な付着性をもつと思われる特定の塗布用組成物は、画像保有層(単層または多層
)中に用いられる個々の結合剤によシ左右され、あるいはその要素が支持体側に
塗布されるものである場合支持体として用いられる個々の材料により左右される
。一般に画像保有層(単層または多層)に対する最適付着性を得るよシも、支持
体に対する最適何着性を得る方がいっそう容易である。いずれかの特定の写真要
素に対し最適な塗布用組成物を配合するためには、数種の簡単な実験が必要であ
るかも知れない。
本発明によりオーバーコート層で保護される写真要素は、画20 18RtID
59−501642(7)像保存面に放射線硬化性組成物r塗布する前に可視画
像を形成する処理を施される。この処理は適切な様式のいずれによっても行われ
る。たとえば黒白写真要素は一般に現像、定着および洗浄からなる一連の工程で
処理され、カラープリントはカラー現像、漂白、定着(または同時漂白一定着)
、および安定化からなる一連の工程で、またカラー反転写真要素は黒白ネガ現像
。
次いで反転露光もしくはかぶり処理(fogging)、カラー現像、漂白、定
着(または同時漂白一定着)、および安定化からなる一連の工程で処理される。
ここに記載する本発明を使用する有利な様式は、一般的な写真処理操作を改変し
て写真要素の乾燥の後の処理における最終工程として、保護用オーバーコートを
形成させるための塗布および硬化の工程を含めることである。
塗布および硬化の工程は希望に応じバッチ式、半連続式または連続式で行うこと
ができる。
放射線硬化性組成物による写真要素の塗布は、一般的様式のいずれによっても行
われる。たとえばこれは浸漬、被覆、エアナイフ塗布、ロール塗布、グラビア塗
布、押出被覆、ビーズ塗布、流し塗、線巻塗布棒の使用などによって行うことが
できる。
一般に写真要素上に沈積した被膜の厚さは湿潤何着量として塗布用組成物2〜2
0cIn37m2(塗布面)の範囲、よシ普通には塗布用組成物3〜10cm3
/m2 の範囲、好ましくは5cm37m2のきわめて薄い被膜であろう。塗布
用組成物は選ばれる個々の塗布法に応じて広範に変えることができる。一般に2
5〜1000センチポイズの範囲、より好ましくは75〜200センチポイズの
範囲の粘度をもつ塗布用組成物から、満足すべき被膜を容易に1
写真要素上に形成させることができる。
放射線硬化1生組成物全修復用組成物として用いる本発明の観点においては、処
理すべき写真要素は一般に露光および処理されて可視画像が形成されており、露
光もしくは処理に際し、捷たばより一般的にはその後の使用に際して磨耗し、も
しくは引掻かれ、またはその(丘か写真要素の外観もしくは投影能奢損うような
欠損を与える形で取扱われた写真要素である。掻ききずまたは磨耗きずは露光お
よび/または処理に際しても生じる可能性があるが、よシ一般的な状況は写真要
素を使用した結果この種の欠損が徐々に蓄積することである。従って露光および
処理された写真要素を普通に使用することにより、たとえば映画フィルムを映写
機中で、またはマイクロフィッシュケリーター中で使用することにより、一般に
本発明方法によって除くことができるかまたは少なくとも軽減させることができ
る種類の欠損が生じる。
本発明の放射a硬化性組成物を修復用組成物として用いる際には、これを写真要
素の少なくとも欠損のある領域に施し1次いで硬化させる。希望に応じブラシそ
の他の種類のアプリケーターなど適切な手段により欠損部に局所的に施す方法を
採用することができるので、この組成物全欠損領域にのみ施すことができる。通
常は写真要素上には多数の小さな掻ききずおよび磨耗きずがあると思われるので
、欠損が認められる写真要素の表面全体に放射線硬化性組成物を施す方が容易で
あり、また好都合であろう。後者の処理によれば、放射線硬化性組成物による写
真要素の塗布は、好都合な様式のいずれによって行うこともできる。たとえば、
これは前記の塗布法のいずれによっても行うことができる。
掻ききずまたは磨耗きずをもつ写真要素の処理に用いられる放射線硬化性組成物
の粘度は、これを掻ききずその他の欠損部に充填するのに十分なほど低くなけれ
ばならない。すなわちその粘度は、施された組成物が掻ききすの上にブリッジを
形成し。
その結果掻ききすが透明な硬化したポリマー材料の下方に見える欠損として残る
ほど高くてはならない。最適粘度は、処理される写真要素の種類、組成物の塗布
法、ならびに掻ききすの幅および深さなど多数の因子によって左右されるであろ
う。一般にこの目的には5〜600センチポイズの範囲が有用であり、好ましい
範囲I′ilO〜100センチポイズ、より好ましい範囲は30〜40センチポ
イズである。
放射線硬化性組成物全適切な形の輻射線で処理することにより硬化させる装置お
よび方法は周知であシ1本発明の実施にはいずれの適切な放射線硬化法を用いる
こともできる。たとえば適切な強度の紫外線を照射することによって硬化させる
ことができる。高エイ、ルギーの電離性放射線、たとえばX線、γ線、β線およ
び加速された電子を用いて被膜を硬化させることもできる。一般に、用いられる
輻射線は塗布された層の実質的に全体を透過するのに十分な強度のものでなけれ
ばならない。用いられる総線量は放射線硬化性組成物を硬化させて固体プラスチ
ックを形成させるのに十分なものでなければならない。一般に0.2〜50メガ
ラドの範囲、よシ一般的には0.5〜20メガラドの範囲の線量が用いられる。
本発明に用いられる塗布用組成物(ri23
実質的に完全に固体生成物に変換しうるので、硬化工程中に溶剤または希釈剤を
除去する必要はない。さらにこれらは硬化に際してほとんどまたは全く収縮しな
い。従って掻ききすが放射線硬化性組成物で完全に充填された場合、これは硬化
工程が完了したのち完全に充填した状態を保つ。硬化工程中に被膜から除かれる
溶剤または希釈剤を用いる必要はないが、塗布用組成物の特性全改変する必要が
ある場合にはこれを用いることができる。
被膜を放射線により硬化させる前に一般に40〜150℃の温度に1〜60秒間
加熱することが有利である。これによって、グラフが支持体の表面と相互に作用
