JPS5936245A - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
- Publication number
- JPS5936245A JPS5936245A JP14609482A JP14609482A JPS5936245A JP S5936245 A JPS5936245 A JP S5936245A JP 14609482 A JP14609482 A JP 14609482A JP 14609482 A JP14609482 A JP 14609482A JP S5936245 A JPS5936245 A JP S5936245A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive
- compd
- formula
- cyclized
- solvents
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/008—Azides
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、感光性組成物に関するものである。
さらに詳しく述べるならば、本発明は新規な感光性芳香
族アジド化合物と、それによって光化学的に硬化または
溶剤に不溶化し得るポリマーとを含む感光性組成物に関
するものである。
族アジド化合物と、それによって光化学的に硬化または
溶剤に不溶化し得るポリマーとを含む感光性組成物に関
するものである。
アジド化合物の感光性およびそれをフォトレジスト用の
感光性組成物に利用することは公知に属する。しかしな
がら従来知られている、感光性成分としてアジド化合物
を、環化ポリインプレ／ゴムやノボラック樹脂などのフ
ィルム形成用ポリマーと組み合わせたものは、いずれも
光硬化性が弱く、感光性の低い組成物しか得られなかっ
た。このため、紫外線の照射量を増したり、増感剤を添
加したり、感光性アンド化合物の添加量を増したりする
必要があシ、実用上程々の問題があった。
感光性組成物に利用することは公知に属する。しかしな
がら従来知られている、感光性成分としてアジド化合物
を、環化ポリインプレ／ゴムやノボラック樹脂などのフ
ィルム形成用ポリマーと組み合わせたものは、いずれも
光硬化性が弱く、感光性の低い組成物しか得られなかっ
た。このため、紫外線の照射量を増したり、増感剤を添
加したり、感光性アンド化合物の添加量を増したりする
必要があシ、実用上程々の問題があった。
本発明の目的はすぐれた感光性、光硬化性を有する感光
性組成物を提供することにある。
性組成物を提供することにある。
本発明者らは、一般式（Ｉ）、（ＩＦ）またはａ）二Ｃ
Ｈ（ＯＨ） ■ 金物が紫外線に対し、著しい感光性を示し、特にを見い
出して本発明を完成した。
Ｈ（ＯＨ） ■ 金物が紫外線に対し、著しい感光性を示し、特にを見い
出して本発明を完成した。
本発明の感光性組成物に用いられる芳香族アジド化合物
は、従来の文献に記載の無い新規な化合物であり、従っ
てその光化学的利用、例えば、写真、複写、製版材料お
よび感光性樹脂などの用途における利用に関しては全く
知られていなかった。
は、従来の文献に記載の無い新規な化合物であり、従っ
てその光化学的利用、例えば、写真、複写、製版材料お
よび感光性樹脂などの用途における利用に関しては全く
知られていなかった。
上記一般式で示される構造を有し、本発明組成物に使用
される芳香族アジド化合物には、次表に挙げるようなも
のがある。この表には、アジド化合物のエタノール溶液
中での紫外線吸収極大波長も併せ示した。
される芳香族アジド化合物には、次表に挙げるようなも
のがある。この表には、アジド化合物のエタノール溶液
中での紫外線吸収極大波長も併せ示した。
本発明の感光性組成物に使用される芳香族アジド化合物
は、アジドベンズアルデヒドもしくはアジドシンナムア
ルデヒド類とインデンもしくはフルオレン系炭化水素と
を縮合させることによって得ることができる。
は、アジドベンズアルデヒドもしくはアジドシンナムア
ルデヒド類とインデンもしくはフルオレン系炭化水素と
を縮合させることによって得ることができる。
前記一般式の芳香族アジド化合物によって、光化学的に
硬化または溶剤に不溶化し得るポリマーとしては、ノボ
ラック樹脂、ポリビニルフェノールなどのフェノール樹
脂、天然ゴム、環化天然ゴムなどの変性ゴム、ポリブタ
ジェン・ポリイソプレン、環化ポリブタジェン、環化ポ
リイソプレンスチレン・ブタジェンゴムなどの合成ゴム
、並びにポリスチレン、ヨウ素化ポリスチレン、ポリビ
ニルブチラール、ポリメチルメタク、リレート、ポリグ
リシジルメタクリレート、ポリメテルイソプロペニルゲ
トンなどの合成高分子化合物などが挙げられる。
硬化または溶剤に不溶化し得るポリマーとしては、ノボ
ラック樹脂、ポリビニルフェノールなどのフェノール樹
脂、天然ゴム、環化天然ゴムなどの変性ゴム、ポリブタ
ジェン・ポリイソプレン、環化ポリブタジェン、環化ポ
リイソプレンスチレン・ブタジェンゴムなどの合成ゴム
、並びにポリスチレン、ヨウ素化ポリスチレン、ポリビ
ニルブチラール、ポリメチルメタク、リレート、ポリグ
リシジルメタクリレート、ポリメテルイソプロペニルゲ
トンなどの合成高分子化合物などが挙げられる。
これらのポリマー類を前記一般式で表わされる感光性ア
ジド化合物とともに溶剤に溶解して感光性組成物とする
。溶剤としては、組成物の種類、用途などによって、例
えば、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなど
のケトン類、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭
