JPS5940199B2 - 安定な高濃度界面活性剤水溶液の製造法 - Google Patents

安定な高濃度界面活性剤水溶液の製造法

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JPS5940199B2
JPS5940199B2 JP2941477A JP2941477A JPS5940199B2 JP S5940199 B2 JPS5940199 B2 JP S5940199B2 JP 2941477 A JP2941477 A JP 2941477A JP 2941477 A JP2941477 A JP 2941477A JP S5940199 B2 JPS5940199 B2 JP S5940199B2
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JP
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aqueous solution
surfactant
sulfonic acid
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stable
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JP2941477A
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順亮 美濃
勝彦 出口
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Kao Corp
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Kao Soap Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は安定な高濃度界面活性剤水溶液の製造法に関す
る。
一般に界面活性剤を高濃度に水に溶解して透明で安定な
水溶液とすることは難しく、例えばスルホン酸型又はサ
ルフェート型陰イオン性界面活性剤やスルホン酸型両性
界面活性剤では30%以上の濃度の透明で安定な水溶液
を作ることは一般的に困難で、たとえ溶解せしめること
が出来ても高温或いは低温に晒すことによつて分離を生
じ、溶液の濁りが発生しその商品価値を著しく低下せし
める。
その為一般にエタノーノレ、尿素、パラトルエンスルホ
ン酸塩、安息香酸塩などの可溶化剤を大量に配合するこ
とによつて解決を得ているが、十分な安定性を得る為に
はかなり多量の添加を必要とし、さらにこれらの可溶化
剤自身は、一般に配合組成物本来の性能に関与せず、配
合組成物を安定に保つためにのみ使われているものであ
り、本来の所要性能に対するコスト・パフォーマンスは
著しく低くなるのが実情であつたo以上のような実情に
鑑み、本発明者らはこのような可溶化剤を使用すること
なくこれらの界面活性剤を高濃度に透明安定に溶解し得
る方法を見出すべく研究の結果、下記の一般式(1)で
表わされるスルホン酸型両性界面活性剤にある特定比率
で jスルホン酸型又はサルフエート型の陰イオン性界
面活性剤を添加して水溶液とすることによつて従来の界
面活性剤にみられる溶解性からは予想外の水に対する優
れた溶解性、安定性を発揮することを見出し本発明を完
成した。
即ち、本発明は一般式(1) (式中R1、R2、R3はアルキル基、またはヒドロキ
シアルキル基のいづれかで、それらの炭素数 !は6〈
R1+R2+R3く16である。
一方R4は炭素数2から4の直鎖のアルキレン基、また
はヒドロキシアルキレン基からなる。)で表わされるス
ルホン酸型両性界面活性剤と、スルホン酸型又はサルフ
エート型陰イオン性界面活性剤とを両者の比が重量基準
で98:2ないし80:20になる割合で水中に溶解さ
せ、全界面活性剤濃度が30重量%以上の水溶液を得る
ことを特徴とする安定な高濃度界面活性剤水溶液の製造
法である。本発明で用いる前記一般式(1)で表わされ
るスルホン酸型両性界面活性剤はR4が直鎖であること
を特徴とし、これが陰イオン界面活性剤との相互作用を
大ならしめている。
このスルホン酸型両性界面活性剤は三級アルキルアミン
あるいはα・β−アルキレンエポキシドを原料とするα
−ヒドロキシアルキルジアルキルアミンにアルカンスル
トンを反応させることによつて、またはエピクロルヒド
リンを反応せしめた後、硫酸化すること等によつて得る
ことができる。又、本発明に使用されるスルホン酸型又
はサルフエート型陰イオン性界面活性剤は例えば炭素数
6から20の直鎖高級アルコール硫酸エステル塩、炭素
数6から24のオキソ高級アルコール硫酸エステル塩、
二級高級アルコール硫酸エステル塩、高級α−オレフイ
ンスルホン酸塩及び高級パラフインスルホン酸塩、炭素
数12から20の高級アルキルベンゼンスルホン酸塩、
炭素数6から18の高級アルコールに1から6モルのエ
チレンオキシドを付加し、硫酸エステル化したポリオキ
シエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩などが挙げ
られる。
このような本発明の方法によれば−5℃という低温度で
両性界面活性剤と陰イオン界面活性剤の和として30重
量%以上50重量%までの高濃度の水溶液としてもなお
安定で透明な水溶液とすることができ、0℃で安定に溶
解しうるという条件では55重量%の高濃度の水溶液を
得ることができる。
このような本発明の著しい効果はスルホン酸型両性界面
活性剤の双極子型イオン部が陰イオン性界面活性剤の陰
イオン部と特異な相互作用を持つことによつて水とのイ
オン水和を安定なものとし、驚くべき大きな水溶性を示
すものと推定される。
また、一般に界面活性剤は硬水溶液中で水に難溶の金属
塩を形成したり、塩析現象を示してその本来の作用を示
さなくなるため、トリポリリン酸塩、有機カルボン酸塩
等のキレート剤を配合することが必要である。しかしな
がら本発明の場合には、スルホン酸型両性界面活性剤が
むしろ塩の存在でその溶解度を増すという特異な性質を