する機構を活性化するのに必要なエネルギーが与えられる。加熱するのに好都合
な方法は、赤外線ヒーターの使用である。
ここに記載した方法による写真要素のオーバーコートは、適宜写真要素をその最
終寸法に切断する前に行うことが有利である。たとえば写真要素が処理されて可
視画像を形成し、乾燥されたのち、これに放射線硬化性組成物を塗布し、次いで
照射したのち切断して特定の寸法にすることができる。ある場合には。
写真要素の画像保有層(単層または多層)の面のみ、または支持体面のみに放射
線硬化性組成物を塗布することで十分であろう。他の場合には、写真要素の両面
に放射線硬化性組成物を塗布することが望ましいであろう。たとえば映画フィル
ムおよびマイクロフィッシュは一般に、これらの物品が普通の使用に際して受け
るきわめて苛酷な取扱いからみて、またこれらの物品あることからみて1両面に
塗布されるであろう。塗布に用いられる個々の方法に応じて、写真要素の両面に
同時に塗布してもよく、あるいは各面に別個に塗布してもよい。
ここに記載する放射線硬化性組成物は写真要素の画像保有面および支持体面の双
方に強固に何着するので、画像保有面および支持体面のいずれかまたは双方に保
護用オーバーコートを施す際、または掻ききす、磨耗きずその他の欠損全処理す
る際に有効である。これらは普通はそれと何着させるのが困難な材料、たとえば
一般に写真要素のための支持体として用いられるトリアセチルセルロースまたは
ポリエチレンテレフタレート、ならびに写真要素の画像保有面に一般に用いられ
るゼラチン/写真用ハロゲン化銀乳剤層または保護用ゼラチン層との何着を得る
のに有効である。組成物全硬化させて透明かつ柔軟な、耐引掻き註の架橋ポリマ
ー層となすための照射は、画像が色素系の画像であるカラー写真要素に関してす
ら、画像保有層(単層または多層)K何ら有意の有害な作用を与えることなく行
われる。
ここに記載する放射線硬化性組成物は、写真用支持体、画像保有層および保護用
オーバーコート層からなる要素、ならびにその後画像保有層を有する要素の作成
に用いることが意図される、画像保有層を含まない要素に使用され、単層または
多層を形成することができる。
ここに記載する放射線硬化性組成物はここに詳述するように特に写真要素の保護
用および/または修復用組成物として有用であるが、これらは保護用オーバーコ
ートを施すことが望まれる他の多くの用途にも有用である。たとえばこれらはア
ルミニ5
ウムバ不ル、床タイル、印刷版、レンズ、金属化ガラス、金属化プラスチックフ
ィルム、プリント回路板などの保護用オーバーコートとして用いることができる
。他の用途には、カンの製造に用いられる薄板金のオーバーコートとしての用途
、および包装材料の印刷インキを保護するためのオーバーコートとしての用途が
含捷れる。
図面の簡単な説明
第1図は、本発明に従って乳剤面に保護用オーバーコートを有する写真フィルム
およびこの種のオーバーコートヲ有シない同じフィルムの双方に関して、曇!l
(%)全テーパー磨耗サイクル数の関数としてプロットしたグラフである。
第2図および第3図は、それぞれトリアセチルセルロース製およびポリエチレン
テレフタレート製支持体を有する写真フィルムの支持体面に塗布された同一オー
バーコートに関する。第1図と同様なグラフである。
第4図は写真フィルムの乳剤面上の異なる組成のオーバーコートに関する、第1
図と同様なグラフである。
第5図および第6図は、それぞれトリアセチルセルロース製およびポリエチレン
テレフタレート製支持体を有する写真フィルムの支持表面上の同一オーバーコー
ト組成物に関する。第4図と同様なグラフである。
各図面において○印はオーバーコートされたもの、×印は塗布されていないもの
である。
発明を実施するための最良の形態
本発明をさらに下記の実施例によって説明する。
実施例1
下記の塗布用組成物を調製した。
成 分 重量%
(1) −”ンタエリスリトールトリアクリレート 534(2) γ−メタク
リルオキシプロピルトリメトキシシラン 12.3f31 β−(3,4−エポ
キシシクロヘキシル)エチルトリメトキン7ラン 14.0(411,4−プタ
ンジオールジクリンジルエーテル 11.0(514,4’−ビス−クロルメチ
ルベンゾフェノン 43(6) へキサフルオロアンチモン酸トリフェニルスル
ホニウム(炭酸プロピレン中の50%溶液)50100.0
上記成分の構造式は下記のとおりであった。
1
H3
27
トリアセチルセルロース製支持体およびゼラチン/写真用ハロゲン化銀乳剤層を
有する一般的な35 mmのカラー写真映画フィルムを露光し、処理し1両面に
上記の塗布用組成物を反転オフセットグラビア塗布法にょシ塗布し、これf:5
0cm/秒の速度で単一118W/cInの高光度水銀蒸気紫外線電球下’f:
6.5 b*の距離で通過させた。硬化した被膜の厚さは約1μmであった。
塗布されたフィルムの試料および塗布されていない対照試料につき、標準試験法
シて従って磨耗試験および摩擦係数試験を行った。詳細には磨耗試験(テーパー
磨耗試験と呼ばれる)全ASTM試験法D−1044に従って行い、摩擦係数試
験(は−パークリソプ試験と呼ばれる)をアメリカン・ナショナル・スタンダー
ズ・インスティテユート社(1430ノロ−ドウエイ。
ニューヨーク、ニューヨーク、U、S、A 10018)のANSINS法pH
1,47−1972に従って行った。
ポリエチレンテレフタレート製支持体を有する他の35朋力ラープリント映画フ
ィルム全露光し、処理し、上記と同様に塗布し、硬化させた。この塗布されたフ
ィルムの試料および塗布されていない対照試料についても上記の磨耗試験および
摩擦係数試験を行った。
得られた結果を下記の表1ならびに第1.2および3図に報告する。図面はそれ
ぞれ写真乳剤面上の被膜、トリアセチルセルロース製支持体上の被膜、およびポ
リエチレンテレフタレート製支持体上の被膜に関する。磨耗試験データに関して
、曇り(%)は磨耗損傷の程度を示すものである。一定回数のテーパー磨耗サイ
クルにおいて曇り(%)が高いほど被験表面の耐磨耗性は低い。
写真乳剤 ’ 0.20 0.42
トリアセチルセルロース 0.30 0.40ポリエチレンテレフ)レート0.
