JPS594664A - 電着塗料の製造法 - Google Patents
電着塗料の製造法Info
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- JPS594664A JPS594664A JP11427382A JP11427382A JPS594664A JP S594664 A JPS594664 A JP S594664A JP 11427382 A JP11427382 A JP 11427382A JP 11427382 A JP11427382 A JP 11427382A JP S594664 A JPS594664 A JP S594664A
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- dispersed varnish
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は水に分散されたマイカ粉と水分散型ワニスから
なる電着塗料の製造法に関する。さらに詳しくは、電気
泳動法により電気導体上に電着絶縁層を形成するのに用
いられる無機絶縁材料であるマイカ粉と有機絶縁材料で
ある水分散型ワニスと水とからなる電着塗料を製造する
に際し、それらを調合するまえに、あらかじめ水分散型
ワニスに限外p過または逆浸透処理を行ない、絶縁用マ
イカのバインダーとして好適な水分散型ワニスの液比抵
抗の調整と水分散型ワニス中の雑イオンを除去せしめる
ことを特徴とする電着塗料の製造法に関する。
なる電着塗料の製造法に関する。さらに詳しくは、電気
泳動法により電気導体上に電着絶縁層を形成するのに用
いられる無機絶縁材料であるマイカ粉と有機絶縁材料で
ある水分散型ワニスと水とからなる電着塗料を製造する
に際し、それらを調合するまえに、あらかじめ水分散型
ワニスに限外p過または逆浸透処理を行ない、絶縁用マ
イカのバインダーとして好適な水分散型ワニスの液比抵
抗の調整と水分散型ワニス中の雑イオンを除去せしめる
ことを特徴とする電着塗料の製造法に関する。
マイカ粉を単独で用いて電気導体上に電着させる方法で
は、形成される電着絶縁層の強度が充分でなく、電気導
体を電着塗料から取り出す際に電着絶縁層を形成してい
るマイカが流れ落ちる欠点があった。このため水分散型
ワニスを!イカ粉のバインダーとして用いることにより
電気絶縁層の機械的強度および電気的特性を向上させた
電着塗料およびその製造法が知られている(特開昭51
−89178号公報、特開昭51−114602号公報
、特開昭55−921298号公報参照)。
は、形成される電着絶縁層の強度が充分でなく、電気導
体を電着塗料から取り出す際に電着絶縁層を形成してい
るマイカが流れ落ちる欠点があった。このため水分散型
ワニスを!イカ粉のバインダーとして用いることにより
電気絶縁層の機械的強度および電気的特性を向上させた
電着塗料およびその製造法が知られている(特開昭51
−89178号公報、特開昭51−114602号公報
、特開昭55−921298号公報参照)。
このマイカ粉と水分散型ワニスからなる電着塗料を用い
て製造した電着絶縁層の機械的強度および電気的特性を
支配する要因は、主として電着絶縁層のマイカ含有率、
マイカ粉の大きさおよび電着絶縁層の含水率であり、い
ずれも電着塗料の調製段階で制御しうる。
て製造した電着絶縁層の機械的強度および電気的特性を
支配する要因は、主として電着絶縁層のマイカ含有率、
マイカ粉の大きさおよび電着絶縁層の含水率であり、い
ずれも電着塗料の調製段階で制御しうる。
しかしながら、マイカ粉と水分散型ワニスを共電着させ
るばあい、一般に水分散型ワニスの表面電荷密度の方が
マイカ粉のそれより大きく、シたがって電位は水分散型
ワニスの方がはるかに大きいこと、またマイカ粉の重量
が大きすぎることなどにより、電気泳動速度が極端に異
なり、その結果電着槽内の電着塗料と電着絶縁層の組成
