JPS5936367Y2 - 両面研摩装置 - Google Patents
両面研摩装置Info
- Publication number
- JPS5936367Y2 JPS5936367Y2 JP1981044623U JP4462381U JPS5936367Y2 JP S5936367 Y2 JPS5936367 Y2 JP S5936367Y2 JP 1981044623 U JP1981044623 U JP 1981044623U JP 4462381 U JP4462381 U JP 4462381U JP S5936367 Y2 JPS5936367 Y2 JP S5936367Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier
- wafer
- holding hole
- sun gear
- surface plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981044623U JPS5936367Y2 (ja) | 1981-03-31 | 1981-03-31 | 両面研摩装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1981044623U JPS5936367Y2 (ja) | 1981-03-31 | 1981-03-31 | 両面研摩装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57157453U JPS57157453U (OSRAM) | 1982-10-02 |
| JPS5936367Y2 true JPS5936367Y2 (ja) | 1984-10-06 |
Family
ID=29841545
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1981044623U Expired JPS5936367Y2 (ja) | 1981-03-31 | 1981-03-31 | 両面研摩装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5936367Y2 (OSRAM) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5151800B2 (ja) * | 2008-08-20 | 2013-02-27 | 信越半導体株式会社 | 両面研磨装置用キャリア及びこれを用いた両面研磨装置並びに両面研磨方法 |
| JP5212041B2 (ja) * | 2008-11-19 | 2013-06-19 | 信越半導体株式会社 | 両面研磨装置用キャリア及びこれを用いた両面研磨装置並びに両面研磨方法 |
-
1981
- 1981-03-31 JP JP1981044623U patent/JPS5936367Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57157453U (OSRAM) | 1982-10-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3561538B2 (ja) | 半導体の研磨機、研磨台及び研磨方法 | |
| KR100457718B1 (ko) | 실리콘웨이퍼의제조방법과그장치 | |
| US5997385A (en) | Method and apparatus for polishing semiconductor substrate | |
| JP2674730B2 (ja) | 半導体ウエハを平面化する装置及び方法、及び研磨パッド | |
| JP3925580B2 (ja) | ウェーハ加工装置および加工方法 | |
| JP3595011B2 (ja) | 研磨制御を改善した化学的機械的研磨装置 | |
| JPH10180624A (ja) | ラッピング装置及び方法 | |
| JPS5936367Y2 (ja) | 両面研摩装置 | |
| JP2002217149A (ja) | ウエーハの研磨装置及び研磨方法 | |
| JP3821947B2 (ja) | ウェーハ研磨装置及びウェーハ研磨方法 | |
| JPS6365473B2 (OSRAM) | ||
| JP3779104B2 (ja) | ウェーハ研磨装置 | |
| JPH07156062A (ja) | ラッピングキャリア | |
| JP3587505B2 (ja) | 研磨用キャリア | |
| JP2001030161A (ja) | 研磨加工装置のキャリア | |
| JPS60259372A (ja) | 両面ポリツシング方法 | |
| JP2558864Y2 (ja) | ラッピング砥石定盤 | |
| JPS6251226A (ja) | 研磨方法 | |
| JPH10256201A (ja) | 半導体の製造方法 | |
| JP3874233B2 (ja) | 片面鏡面ウェーハ | |
| JP2593474B2 (ja) | ウエハ研摩装置 | |
| JP4103106B2 (ja) | 研磨布 | |
| JPH03196965A (ja) | 半導体ウェーハの研磨方法 | |
| JPH07112360A (ja) | 半導体ウェーハの研磨方法 | |
| JP2004034285A (ja) | 薄片状の工作物の加工法 |