16 0.38第1〜3図のデータによシ示されるように、上記の保護用オ、o
−コートハ写真乳剤面、トリアセチルセルロース面、およびポリエチレンテレフ
タレート面に関して耐磨耗性の著しい改善をもたらした。たとえばテーパーサイ
クル200回の水準で曇9(%)は写真乳剤面につき約18%から約3%に、ト
リアセチルセルロース面につき約30%から約3%に、またポリエチレンテレフ
タレート面につき約19%から約5%に低下した。
実施例2
下記の塗布用組成物を調製した。
(1) ペンタエリスリトールアクリレート26.6(2)γ−メタクリルオキ
シゾロピルトリメトキシシ2ン 11.8(311,4−ブタンジオールジグリ
シジルエーテル 11.89
(4) γ−グリシドゝオキシプロピルトリメトキシシラン 11.8(5)ア
ジピン酸ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロベキシル使用ル> 26.
6
(6) 4,4’−ビス−クロルメチルベンゾフェノン 3,9(71ヘキテフ
ルオロアンチモン酸トリフェニルスルホニウム(炭酸プ0−レン中aO%溶液)
59
組成物中に使用したγ−クリシドオキシプロピルトリメトキ//ランは次式によ
り表わされる。
アジピン酸ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロベキシル使用したコロイ
ドシリカはカボット社(米国)から入手される溶融非晶質ノリ力Cab−0−8
i(g H3−5であシ、シロキン含有ポリカルビノールはダウ・コーニング社
(米国)から入手されるダウ・コーニングQ4−3667 液であった。
本実施例に記載した配合においてはンタエリスIJ )−ルトリアクリレートは
高度の架橋に寄与し、これにより優れた耐磨耗性全与えた。
0
γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランは被膜−支持体界面を架橋す
ることにより何着促進剤として作用する。
この化合物において分子のシラン末端が支持体の表面と相互作用し、これが他の
アクリル酸種とのラジカル連鎖重合により硬化するのに伴ってそのメタクリレー
ト末端は被膜中に結合金有された状態で残る。
1.4−ブタンジオールジグリシジルエーテルは反応性の粘度降下剤として作用
する。これ(はトリアセチルセルロースに対するこの塗布用組成物の何着の改善
においても重要な役割を果たす。この正確な理由はわからないが、その機構は粘
度の降下または1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテルとトリアセチルセ
ルロースの化学的相互作用による表面の湿潤性の改善を伴うものであろう。これ
ら双方の機構が関与しているのかも知れない。
γ−クリシトオキシゾロビルトリメトキシシランはこの分子のシラン末端が支持
体表面と相互作用し、他方エポキシ末端はこれが他のエポキ7ド類との陽イオン
重合によp硬化するのに伴って被膜に結合金有される状態で作用する。
アジピン酸ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロベキシル使用ル)はこの
混成系のエポキシ部分の主成分ケなす。これは反応性の高いエポキシモノマーで
あシ、この系に高い陽イオン重合速度をもたらし、オーバーコートに希望する程
度の柔軟性を与える。
4.4ノ−ビスークロルメテルベノノフエノンおよヒー・キサフルオロアンチモ
ン酸トリフェニルスルホニウムは、ソれぞれ遊31
雌蘂開始剤および陽イオン開始剤として作用する。この開始剤の組合せは、光に
よりQ生したラジカルから電子および工坏ルギーを伝達することにより相乗作用
する。また芳香族オニウム塩←たとえばヘキサフルオロアンチモン酸トリノェニ
ルスルホニウム)の光分解によって、遊離基開始剤(たとえば4.4’−ビヌー
クロルメチルベンゾフエノン、これはプロトンを吸収してラジカルを形成する)
に対するプロトン供与体として作用する化合物が生成する。炭酸プロピレンは陽
イオン開始剤を可溶化するために用いられ、これは硬化に際して架橋ポリマー構
造の一部となる。
コロイドシリカは保護用オーバーコートの粘着全低下させるために組成物に添加
される。シロキン含有ポリカルビノールはスリップ剤として作用し、保護用オー
バーコート面の永続的な潤滑を与える。これは映画フィルムに関してきわめて望
ましい結果である。70キ7含有ポリカルビノールのヒドロキシ官能基は陽イオ
ン重合部位の末端となることにより被膜のエポキシ部分に結合含有されるものと
考えられる。
それぞれトリアセチルセルロース製およびポリエチレンテレフタレート製の支持
体を有する実施例1の記載と同じ35 mmのカラープリント映画フィルムを露
光し、処理し、この実施例に記載した塗布用組成物を用いて実施例1に記載した
と同じ方法で塗布し、放射線硬化させた。これらの塗布された試料および対照に
つき、同じ磨耗試験および摩擦係数試験を行った。得られた結果を下記の表■な
らびに第4.5および6図に報告する。
図面はそれぞれ写真乳剤面上の被膜、トリアセチルセルロース32 特表昭59
−501642 (10)膜支持体上の被膜、およびポリエチレンテレフタレー
ト製支持体上の被膜に関する。
摩擦係数
写真乳剤 0.16 0.21
トリアセチルセルロース 0.24 0.21ポリエチレンテレフタレー) 0
.16 0.24第4〜6図のデータにより示されるように、上記の保護用オー
バーコートは写真乳剤面、トリアセチルセルロース面、およびポリエチレンテレ
フタレート面に対し、著しい耐磨耗註の改善をもたらした。たとえばテーパーサ
イクル200回の水準で曇p(%)は写真乳剤面につき約26%から約4%に、
トリアセチルセルロース面につき約34%から約6%に、またポリエチレンテレ
フタレートにつき約19%から約7%に低下した。実施例1の配合物に比して実
施例2の配合物はよりいっそう低い摩擦係数値を与えた。この望ましい結果は実
施例2の配合物中にシロキシ含有ポリカルビノールが存在することによる。摩擦
係数は所望によシこの化合物の濃度を高めることによってさらに低下させること
ができた。実施例2の配合物は、低湿度における脆性がより低い保護用オーバー
コートを与えたという点においても実施例1のものよシ優れていた。
ここに記載する放射線硬化性組成物は優れた湿潤性、均展註(未乾燥塗膜におい
て塗膜の欠陥が平坦になるのを促進する流3
れ特性)、および塗旬性を有し、このためこれらの組成物を写真要素に適用する
ことができる。これらは写真要素(写真乳剤面、ならびに支持体材料たとえばト
リアセチルセルロースおよびポリエチレンテレフタレートの面を含む)に強固に
月着し。
好都合なかつ入手の容易な放射線源によって容易に硬化して透明かつ柔軟な、耐
引掻き性の高い保護膜を形成する。これらの塗布用組成物は優れた保存寿命をも
ち、不都合な臭気をもたず、また写真要素の成分に対する望壕しくない化学的攻
撃を示すことがない。他の重要な利点は、得られるオーバーコート層が映画フィ
ルムの洗浄に一般に用いられる塩素化炭化水素などの溶剤に対して抵抗性である
ことである。
ここに記載する混成系は、エポキシ化合物およびその重合全開始するための陽イ
オン開始剤のみ?含有する多くの系よりもいっそう速い硬化速度をもつという点
でも有利である。これは。
映画フィルムなどの写真要素をこの組成物でオーバーコートし、たとえばこれを
50cb
の下を通過させることにより高速で硬化させることができるという点で重要な利
点である。さらに硬化がきわめて急速に行われる場合でも、下層の支持体に対す
るオーバーコートの何着度は普通の取扱いおよび使用に際して遭遇する応力に十
分に耐えうるものである。
ここに記載する開始剤の組合せ、すなわち陽イオン開始剤と遊離基開始剤として
作用するハロアルキル化芳香族ケトンとの組合せを用いると、エポキシ化合物お
よびアクリル系化合物の双方衾この系に大量に含有させることができる。たとえ
ばこの系は実質的に等重量の各物質の混合物であってもよい。これは、エポキシ
化合物が主体である系に少量のみのアクリル化合物を含有しうるか、またはアク
リル系化合物が主体である系に少量のみのエポキシ化合物を含有しうる他の開始
剤系を使用する場合と著しく対称的である。たとえばW、C,パーキンスによる
報文”光による陽イオン重合における新たな進歩゛放射線硬化■会報、Soc、
Mfg、Eng、 1980年9月23〜25日)に記載された混成系を参照さ
れたい。これはベンゾフェノン全遊離基開始剤として用い、主としてエポキシ化