が大きく食違ってくるという現象が生ずる。
るばあい、一般に水分散型ワニスの表面電荷密度の方が
マイカ粉のそれより大きく、シたがって電位は水分散型
ワニスの方がはるかに大きいこと、またマイカ粉の重量
が大きすぎることなどにより、電気泳動速度が極端に異
なり、その結果電着槽内の電着塗料と電着絶縁層の組成
が大きく食違ってくるという現象が生ずる。
本発明者らはこの欠点を解決する方法として、マイカ粉
と水分散型ワニスの電気泳動速度が同じであれば電着槽
内の電着塗料の組成と電気絶縁層の組成が一定になるこ
とから、マイカ粉を水に分散させたマイカ粉分散液と水
分散型ワニスの液比抵抗を同程度にして電気泳動速度を
同等にする方法を種々試みた。
と水分散型ワニスの電気泳動速度が同じであれば電着槽
内の電着塗料の組成と電気絶縁層の組成が一定になるこ
とから、マイカ粉を水に分散させたマイカ粉分散液と水
分散型ワニスの液比抵抗を同程度にして電気泳動速度を
同等にする方法を種々試みた。
その1例として、透析チューブあるいは電気透析法によ
り水分散型ワニスの液比抵抗を調整する方法を用いると
きは、水分散型ワニス中の雑イオンが除去できるため、
雑イオン中の負のイオンが水を随伴して正電極すなわち
電気導体へと泳動することがなくなり、その結果電着絶
縁層の含水率が低下し、マイカ粉が電気導体表面に密に
しかも平行に配列して電着絶縁層の機械的強度を向上せ
しめうろことが判明した。
り水分散型ワニスの液比抵抗を調整する方法を用いると
きは、水分散型ワニス中の雑イオンが除去できるため、
雑イオン中の負のイオンが水を随伴して正電極すなわち
電気導体へと泳動することがなくなり、その結果電着絶
縁層の含水率が低下し、マイカ粉が電気導体表面に密に
しかも平行に配列して電着絶縁層の機械的強度を向上せ
しめうろことが判明した。
しかしながら、透析チューブ法あるいは電気透析法では
水分散型ワニスの液比抵抗の調整および雑イオン除去に
長時間かかり、透析チューブを用いたばあいにはいわゆ
るバッチ方式となり多量の水分散型ワニスを処理するた
めには多くの人手を要すること、また透析チューブ自身
の強度の面から連続使用が困難であるという欠点があっ
た。
水分散型ワニスの液比抵抗の調整および雑イオン除去に
長時間かかり、透析チューブを用いたばあいにはいわゆ
るバッチ方式となり多量の水分散型ワニスを処理するた
めには多くの人手を要すること、また透析チューブ自身
の強度の面から連続使用が困難であるという欠点があっ
た。
本発明者らは多量の水分散型ワニスの液比抵抗の調整お
よび雑イオンの除去を短時間でかつ連続的に行なうこと
ができる方法として、限外p過あるいは逆浸透法による
方法を見出した。
よび雑イオンの除去を短時間でかつ連続的に行なうこと
ができる方法として、限外p過あるいは逆浸透法による
方法を見出した。
すなわち本発明は、マイカ粉と水分散型ワニスを水に分
散するまえに、マイカ粉と水分散型ワニスの電気泳動速
度を同等にするため、水分散型ワニスの液比抵抗の調整
および雑イオンの除去を限外−過または逆浸透処理で行
なうことを特徴とする電着塗料の製造法に関する。
散するまえに、マイカ粉と水分散型ワニスの電気泳動速
度を同等にするため、水分散型ワニスの液比抵抗の調整
および雑イオンの除去を限外−過または逆浸透処理で行
なうことを特徴とする電着塗料の製造法に関する。
本発明における限外−過あるいは逆浸透処理に用いる透
過膜は公知のものでよい。また水分散型ワニスの濃度は
5〜60重量%が適当であり、液比抵抗は1000〜5
000Ωonが適当である。
過膜は公知のものでよい。また水分散型ワニスの濃度は
5〜60重量%が適当であり、液比抵抗は1000〜5
000Ωonが適当である。
つぎに図面に基づき本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明に用いる水分散型ワニ\スの液比抵抗の
調整および雑イオン除去のための処理装置の概略図であ