化水素、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブアセテートなどのセロソルブアセテート類、エチルセ
ロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ類、酢酸
ブチル、酢酸アミルなどの酢酸エステル、およびジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどから選ぶこ
とができる。
ジド化合物とともに溶剤に溶解して感光性組成物とする
。溶剤としては、組成物の種類、用途などによって、例
えば、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなど
のケトン類、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭
化水素、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソル
ブアセテートなどのセロソルブアセテート類、エチルセ
ロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ類、酢酸
ブチル、酢酸アミルなどの酢酸エステル、およびジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどから選ぶこ
とができる。
上記アジド化合物は、ポリマーに対し５〜１ｏ。
重量％の範囲の量を混合するのが好ましく、１０〜５０
重量％の範囲の量混合するのがより好ましい。
重量％の範囲の量混合するのがより好ましい。
以下実施例をもって本発明をより詳しく説明する。
実施例 １
１式の化合物（１−４’−アジドベンジリデンインデン
）１重量部をポリ−ｐ−ビニルフェノール（丸善石油製
マルゼン樹脂Ｍ）５重量部と共にメチルセロソルブアセ
テート２５重量部に溶がし、感光液を作製した。この感
光液を、上部に酸化膜が形成されたシリコンウェーハ上
に回転塗布し、乾燥して、約０．９μｍの感光膜を形成
した。つづいて、この基板を５００Ｗの水銀灯を用いて
、クロムマスクを介して、２秒間露光した。露光層を、
テトラメチルアンモニウムヒドロキサイドの２％水溶液
で現像し、未露光部の感光膜を溶解除去したところ、１
μｍ幅のラインと１μｍ幅のスペーヘ スの繰り返し
パターンが形成された。
）１重量部をポリ−ｐ−ビニルフェノール（丸善石油製
マルゼン樹脂Ｍ）５重量部と共にメチルセロソルブアセ
テート２５重量部に溶がし、感光液を作製した。この感
光液を、上部に酸化膜が形成されたシリコンウェーハ上
に回転塗布し、乾燥して、約０．９μｍの感光膜を形成
した。つづいて、この基板を５００Ｗの水銀灯を用いて
、クロムマスクを介して、２秒間露光した。露光層を、
テトラメチルアンモニウムヒドロキサイドの２％水溶液
で現像し、未露光部の感光膜を溶解除去したところ、１
μｍ幅のラインと１μｍ幅のスペーヘ スの繰り返し
パターンが形成された。
１式のアジド化合物は、等モル量の４−アジド又°゛
ペンヅアルデヒドとインデンのエタノール溶液中でのア
ルドール縮合により製造される。沈澱する縮合生成物を
エタノールから再結晶する。このアジド化合物の吸収極
大波長（エタノ。−ル溶媒）は３５６ｎｍであった。ま
た元素分析の結果はつぎのとおりであった（示性式Ｃ＋
ａ ）（ｕ Ｎｓ ）。
ルドール縮合により製造される。沈澱する縮合生成物を
エタノールから再結晶する。このアジド化合物の吸収極
大波長（エタノ。−ル溶媒）は３５６ｎｍであった。ま
た元素分析の結果はつぎのとおりであった（示性式Ｃ＋
ａ ）（ｕ Ｎｓ ）。
理論値（％） 実測値（％）
０ ７８．４ ７７．７Ｈ４，５４
，５ Ｎ １７．１ １７．８実施例
２ ３式の化合物（１−４’−アジドベンジリデン−３−α
−ヒドロキシベンジルイ／テン）１重ＪＪ１部と、フェ
ノールとｍ−クレゾール共重合型ノボラック樹脂３重量
部を１５重量部のシクロヘキサノンに溶解し、レジスト
溶液を作製した。これを用いて、実施例１と同様の実験
を行なったところ、５秒の露光時間で、実施例１と同様
の結果を得た。
，５ Ｎ １７．１ １７．８実施例
２ ３式の化合物（１−４’−アジドベンジリデン−３−α
−ヒドロキシベンジルイ／テン）１重ＪＪ１部と、フェ
ノールとｍ−クレゾール共重合型ノボラック樹脂３重量
部を１５重量部のシクロヘキサノンに溶解し、レジスト
溶液を作製した。これを用いて、実施例１と同様の実験
を行なったところ、５秒の露光時間で、実施例１と同様
の結果を得た。
３式のアジド化合物は、４−アジドベンズアルデヒドを
過剰量のインデンとアルカリ性エタノール溶液中で縮合
させることによシ製造される。沈澱する縮合生成物をエ
タノールから再結晶する。
過剰量のインデンとアルカリ性エタノール溶液中で縮合
させることによシ製造される。沈澱する縮合生成物をエ
タノールから再結晶する。
このアジド化合物の吸収極大波長（エタノール溶媒）は
３５７ ｎｍであった。また元素分析の結果はりぎのと
おりであった（示性式Ｃ！ ｓ Ｈｔ ａ Ｎａ Ｏ）
。
３５７ ｎｍであった。また元素分析の結果はりぎのと
おりであった（示性式Ｃ！ ｓ Ｈｔ ａ Ｎａ Ｏ）
。
理論値ｃ％） 実測値Ｃ％）
Ｃ７０，４７０，７
Ｈ４，１４，３
Ｎ ２１．４ ２０．１０
４．１ ４．３実施例 ３ ３式の化合物１重量部と環化ポリイソプレンゴム１０重
量部を９０重量部のキシレンに溶解し、レジスト溶液を
作製した。このレジスト溶液をシリコンウェーハ上に回
転塗布し、乾燥して、約０．７μｍのレジスト膜を形成
した。つづいて、この基板を、９累ガスふんい気下で、
５００Ｗの超尚圧水銀灯を用いて、石英基板のクロムマ
スクを介して、３秒間露光した。露光基板をｎ−へブタ
ンとキシレンよりなる現像液で現像し未露光部の感光膜
を溶解除去したところ、２μｍ間隔に幅１μｍのパター
ンが形成された。