合物からなるものであり、たとえばアクリル系化合物は混成配合物全体の約15
〜20重量%を占めるにすぎない。これらのベンゾフェノン開始系に実質的にこ
れよシも大量のアクリル系化合物を使用することは、これによりその配合物が適
度に硬化するのが妨げられるため不適当である。
本発明の範囲外の塗布用混成系は、不相容性という著しい問題、すなわち成分間
の不利な物理的および/または化学的相互作用の発生という問題をもつ。特に遊
離基開始剤と陽イオン開始剤が、一方が油力に7有害な作用を及ぼす”傾向を示
し、これによりその意図する目的に無効となすという様式で化学的に相互作用す
る可能性がある。この塗布用組成物は紫外線その他の放射線を照射する時期より
も前に(事実これが配合されたのち数時間または数日程度というきわめて短時間
以内に)増粘および硬化し、従って保存寿命が不適切であるという著しい傾向を
示す可能性がある。本発明の混成系にハロアルキル化芳香族ケトンを遊離基開始
剤として用いると、意外にもこの種の問題が効果的に避けられ、長い保存寿命(
たとえば数か月またはそれ以上の保存寿命)が得られることが見出された。
0 250 500 750 1000テーバ゛ニ サイク、し歎
FIG、 1
0 250 500 750 1000FI6.3
0 250 500 750 1000テーバ゛′−サイクノシ署(
02505007501000
国際調査報告
INTERNATIONAニーAPごLLCAT3ON−No二 PCT/US
83101214 (SA 56781―−−―−−劉−―−−−――−−−
−−リー―−―−――特表昭59−5旧r:er2(13)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 放射線硬化a (radiation−curable)であり1写真要素 上に保護用または修復用の被膜を形成させるために特に有用である塗布用組成物 であって。 (1)重合性エポキシ化合物、 (2)上記エポキシ化合物の重合を開始するため力陽イオン開始剤。 (3) 重合佳アクリル系化合物、 (4) 上記アクリル系化合物の重合全開始するための、ノ・ロアルキル化芳香 族ケトンからなる遊離基開始剤、ならびに(5)重合性有機官能性シラン の組合せからなる組成物。 2 エポキシ化合物が脂肪族もしくは脂環式の多官能性エポキシ化合物であり、 陽イオン開始剤が芳香族オニウム塩であり、アクリル系化合物が多官能性アクリ ル系母ツマ−てあシ、かつハロアルキル化ケトンがハロメチル化ベンゾフェノン である、請求の範囲第1項記載の塗布用組成物。 3 重合性有機官能性7ランが式 (式中!]]は1〜6の整数、nは1〜6の整数であり、Rは1〜6個の炭素原 子を有するアルキル基である)。 (式中mは1〜6の整数、nは1〜6の整数であり、Rは1〜6個の炭素原子を 有するアルキル基である)、または(式中R1は水素原子またはメチル基であり 、nは1〜6の整数であり、Rは1〜6個の炭素原子を有するアルキル基である )のエポキシシランである、請求の範囲第1項または第2項記載の塗例用組成物 。 4 さらにンロキシ含有ポリカルビノールおよび/または艶消剤を特徴する請求 の範囲第1項、第2項または第3項のいずれかに記載の塗付用組成物。 5(1)支持体。 (2)少なくとも1層の画像保有層。 (3)保護用オーバーコート からなる写真要素であって、保護用オーバーコートが写真要素の少なくとも1面 に永続的に何着し、かつ保護用オーバ、−コートが(2)放射線硬化により透明 かつ柔軟な、耐引掻き性の架橋ホリマ一層を形成する放射線硬化性の塗布用組成 物全写真要素に塗布し、そして(b) この被膜を硬化させて写真要素に何着さ せるのに十分な程度にこの被膜を放射線照射することによって形成されたもので あシ、上記塗布用組成物が請求の範囲第1項、第2項、第3項または第4項のい ずれかに記載の塗例用組成物である写真要素。 6 保護用オーバーコート層が写真要素の画像保有面または支持体面のいずれか に永続的に何着している、請求の範囲第5項記載の写真要素。 38 7、保護用オーバーコート層が写真要素の画像保有面および支持体面の双方(て 永続的に何着している。請求の範囲第5項記載の写真要素。 8 支持体がトリアセチルセルロースまたはポリエチレンテレフタレートであり 、画像保有面が画像形成下に露光されかつ処理されたゼラチン/写真用ハロゲン 化銀乳剤層である、請求の範囲第5項、第6項または第7項記載の写真要素。 9 写真用支持体および保護用オーバーコート層からなる要素であって、オーバ ーコート層が(a)硬化に際して透明かつ柔軟な、耐引掻き注の架橋ポリマー層 を形成する放射線硬化性の塗布用組成物全上記支持体に塗布し、そして(b) この被膜を硬化させて上記支持体に何着させるのに十分な程度にこの被膜を放射 線照射することによって形成されたものであり、上記塗布用組成物が請求の範囲 第1項、第2項、第3項捷たは第4頂のいずれかに記載の塗布用組成物である要 素。 10、写真要素全磨耗および引掻きに対して保護する方法であって、(a) こ の要素の少なくとも1面に放射線硬化性の塗布用組成物全塗布し、そして(bl この被膜全硬化させて上記要素に何着させるのに十分な程度にこの被膜を放射 線照射することにより、上記塗布用組成物が請求の範囲第1項、第2項、第3項 または第4項のいずれかに記載の塗布用組成物である方法。 11、支持体および少なくとも1層の画像保有層からなり、その外観または投影 能を損う掻ききずおよび磨耗きずなどの欠損をその1面または両面に有する写真 要素を処理する方法であって。 (al この要素に、少なくともこの要素の上記欠損の位置する領域に、放射線 便化によp上記欠損を充填し、透明かつ柔軟な。 耐引掻き注の架橋ポリマー材料を形成する放射線硬化性組成物を施し、そして (0この組成物を硬化させて上記要素に何着させるのに十分な程度にこの組成物 を放射線照射し、これによシ上記欠損が上記要素の外観および投影能に与える不 利な影響を少なくし、または除く ことよりなり、上記塗布用組成物が請求の範囲第1項、第2項、第3項または第 4項のいずれかに記載の塗布用組成物である方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/421,694 US4426431A (en) | 1982-09-22 | 1982-09-22 | Radiation-curable compositions for restorative and/or protective treatment of photographic elements |
US421694 | 1982-09-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59501642A true JPS59501642A (ja) | 1984-09-13 |
JPH0449933B2 JPH0449933B2 (ja) | 1992-08-12 |
Family
ID=23671640
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58502881A Granted JPS59501642A (ja) | 1982-09-22 | 1983-08-09 | 塗布用組成物ならびにそれを写真要素の修復処理および/または保護処理に使用する方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4426431A (ja) |
EP (1) | EP0119219B1 (ja) |
JP (1) | JPS59501642A (ja) |
DE (1) | DE3364713D1 (ja) |
WO (1) | WO1984001228A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62229133A (ja) * | 1985-12-11 | 1987-10-07 | Konika Corp | 写真要素 |
JPH02179638A (ja) * | 1988-12-29 | 1990-07-12 | Konica Corp | 写真要素及びその製造方法 |