る。(1)は水分散型ワニスを入れる原液タンク、(2
)は水分散型ワニス、(3)は水分散型ワニス用の配管
、(4→は水分散型ワニスを流すためのポンプ、(→は
再生透過液をタンク(1)に戻すためのポンプ、cs、
iは透過膜に流入する水分散型ワニスの流量および圧力
を調整する弁、φすは透過膜から流出する水分散型ワニ
スの流量および圧力を調整する弁、(6→は透過膜入口
の圧力計、(6→は透過膜出口の圧力計、(7)は透過
膜、(8)は透過水再生のためのイオン交換樹脂、(9
)は透過液の流れ、(10)は再生透過液を入れるタン
ク、(II)は再生透過液である。
調整および雑イオン除去のための処理装置の概略図であ
る。(1)は水分散型ワニスを入れる原液タンク、(2
)は水分散型ワニス、(3)は水分散型ワニス用の配管
、(4→は水分散型ワニスを流すためのポンプ、(→は
再生透過液をタンク(1)に戻すためのポンプ、cs、
iは透過膜に流入する水分散型ワニスの流量および圧力
を調整する弁、φすは透過膜から流出する水分散型ワニ
スの流量および圧力を調整する弁、(6→は透過膜入口
の圧力計、(6→は透過膜出口の圧力計、(7)は透過
膜、(8)は透過水再生のためのイオン交換樹脂、(9
)は透過液の流れ、(10)は再生透過液を入れるタン
ク、(II)は再生透過液である。
この処理装置のタンク(1)に水分散型ワニスとイオン
交換水を入れ、イオン交換水で希釈された水分散型ワニ
スはポンプ◇→により透過膜(7)に送られ、透過膜(
7)により濃縮液と透過液に分離される。
交換水を入れ、イオン交換水で希釈された水分散型ワニ
スはポンプ◇→により透過膜(7)に送られ、透過膜(
7)により濃縮液と透過液に分離される。
濃縮された水分散型ワニスはタンク(1)に戻され、一
方透過液はイオン交換樹脂(8)で再生されてタンク0
0)に入る。タンクα0)の再生透過水(]1)はポン
プ(4υでタンク(1)に戻される。これを数回繰り返
すことで水分散型ワニスの液比抵抗の調整と雑イオンの
除去を行なうことができる。
方透過液はイオン交換樹脂(8)で再生されてタンク0
0)に入る。タンクα0)の再生透過水(]1)はポン
プ(4υでタンク(1)に戻される。これを数回繰り返
すことで水分散型ワニスの液比抵抗の調整と雑イオンの
除去を行なうことができる。
つぎに本発明に用いる水分散型ワニスは、たと、tハエ
ヒ:l−) 1001 (シェル化学社製のエポキシ樹
脂)100部、テトラヒドロ無水フタル酸25部および
エチレングリコール6部から酸価6o〜6oの酸付加エ
ポキシ樹脂を調製し、この樹脂をアンモニアを含む温水
中に分散させたのちチッ素ガスを′ 吹き込むことによ
りえられる。
ヒ:l−) 1001 (シェル化学社製のエポキシ樹
脂)100部、テトラヒドロ無水フタル酸25部および
エチレングリコール6部から酸価6o〜6oの酸付加エ
ポキシ樹脂を調製し、この樹脂をアンモニアを含む温水
中に分散させたのちチッ素ガスを′ 吹き込むことによ
りえられる。
つぎに実施例および比較例をあげて本発明の詳細な説明
する。なお、以下の実施例および比較例では、pH7,
0、不揮発分8.0%、液比抵抗250flomのもの
を用いた。
する。なお、以下の実施例および比較例では、pH7,
0、不揮発分8.0%、液比抵抗250flomのもの
を用いた。
実施例1
水分散型ワニス501と5MΩam以上のイオン交換水
60ノをタンク(1)に入れ、約12!/分の流速で透
過膜を通過させ、濃縮液はタンク(1)に戻し、約2!
/1o分の割合で透過される透過膜を1時間ごとに約1
0ノの割合でタンク(1)に戻すことを約、6回繰り返
したのち、透過液をタンク(1)に戻すことを停止し、
余分なイオン交換水を透過させて、9時間後にpH7,
0、不揮発分7.90%、液比抵抗2000Ωonの水
分散型ワニスをえた。
60ノをタンク(1)に入れ、約12!/分の流速で透
過膜を通過させ、濃縮液はタンク(1)に戻し、約2!