有し、また塩が共存することによつてもその臨界ミセル
濃度がほとんど変らず、硬水中でも何らその界面活性等
の作用が低下することなく本来の機能を発揮することが
できるという特徴を有する。また従来、界面活性剤溶液
を安定ならしめる目的でカリウム塩やアンモニウム塩を
対イオンとする界面活性剤を使用しなければならなかつ
たが、本発明では塩の種類を問わないことも一つの特徴
となる。
このような本発明の特有の効果はスルホン酸型両性界面
活性剤に対しスルホン酸型又はサルフエート型陰イオン
性界面活性剤を重量比で98:2ないし80:20の割
合で添加した場合に得られ、この割合が95:5ないし
85:15の場合に一層優れた効果を発揮する。
本発明の方法においては可溶化剤は必ずしも必要としな
いが、メタノール、エタノール等の低級アルコール、エ
チレングリコール、バラトルエンスルホン酸、尿素等の
可溶化剤を少量添加すれば全界面活性剤濃度を高く安定
に配合することを可能とする。
可溶化剤、例えばエタノールの配合量は界面活性剤の種
類によつても多少異なるが、1から20重量%まで配合
される。20重量%以上の配合は許されるが、実用的に
は無意味である。
次に実施例をもつて本発明を説明する。実施例 1 ソジウムドデシル硫酸エステル(Cl2AS)とジメチ
ルドデシルアンモニオプロパンスルホン酸(Cl2SB
)との混合比を変えて20%エタノール水に溶解し、−
5℃安定溶解域を求めた。
第1図に示す結果となり、スルホン酸型両性界面活性剤
とソジウムドデシル硫酸エステルとが98:2から80
:20(重量比)の間著しく水に対する溶解性が増大し
、透明・安定な水溶液が得られるという低温安定化作用
が明らかとなつた。実施例 2 ソジウムドデシル硫酸エステル(Cl2AS)、ソジウ
ムドデシルエトキシエーテル硫酸エステル(エトキシ基
の平均付加モル数2.5、Cl2ES育)及びジメチル
ドデシルアンモニオプロパンスルホン酸(Cl2SB)
の三成分系について、全有効成分濃度を40%とし、可
溶化剤としてエタノール1%及び残余の59%を水とす
る液体洗浄剤の5℃における安定性を観察し、第2図の
結果を得た。
尚透明溶解部分を更に−10℃にて10日間観察したが
異常は認められず、スルホン酸型両性界面活性剤を主剤
とする系が安定に高濃度化せしめることが可能なること
を確認した。実施例 3 直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム(アルキル
の平均鎖長11.9、LAS)、ソジウムドデシルエト
キシエーテル硫酸エステル(エトキシ基の平均付加モル
数2.5、Cl2ES?)及びジエチルアルキルアンモ
ニオプロパンスルホン酸(アルキルは平均鎖長12.5
、C…舶SB)の三成分系についてエタノール1%及び
残余の59%を水とする液体洗浄剤の−5℃における安
定性を観察し、第3図の結果を得た。
尚透明溶解部分を更に−10℃にて10日間観察したが
異常は認められず、スルホン酸型両性界面活性剤の性能
を確認した。実施例 4 次の割合から成る界面活性剤水溶液を調製した。
この水溶液を−5℃及び−10℃に放置したところ、透
明に溶解した状態で濁り等を生じなかつた。又、この処
方の洗浄性及び起泡性も優れていた。
【図面の簡単な説明】
第1図はソジウムドデシル硫酸エステル (Cl2AS)とジメチルドデシルアンモニオプロパン
スルホン酸(Cl2SB)との混合比による安定溶解域
を示す図、第2図はソジウムドデシル硫酸エステル(C
l2AS)、ソジウムドデシルエトキシエーテル硫酸エ
ステル(Cl2ES丁万)及びジメチルドデシルアンモ
ニオプロパンスルホン酸(Cl2SB)の三成分系の安
定性を示す相図、第3図は直鎖アルキルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウム(LAS)、ソジウムドデシルエトキシ
エーテル硫酸エステル(Cl2ES有)及びエチルアル
キルアンモニオプロパンスルホン酸(C了SB)の三成
分系の安定性を示す相図である。 A・・・・・・二層分離域、B・・・・・・安定溶解域
、C・・・・・・ゲル域。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I )(式中R_
    1、R_2、R_3はアルキル基、またはヒドロキシア
    ルキル基のいづれかで、それらの炭素数は6≦R_1+
    R_2+R_3≦16である。 一方R_4は炭素数2から4の直鎖のアルキレン基、ま
    たはヒドロキシアルキレン基からなる。)で表わされる
    スルホン酸型両性界面活性剤とスルホン酸型又はサルフ
    ェート型陰イオン性界面活性剤とを両者の比が重量基準
    で98:2ないし80:20になる割合で水中に溶解さ
    せ、全界面活性剤の濃度が30重量%以上の水溶液を得
    ることを特徴とする安定な高濃度界面活性剤水溶液の製
    造法。2 スルホン酸型両性界面活性剤と陰イオン性界
    面活性剤の重量比が95:5ないし85:15である特
    許請求の範囲第1項記載の安定な高濃度界面活性剤水溶
    液の製造法。 3 一般式( I )においてR_4が炭素数3の直鎖ア
    ルキレン基である特許請求の範囲第1項又は第2項記載
    の安定な高濃度界面活性剤水溶液の製造法。 4 スルホン酸型又はサルフェート型陰イオン性界面活
    性剤が高級アルコール硫酸エステル塩、α−オレフィン
    スルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルカ
    ンスルホン酸塩又はポリオキシエチレンアルキエーテル
    硫酸エステル塩のいずれかである特許請求の範囲第1項
    又は第2項又は第3項記載の安定な高濃度界面活性剤水
    溶液の製造法。
JP2941477A 1977-03-17 1977-03-17 安定な高濃度界面活性剤水溶液の製造法 Expired JPS5940199B2 (ja)

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