Families Citing this family (74)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4564557A (en) * | 1984-04-14 | 1986-01-14 | Chisso Corporation | Thermoset acrylic resin composition for coating metallic materials and stainless steel coated with the composition |
US4623676A (en) | 1985-01-18 | 1986-11-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Protective coating for phototools |
US5194365A (en) * | 1985-06-19 | 1993-03-16 | Ciba-Geigy Corporation | Method for forming images |
GB8515475D0 (en) * | 1985-06-19 | 1985-07-24 | Ciba Geigy Ag | Forming images |
CA1312040C (en) * | 1985-12-19 | 1992-12-29 | Joseph Victor Koleske | Conformal coatings cured with actinic radiation |
US4789620A (en) * | 1986-03-03 | 1988-12-06 | Mitsubishi Rayon Co. Ltd. | Liquid photosensitive resin composition containing carboxylated epoxy acrylates or methacrylates |
GB8715435D0 (en) * | 1987-07-01 | 1987-08-05 | Ciba Geigy Ag | Forming images |
US5084344A (en) * | 1988-02-26 | 1992-01-28 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Photographic support comprising a layer containing an electron beam hardened resin and white pigment of a thickness of 5-100 microns |
US5178996A (en) * | 1988-12-29 | 1993-01-12 | Konica Corporation | Method of making photographic element having epoxy overlayer |
EP0431564B1 (en) * | 1989-12-05 | 1996-04-10 | Konica Corporation | Photographic-image-bearing recording member. |
EP0487086B2 (en) * | 1990-11-22 | 2008-08-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of preparing volume type phase hologram member using a photosensitive recording medium |
US5549999A (en) * | 1990-12-27 | 1996-08-27 | Xerox Corporation | Process for coating belt seams |
US5582949A (en) * | 1990-12-27 | 1996-12-10 | Xerox Corporation | Process for improving belts |
US5190608A (en) * | 1990-12-27 | 1993-03-02 | Xerox Corporation | Laminated belt |
JP2873126B2 (ja) * | 1991-04-17 | 1999-03-24 | 日本ペイント株式会社 | 体積ホログラム記録用感光性組成物 |
US5229251A (en) * | 1991-04-29 | 1993-07-20 | International Business Machines Corp. | Dry developable photoresist containing an epoxide, organosilicon and onium salt |
DE9116368U1 (de) * | 1991-06-15 | 1992-08-20 | Koenig & Bauer AG, 8700 Würzburg | Einrichtung zum Befestigen von Drucktüchern auf Übertragungs- oder Offsetzylindern |
US5232812A (en) * | 1992-09-18 | 1993-08-03 | Xerox Corporation | Method of forming images using curable liquid |
DE4234072A1 (de) * | 1992-10-09 | 1994-04-14 | Morton Int Inc | Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch und Verfahren zur Herstellung einer Lötstoppmaske |
WO1994029358A1 (en) * | 1993-06-16 | 1994-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Vibration damping constructions using thermally polymerized epoxides |
DE4344125A1 (de) * | 1993-12-23 | 1995-06-29 | Basf Lacke & Farben | Strahlenhärtbare Schutzlackierung, insbesondere für metallisierte Oberflächen |
US5654090A (en) * | 1994-04-08 | 1997-08-05 | Nippon Arc Co., Ltd. | Coating composition capable of yielding a cured product having a high refractive index and coated articles obtained therefrom |
WO1997013183A1 (en) * | 1995-10-06 | 1997-04-10 | Polaroid Corporation | Holographic medium and process |
US6001893A (en) * | 1996-05-17 | 1999-12-14 | Datacard Corporation | Curable topcoat composition and methods for use |
US6100313A (en) * | 1997-03-07 | 2000-08-08 | The Walman Optical Company | UV-curable abrasion-resistant coating composition |
US5907000A (en) * | 1997-03-07 | 1999-05-25 | The Walman Optical Company | Adjustable refractive index coating composition |
US5789082A (en) * | 1997-03-12 | 1998-08-04 | The Walman Optical Company | Thermosetting coating composition |
US5907333A (en) * | 1997-03-28 | 1999-05-25 | Lexmark International, Inc. | Ink jet print head containing a radiation curable resin layer |