/1o分の割合で透過される透過膜を1時間ごとに約1
0ノの割合でタンク(1)に戻すことを約、6回繰り返
したのち、透過液をタンク(1)に戻すことを停止し、
余分なイオン交換水を透過させて、9時間後にpH7,
0、不揮発分7.90%、液比抵抗2000Ωonの水
分散型ワニスをえた。
この水分散型ワニス20部に対し、イオン交換水テヨく
水洗いした65メツシユパスのマイカ粉ヲ80部混合し
、イオン交換水を加えてよく攪拌し、均一に分散した不
揮発分15%の電着塗料を調製した。
水洗いした65メツシユパスのマイカ粉ヲ80部混合し
、イオン交換水を加えてよく攪拌し、均一に分散した不
揮発分15%の電着塗料を調製した。
この電着塗料中にあらかじめ形成した亀甲形のコイルを
浸漬し、極間距離50omで対向電極との間に直流電圧
100vを20秒間印加して、コイル上に電着絶縁層を
形成した。形成された絶縁層の膜厚および組成を調べた
結果を第1表に示す。
浸漬し、極間距離50omで対向電極との間に直流電圧
100vを20秒間印加して、コイル上に電着絶縁層を
形成した。形成された絶縁層の膜厚および組成を調べた
結果を第1表に示す。
実施例2
実施例1で調製した水分散型ワニス60部およびマイカ
粉70部を用いたほかは実施例1と同様の方法によりコ
イルに絶縁層を形成した。えられた絶縁。層の膜厚およ
び組成を第1表に示す。
粉70部を用いたほかは実施例1と同様の方法によりコ
イルに絶縁層を形成した。えられた絶縁。層の膜厚およ
び組成を第1表に示す。
実施例6
実施例1で調製した水分散型ワニス10部およびマイカ
粉90部番用いたほかは実施例1と同様の方法により絶
縁層を形成した。えられた絶縁層の膜厚および組成を第
1表に示す。
粉90部番用いたほかは実施例1と同様の方法により絶
縁層を形成した。えられた絶縁層の膜厚および組成を第
1表に示す。
比較例1
pH7,0、不揮発分8.0%、液比抵抗250Ωon
の前記水分散型ワニス601を数個の透析チューブ(v
r頃コGチューブ:白井松器械製)に入れ、5MΩon
以上のイオン交換水を60!入れた6つの容器に透析チ
ューブに入れた水分散型ワニスを101ずつ浸漬し、9
6時間後にpH6,8、不揮発分7.5%、液比抵抗2
000Ωomの水分散型ワニスをえた。
の前記水分散型ワニス601を数個の透析チューブ(v
r頃コGチューブ:白井松器械製)に入れ、5MΩon
以上のイオン交換水を60!入れた6つの容器に透析チ
ューブに入れた水分散型ワニスを101ずつ浸漬し、9
6時間後にpH6,8、不揮発分7.5%、液比抵抗2
000Ωomの水分散型ワニスをえた。
この水分散型ワニス20部に対し、イオン交換水でよく
水洗いした65メツシユバスのマイカ粉80mを混合し
たのち、実施例1と同様な方法でコイルに絶縁層を形成
した。えられた絶縁層の膜厚および組成を第1表に示す
。
水洗いした65メツシユバスのマイカ粉80mを混合し
たのち、実施例1と同様な方法でコイルに絶縁層を形成
した。えられた絶縁層の膜厚および組成を第1表に示す
。
比較例2
比較例1で調製した水分散型ワニス10に対し、イオン
交換水でよく水洗いした65ンツシユバスのマイカ粉9
0部を混合したのち、実施例、1と何様な方法でコイル
に絶縁層を形成した。えられた絶縁層の膜厚および組成
を第1表に示す。
交換水でよく水洗いした65ンツシユバスのマイカ粉9
0部を混合したのち、実施例、1と何様な方法でコイル
に絶縁層を形成した。えられた絶縁層の膜厚および組成
を第1表に示す。
第1図は本発明に用いる水分散型ワニスの処理装置の概
略図である。 (図面の符号) (1):タ ンク (2):水分散型ワニス (8):水分散型ワニスの流れ α→、@す:ポンプ (5→、(5n:弁 (6,9律痔:圧力計 (7):透過膜 (8): イオン交換樹脂 (9):透過液の流れ 00):タ ンク 01):再生透過液
略図である。 (図面の符号) (1):タ ンク (2):水分散型ワニス (8):水分散型ワニスの流れ α→、@す:ポンプ (5→、(5n:弁 (6,9律痔:圧力計 (7):透過膜 (8): イオン交換樹脂 (9):透過液の流れ 00):タ ンク 01):再生透過液
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)水分散型ワニスに限外p過または逆浸透処理を施
して水分散型ワニスの液比抵抗を高めかつ水分散型ワニ
ス中の雑イオンを除去し、ついでこれとマイカ粉と水と
を調合することを特徴とする電着塗料の製造法。 (2) 前記水分散型ワニスがエポキシエステル系水分
散型ワニスであることを特徴とする特許請求の範囲第(
1)項記載の電着塗料の製造法。 (8)前記水分散型ワニスの原液タンクと限外声過装置
もしくは逆浸透処理装置の循環回路を形成し、水分散型
ワニスの一部を限外−過もしくは逆浸透処理を行なって
濃縮液と透過液に分離し、濃縮液は原液タンクに戻し、
透過液はイオン交換樹脂により再生して原液タンクに戻
すことに、より、水分散型ワニスが任意の液比抵抗にな
り、水分散型ワニス中の雑イオンが除去できるまでこの
操作を繰り返すことを特徴とする特許請求の範囲第(1
)項記載の電着塗料の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11427382A JPS594664A (ja) | 1982-06-29 | 1982-06-29 | 電着塗料の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11427382A JPS594664A (ja) | 1982-06-29 | 1982-06-29 | 電着塗料の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS594664A true JPS594664A (ja) | 1984-01-11 |