４．１ ４．３実施例 ３ ３式の化合物１重量部と環化ポリイソプレンゴム１０重
量部を９０重量部のキシレンに溶解し、レジスト溶液を
作製した。このレジスト溶液をシリコンウェーハ上に回
転塗布し、乾燥して、約０．７μｍのレジスト膜を形成
した。つづいて、この基板を、９累ガスふんい気下で、
５００Ｗの超尚圧水銀灯を用いて、石英基板のクロムマ
スクを介して、３秒間露光した。露光基板をｎ−へブタ
ンとキシレンよりなる現像液で現像し未露光部の感光膜
を溶解除去したところ、２μｍ間隔に幅１μｍのパター
ンが形成された。
実施例 ４〜６
実施例１の１式のアジド化合物の代シに２式。
４式、５式のアジド化合物をそれぞれ用いて同様の実験
を行なった。下記の露光時間でいずれも良好な微細パタ
ーンが得られた。
を行なった。下記の露光時間でいずれも良好な微細パタ
ーンが得られた。
２式（１−４’−アジドシンナミリデンインデン（２秒
））、 ４ 式（９−４’−アジドベンジリデンフルオレン（３
秒））、 ５式（９−４’−アジドシンナミリデンインデン（３秒
））。
））、 ４ 式（９−４’−アジドベンジリデンフルオレン（３
秒））、 ５式（９−４’−アジドシンナミリデンインデン（３秒
））。
なおこれらの化合物も、実施例１と同様な方法で原料物
質を変えて合成できた。またこの他の化金物も、前述の
如く該当するアジドベンズアルデヒドもしくはアジドシ
ンナムアルデヒドとインデン又はフルオレン系炭化水素
とから合成でき、ポリマーと組合せることによって糧々
の感光性組成物が得られた。これらの組成物は、感度に
多少の差があるほか、はとんど同じ結果が得られた。
質を変えて合成できた。またこの他の化金物も、前述の
如く該当するアジドベンズアルデヒドもしくはアジドシ
ンナムアルデヒドとインデン又はフルオレン系炭化水素
とから合成でき、ポリマーと組合せることによって糧々
の感光性組成物が得られた。これらの組成物は、感度に
多少の差があるほか、はとんど同じ結果が得られた。
代理人 弁理士 薄田利幸・
−＼
Claims (1)
- １、一般式（Ｄ、（ＩＩ）及び（［Ｄ：々る置換基を表
わす）で表わされる感光性アジド化合物からなる群から
選ばれた少なくとも一種の化合物と、該化合物により光
化学的に硬化、または溶剤に不溶化し得るポリマーとを
含むことを特徴とする感光性組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14609482A JPS5936245A (ja) | 1982-08-25 | 1982-08-25 | 感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14609482A JPS5936245A (ja) | 1982-08-25 | 1982-08-25 | 感光性組成物 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62266442A Division JPS63132235A (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | アジド化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5936245A true JPS5936245A (ja) | 1984-02-28 |
| JPH0151172B2 JPH0151172B2 (ja) | 1989-11-01 |
Family
ID=15399995
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14609482A Granted JPS5936245A (ja) | 1982-08-25 | 1982-08-25 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5936245A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5937540A (ja) * | 1982-08-26 | 1984-03-01 | Kimoto & Co Ltd | 感光性組成物及びその現像方法 |
| EP0334381A2 (en) * | 1988-03-23 | 1989-09-27 | Hitachi, Ltd. | Coating film comprising a negative-working photosensitive composition and pattern-formation method |
-
1982
- 1982-08-25 JP JP14609482A patent/JPS5936245A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5937540A (ja) * | 1982-08-26 | 1984-03-01 | Kimoto & Co Ltd | 感光性組成物及びその現像方法 |
| JPH0361938B2 (ja) * | 1982-08-26 | 1991-09-24 | Kimoto Kk | |
| EP0334381A2 (en) * | 1988-03-23 | 1989-09-27 | Hitachi, Ltd. | Coating film comprising a negative-working photosensitive composition and pattern-formation method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0151172B2 (ja) | 1989-11-01 |
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