US5853926A (en) * | 1997-07-23 | 1998-12-29 | Eastman Kodak Company | Pre-coated, fused plastic particles as a protective overcoat for color photographic prints |
US5856051A (en) * | 1997-07-23 | 1999-01-05 | Eastman Kodak Company | Water-resistant protective overcoat for AgX photographic system |
US5965304A (en) * | 1997-11-06 | 1999-10-12 | Eastman Kodak Company | Protecting layer for gelatin based AGX photographic products |
US5952130A (en) * | 1998-08-19 | 1999-09-14 | Eastman Kodak Company | Protective layer for gelatin based AGX photographic products |
US6232049B1 (en) | 1999-01-22 | 2001-05-15 | Eastman Kodak Company | Protective overcoat for photographic elements |
US6077648A (en) * | 1999-01-22 | 2000-06-20 | Eastman Kodak Company | Protective overcoat for photographic elements |
US6083676A (en) * | 1999-04-26 | 2000-07-04 | Eastman Kodak Company | Method for applying a protective overcoat to a photographic element using a fuser belt |
EP1048466A3 (en) | 1999-04-28 | 2001-04-04 | Eastman Kodak Company | Ink jet printer having a print head for applying a protective overcoat |
US6197482B1 (en) | 1999-05-14 | 2001-03-06 | Eastman Kodak Company | Polymer overcoat for imaging elements |
US6303184B1 (en) | 1999-05-14 | 2001-10-16 | Eastman Kodak Company | Method of forming a discontinuous polymer overcoat for imaging elements |
US6465165B2 (en) | 1999-05-14 | 2002-10-15 | Eastman Kodak Company | Scratch resistant-water resistant overcoat for photographic systems |
US6426167B2 (en) | 1999-07-15 | 2002-07-30 | Eastman Kodak Company | Water-resistant protective overcoat for image recording materials |
US6165653A (en) * | 1999-07-15 | 2000-12-26 | Eastman Kodak Company | Protecting layer for gelatin based photographic products containing 1H-pyrazolo[1,5,-b][1,2,4]triazole-type magenta coupler |
US6221546B1 (en) | 1999-07-15 | 2001-04-24 | Eastman Kodak Company | Protecting layer for image recording materials |
US6130014A (en) * | 1999-07-15 | 2000-10-10 | Eastman Kodak Company | Overcoat material as protecting layer for image recording materials |
US6250760B1 (en) | 1999-08-20 | 2001-06-26 | The Walman Optical Company | Silane-based coating composition |
US6780232B2 (en) * | 1999-08-20 | 2004-08-24 | The Walman Optical Company | Coating composition yielding abrasion-resistant tiniable coating |
US6171770B1 (en) | 1999-11-24 | 2001-01-09 | Jiann Chen | Method for applying a protective overcoat to a photographic element |
US6258517B1 (en) | 2000-06-06 | 2001-07-10 | Eastman Kodak Company | Imaged element with improved wet abrasion resistance |
US6274298B1 (en) | 2000-06-07 | 2001-08-14 | Eastman Kodak Company | Protective overcoat comprising polyester ionomers for photographic elements |
US6187517B1 (en) | 2000-06-09 | 2001-02-13 | Eastman Kodak Company | Enzyme-activated water-resistant protective overcoat for a photographic element |
DE60128693T2 (de) * | 2000-07-19 | 2008-05-15 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Verfahren zur herstellung einer replica und replica, die mittels uv-licht durch kationische polymerisation erhalten ist |
US6352805B1 (en) * | 2000-09-25 | 2002-03-05 | Eastman Kodak Company | Photocrosslinkable latex protective overcoat for imaging elements |
US6395459B1 (en) | 2000-09-29 | 2002-05-28 | Eastman Kodak Company | Method of forming a protective overcoat for imaged elements and related articles |
US6811937B2 (en) | 2001-06-21 | 2004-11-02 | Dsm Desotech, Inc. | Radiation-curable resin composition and rapid prototyping process using the same |
US6573011B1 (en) | 2001-12-21 | 2003-06-03 | Eastman Kodak Company | Label with curl and moisture resistant protective layer |
US6723402B2 (en) | 2001-12-21 | 2004-04-20 | Eastman Kodak Company | Protective layer for hydrophilic packaging material |