JPH0224869B2 JPH0224869B2 (ja) | 1990-05-30 |
Family
ID=14633686
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11427382A Granted JPS594664A (ja) | 1982-06-29 | 1982-06-29 | 電着塗料の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS594664A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60159373U (ja) * | 1984-03-30 | 1985-10-23 | 横河電機株式会社 | 洗浄機構を有する電解質成分測定装置 |
JPS62132977A (ja) * | 1985-12-04 | 1987-06-16 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 水分散性ワニスの濃縮方法 |
JPS63100459A (ja) * | 1986-10-17 | 1988-05-02 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 製版方法 |
US5264902A (en) * | 1990-02-07 | 1993-11-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming device |
AT404434B (de) * | 1997-06-12 | 1998-11-25 | Frings Recycling Anlagen Gmbh | Verfahren zum aufbereiten eines für eine elektrophoretische lackierung eingesetzten elektrolyten |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5189178A (ja) * | 1975-02-03 | 1976-08-04 | Zetsuentainoseizohoho | |
JPS5252878A (en) * | 1975-10-28 | 1977-04-28 | Kurita Water Ind Ltd | Desalting apparatus using reverse osmotic membrane |
JPS5884997A (ja) * | 1981-11-13 | 1983-05-21 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 限外「ろ」過方法 |
-
1982
- 1982-06-29 JP JP11427382A patent/JPS594664A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5189178A (ja) * | 1975-02-03 | 1976-08-04 | Zetsuentainoseizohoho | |
JPS5252878A (en) * | 1975-10-28 | 1977-04-28 | Kurita Water Ind Ltd | Desalting apparatus using reverse osmotic membrane |
JPS5884997A (ja) * | 1981-11-13 | 1983-05-21 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 限外「ろ」過方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60159373U (ja) * | 1984-03-30 | 1985-10-23 | 横河電機株式会社 | 洗浄機構を有する電解質成分測定装置 |
JPS62132977A (ja) * | 1985-12-04 | 1987-06-16 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 水分散性ワニスの濃縮方法 |
JPS63100459A (ja) * | 1986-10-17 | 1988-05-02 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 製版方法 |
US5264902A (en) * | 1990-02-07 | 1993-11-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming device |
AT404434B (de) * | 1997-06-12 | 1998-11-25 | Frings Recycling Anlagen Gmbh | Verfahren zum aufbereiten eines für eine elektrophoretische lackierung eingesetzten elektrolyten |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0224869B2 (ja) | 1990-05-30 |
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