US6551766B1 (en) | 2002-03-27 | 2003-04-22 | Eastman Kodak Company | Process for scratch healing of motion picture films |
US7901863B2 (en) * | 2004-01-27 | 2011-03-08 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Photosensitive resin composition for laser engravable printing substrate |
KR101127328B1 (ko) * | 2004-03-09 | 2012-03-29 | 미츠비시 레이온 가부시키가이샤 | 활성 에너지선 경화성 코팅용 조성물 및 보호 피막 형성방법 |
US7166406B2 (en) * | 2004-05-05 | 2007-01-23 | Xerox Corporation | Prevention or reduction of thermal cracking on toner-based prints |
US20050250039A1 (en) * | 2004-05-05 | 2005-11-10 | Xerox Corporation | Overprint compositions for xerographic prinits |
US7727595B2 (en) * | 2004-10-25 | 2010-06-01 | Dow Corning Corporation | Coating compositions containing a carbinol functional silicone resin or an anhydride functional silicone resin |
US7423073B2 (en) * | 2004-11-23 | 2008-09-09 | Lexmark International, Inc. | Radiation curable compositions having improved flexibility |
US7571979B2 (en) * | 2005-09-30 | 2009-08-11 | Lexmark International, Inc. | Thick film layers and methods relating thereto |
US20070248890A1 (en) * | 2006-04-20 | 2007-10-25 | Inphase Technologies, Inc. | Index Contrasting-Photoactive Polymerizable Materials, and Articles and Methods Using Same |
TWI498395B (zh) * | 2008-03-11 | 2015-09-01 | 3M Innovative Properties Co | 硬塗層組合物 |
JP2009271259A (ja) * | 2008-05-02 | 2009-11-19 | Fujifilm Corp | レジストパターン用表面処理剤および該表面処理剤を用いたレジストパターン形成方法 |
CA2728525A1 (en) * | 2008-06-20 | 2009-12-23 | Akzo Nobel Coatings International B.V. | Flexible substrates having reduced shrinkage and curling |
CN102656233B (zh) * | 2009-05-01 | 2015-04-29 | 纳米系统公司 | 用于纳米结构体分散的官能化基质 |
JP5583210B2 (ja) | 2009-07-21 | 2014-09-03 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 硬化性組成物、フォトツールをコーティングする方法、及びコーティングされたフォトツール |
EP2478034A1 (en) | 2009-09-16 | 2012-07-25 | 3M Innovative Properties Company | Fluorinated coating and phototools made therewith |
US8420281B2 (en) * | 2009-09-16 | 2013-04-16 | 3M Innovative Properties Company | Epoxy-functionalized perfluoropolyether polyurethanes |
CN102686642B (zh) | 2009-09-16 | 2016-06-29 | 3M创新有限公司 | 氟化涂料和用其制作的底片 |
US9394461B2 (en) * | 2012-05-16 | 2016-07-19 | Universite De Haute-Alsace | Radiation radically and cationically curable composition, and method for preparing a hybrid sol-gel layer on a surface of a substrate using said composition |
GB201223064D0 (en) * | 2012-12-20 | 2013-02-06 | Rainbow Technology Systems Ltd | Curable coatings for photoimaging |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54127319A (en) * | 1978-03-13 | 1979-10-03 | Minnesota Mining & Mfg | Transparent film having video |
JPS5691233A (en) * | 1979-12-01 | 1981-07-24 | Agfa Gevaert Ag | Preparing protective layer for photography material |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3753755A (en) | 1971-04-26 | 1973-08-21 | Minnesota Mining & Mfg | Sheet material coated with heat hardenable tacky adhesive |
US4025407A (en) | 1971-05-05 | 1977-05-24 | Ppg Industries, Inc. | Method for preparing high solids films employing a plurality of curing mechanisms |
US4025348A (en) | 1974-05-10 | 1977-05-24 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin compositions |
US4049861A (en) | 1975-03-07 | 1977-09-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasion resistant coatings |
US4256828A (en) | 1975-09-02 | 1981-03-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photocopolymerizable compositions based on epoxy and hydroxyl-containing organic materials |
US4171979A (en) | 1976-11-01 | 1979-10-23 | Eastman Kodak Company | Method of treating scratched or abraded photographic elements with radiation-curable compositions comprising an acrylated urethane, an aliphatic ethylenically-unsaturated carboxylic acid and a multifunctional acrylate |
US4092173A (en) | 1976-11-01 | 1978-05-30 | Eastman Kodak Company | Photographic elements coated with protective overcoats |
US4101513A (en) | 1977-02-02 | 1978-07-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Catalyst for condensation of hydrolyzable silanes and storage stable compositions thereof |
US4156046A (en) | 1977-03-28 | 1979-05-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Ultraviolet radiation protective, abrasion resistant, bloom resistant coatings |
US4156035A (en) | 1978-05-09 | 1979-05-22 | W. R. Grace & Co. | Photocurable epoxy-acrylate compositions |
US4348462A (en) * | 1980-07-11 | 1982-09-07 | General Electric Company | Abrasion resistant ultraviolet light curable hard coating compositions |
CA1172790A (en) | 1980-11-24 | 1984-08-14 | Gerald M. Leszyk | Radiation curable composition including an acrylated urethane, and unsaturated carboxylic acid, a multifunctional acrylate and a siloxy-containing polycarbinol |
-
1982
- 1982-09-22 US US06/421,694 patent/US4426431A/en not_active Expired - Lifetime
-
1983
- 1983-08-09 DE DE8383902778T patent/DE3364713D1/de not_active Expired
- 1983-08-09 JP JP58502881A patent/JPS59501642A/ja active Granted
- 1983-08-09 EP EP83902778A patent/EP0119219B1/en not_active Expired
- 1983-08-09 WO PCT/US1983/001214 patent/WO1984001228A1/en active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54127319A (en) * | 1978-03-13 | 1979-10-03 | Minnesota Mining & Mfg | Transparent film having video |
JPS5691233A (en) * | 1979-12-01 | 1981-07-24 | Agfa Gevaert Ag | Preparing protective layer for photography material |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62229133A (ja) * | 1985-12-11 | 1987-10-07 | Konika Corp | 写真要素 |
JPH02179638A (ja) * | 1988-12-29 | 1990-07-12 | Konica Corp | 写真要素及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1984001228A1 (en) | 1984-03-29 |
JPH0449933B2 (ja) | 1992-08-12 |
US4426431A (en) | 1984-01-17 |
EP0119219A1 (en) | 1984-09-26 |
EP0119219B1 (en) | 1986-07-23 |
DE3364713D1 (en) | 1986-08-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS59501642A (ja) | 塗布用組成物ならびにそれを写真要素の修復処理および/または保護処理に使用する方法 | |
CA1172790A (en) | Radiation curable composition including an acrylated urethane, and unsaturated carboxylic acid, a multifunctional acrylate and a siloxy-containing polycarbinol | |
US4171979A (en) | Method of treating scratched or abraded photographic elements with radiation-curable compositions comprising an acrylated urethane, an aliphatic ethylenically-unsaturated carboxylic acid and a multifunctional acrylate | |
EP0188380B1 (en) | Protective coating for phototools | |
US4092173A (en) | Photographic elements coated with protective overcoats | |
US4668601A (en) | Protective coating for phototools | |
AU607318B2 (en) | Process for preparing photocured coatings | |
EP0275205A2 (en) | Method for making a flexible louvered plastic film with protective coatings and film produced thereby | |
JPH0313979B2 (ja) | ||
DE2207495A1 (de) | Flachdruckplatten und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
JP5671936B2 (ja) | ネガ型感光性樹脂組成物およびそれを用いた硬化膜 | |
JPS6140094B2 (ja) | ||
JP2002338720A (ja) | ハードコート膜、ハードコートフィルム、及び画像表示装置 | |
JP2003266606A (ja) | 硬化被膜付き透明基材 | |
JPS6338055B2 (ja) | ||
JPS6221150A (ja) | 写真材料 | |
JPH1143353A (ja) | 高分子被膜を有するガラス製品 | |
JP4539840B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物及びそれを用いた積層体の製造方法 | |
JPH04305450A (ja) | 防曇性表面を有するハードコート層の形成方法 | |
JPS6223043A (ja) | 写真材料 | |
JPH0685058B2 (ja) | 保護被覆層を有する写真要素 | |
JPS5994756A (ja) | 写真用支持体 | |
JPS60169849A (ja) | 写真層の保護用被覆組成物 | |
JPH02302488A (ja) | 防曇性組成物 | |
JPS61201250A (ja) | 保護被覆層を有する写真要素 |